【課題】耐化学性、絶縁性、平坦性、耐熱性、光透過率、接着性などの性能に優れ、塗膜硬化後基板の工程温度変化による収縮、膨張などの熱変形に対する亀裂抵抗性及び接着性に優れ、液晶表示素子の保護膜用絶縁材料に適した有機・無機複合体樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エチレン性不飽和基と芳香族炭化水素基を含むポリ脂肪族芳香族シルセスキオキサン；（ｂ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物と、１つ以上のアクリル系不飽和化合物とを共重合させて得られた、アクリル系共重合体；（ｃ）２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する単量体化合物；及び（ｄ）エポキシ基またはエチレン性不飽和結合を有するシリコン系化合物を含むことを特徴とする有機・無機複合体樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】例えば、画素電極およびその周辺部の夫々の表面からなる平坦面を簡便な工程で形成する。
【解決手段】シリコン酸化膜（８２）上からシリコン酸化膜（８２）を研磨する。この際、除去されなかったシリコン酸化膜（８２ａ）のうち画素電極（９ａ１）及び（９ａ２）間の電極間領域Ｒに残る残部（８２ｂ）の表面と、シリコン窒化膜（８１）のうち画素電極（９ａ１）上に延びる第１部分（８１ａ）の表面と、シリコン窒化膜（８１）のうち画素電極（９ａ２）上に延びる第２部分（８１ｂ）の表面とが揃うように、言い換えれば、後述する配向膜１６による液晶の配向規制力が少なくとも凹凸によって乱されないように、残部（８２ｂ）、並びに第１部分（８１ａ）及び第２部分（８１ｂ）の夫々の表面が揃えられる。 （もっと読む）

【課題】白の色度が良好で、コントラスト及び視野角特性が優れたＩＰＳモードないしＦ
ＦＳモード等の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置１０Ａは、一対の電極が形成されたアレイ基板ＡＲと
、複数色のカラーフィルタ層が形成されたカラーフィルタ基板ＣＦと、両基板間に挟持さ
れた液晶層とを有している液晶表示装置１０Ａにおいて、カラーフィルタ基板ＣＦは少な
くとも緑色を含む複数色のカラーフィルタ層を備え、アレイ基板ＡＲの一対の電極の少な
くとも一方には複数のスリット２５が形成され、複数のスリット２５の延在方向は、少な
くとも緑（Ｇ）のカラーフィルタ層に対応するサブ画素では二方向に分けられていると共
に、緑（Ｇ）以外の少なくとも１つの色のカラーフィルタ層に対応するサブ画素では一方
向となされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造工程を減らして生産性を向上させることができると共に開口度が大きくて明るい表示が可能なＦＦＳモード等の横方向電界方式の液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置の製造方法は、パッシベーション膜１７の表面にコンタクトホール２１ａの形成予定位置に開口が形成された平坦化膜１８を形成すると共に表示領域の周縁部の平坦化膜は除去し、次いで、フッ素系のエッチングガスを用いて露出しているパッシベーション膜１７を除去する工程を備える。この方法を採用することによって、従来例よりもコンタクトホール２１ａの開口サイズが小さくなると共に製造工程数を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】可視光及び非可視光を同時に好適に生成できる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置５は、表示パネル９と、表示パネル９を背面から照明するための可視光ＶＬ０を生成するバックライト１１と、バックライト１１の生成した可視光ＶＬ０の一部を非可視光ＩＬ１に変換して出射する変換部５１と、変換部５１から出射されて表示パネル９を背面側から透過し、表示パネル９の前方の被検出物により反射された非可視光ＩＬ１を検出可能な光電センサ４８とを有する。 （もっと読む）

【課題】平坦化構造のアッシングに対する耐性を高めつつ、レジスト層の露光精度についても可及的に高める。
【解決手段】基板１１上に形成した平坦化膜１５の表面に、バリア層１６を積層する工程と、バリア層１６の表面にレジスト層２０を形成する工程と、レジスト層２０を露光してレジスト層２０に開口部を形成することにより、マスクを形成する工程と、マスクの開口部を介して平坦化膜１５をエッチングする工程と、エッチングされた平坦化膜１５からマスクをアッシングにより除去する工程とを備え、バリア層１６は、下層反射防止膜により構成されている。 （もっと読む）

【課題】 ２層配線を有するアレイ基板において、第１配線層上に形成される層間絶縁膜に加わる歪み（ストレス）を解消するとともに段差の形成を抑制し、層間絶縁膜におけるクラックの発生や第２配線層のエッチング残りを抑制する。
【解決手段】 表示部と、その周囲に配される額縁部とを有するアレイ基板である。少なくとも第１配線層と、第１配線層上に層間絶縁膜を介して形成される第２配線層とを有する。第１配線層の側壁の傾斜角度θ１は第２配線層の側壁の傾斜角度θ２よりも小さい。第１配線層の側壁の傾斜角度θ１は６５°以下であり、第２配線層の側壁の傾斜角度θ２は７０°以上である。また、第１配線層の膜厚ｄ１は第２配線層の膜厚ｄ２よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】複数層の絶縁膜に形成される同軸のコンタクトホールが各絶縁膜の境界を含む内壁面において滑らかなすり鉢状（順テーパ状）として信頼性よく形成される表示装置の提供。
【解決手段】第１の絶縁膜および第２の絶縁膜はシリコン窒化膜で構成され、 前記第１の絶縁膜は、バルク層と、前記バルク層の下層に設けられ前記バルク層よりもエッチングレートの小さな初期層とを備え、 前記第２の絶縁膜は、バルク層と、前記バルク層の上層に設けられ前記バルク層よりもエッチングレートの大きな後退層とを備え、 前記第１の絶縁膜の前記バルク層と前記第２の絶縁膜の前記バルク層とが前記コンタクトホールにおいて接触しており、 前記第１の絶縁膜の前記バルク層の応力をσ１、前記第２の絶縁膜の前記バルク層の応力をσ２とした場合に、 −１５０ＭＰａ ≦ σ２−σ１ ≦ ５５０ＭＰａの関係が成立する。 （もっと読む）

【課題】平坦化層をポストベークしても表面に段差を発生させることなく、平坦化層からのイオンコンタミや、透明電極の膜付着が良好な液晶表示装置用カラーフィルタ基板及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板等からなる透光性基板１１上に、遮光パターン１１ａと、赤色パターン３１Ｒと緑色パターン３２Ｇと青色パターン３３Ｂとからなる着色パターン３０と、平坦化層４１と、無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物及び無機炭化物の群から選ばれる少なくとも１層の透光性無機膜５１と、透明電極６１と、を含む液晶表示装置用カラーフィルタ基板１００。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で液晶材料を転移させるとともに、開口率およびコントラストの高い
液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１絶縁基板１００と、第１絶縁基板１００上に配置される第１電極１３０
と、第１絶縁基板１００と第１電極１３０との間に第１電極１３９に対して絶縁下地層を
介して配置される第２電極１０８とを含む第１基板１０と、第２絶縁基板２００と、第２
絶縁基板２００上に配置される第３電極２３０とを含む第２基板２０と、第１電極１３０
と第３電極２３０との間に挟持され、初期化処理において第１状態から第２状態に相転移
される液晶層３０と、初期化処理において第１電極１３０と第２電極２３０とに第１電圧
を供給すると共に第３電極２３０に第１電圧と異なる第２電圧を供給する電圧供給部と、
を備え、第１電極１３０は、各電極１３０、２３０に供給される各電圧に基づき液晶層３
０に転移核を形成する転移核形成部１３１を備える液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】レジストを使用して半導体基板表面の平坦化プロセスにおいて、平坦化を目的とするためにはレジスト自体の流動性を高くする必要があるが、流動性を高くすると今度は塗布した時に流れてしまい十分な膜厚の平坦化膜ができない、という問題がある。一方、平坦性は悪いが流動性の高いレジストを使用して厚めの膜を塗った後で、加熱リフローにより平坦化を図ろうとすると、加熱リフローではリフロー性が不十分であり膜が十分平坦化されないという問題がある。本願は、レジストを用いて如何に効果的な平坦化膜を造るかを提供するものである。
【解決手段】塗布膜２１に有機溶剤を浸透させて発生する塗布膜２１の溶解リフローを用いれば、加熱処理が低温で済み、塗布膜２１の上層部のみを横方向へ大きく、制御性良く変形させることができるので、平坦性の良い有機絶縁膜１１を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ基板に有機パッシベーション膜を用いた液晶表示装置において、配向膜削り屑が端子部に入りこんで導通不良を引き起こす現象を対策する。
【解決手段】映像信号線１０７が端子部まで延在している。映像信号線１０７は端子部以外は無機パッシベーション膜１０８および有機パッシベーション膜１０９によって覆われている。端子部は導通をとるために有機パッシベーション膜１０９および無機パッシベーション膜１０８に端子部スルーホールが形成されている。端子部は映像信号線１０７を保護するためにＩＴＯ膜１２０によって覆われている。端子部スルーホールでの有機パッシベーション膜１０９のテーパ角θを３５度以下とし、かつ、端子部スルーホール周辺の有機パッシベーション膜１０９の厚さを３００ｎｍ〜６００ｎｍとすることによって配向膜の削り屑が端子部に入り込むことを防止し、導通不良を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】反射部と透過部の境界部分にスリットが形成された画素電極を備え、反射部の反
射効率が良好で明るく、しかも面押し強度が強いＶＡ方式の半透過型液晶表示装置を提供
すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置１０Ａは、マトリクス状に配置された走査線１２及び
信号線１３で囲まれたそれぞれの画素領域毎に反射部１９と透過部２０とが形成され、前
記反射部１９の画素電極１６ａと前記透過部２０の画素電極１６ｂとが連結部２５の画素
電極１６ｃによって接続されており、前記反射部１９の画素電極１６ａの下部には表面に
凹凸が形成された反射板２２が設けられているアレイ基板ＡＲと、カラーフィルタ基板Ｃ
Ｆと、を備え、前記反射部１９の画素電極１６ａと透過部２０の画素電極１６ａとの間に
位置する前記信号線１３に上に柱状スペーサ４０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたバリア性、液晶汚染性、耐薬品性を有するカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を提供する。また、前記の優れた保護膜特性を有するカラーフィルターを提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）および（Ｂ）成分を含有し、（Ａ）成分の有するヘミアセタールエステル基と（Ｂ）成分の有するエポキシ基またはオキセタニル基のモル当量比［（Ａ）／（Ｂ）］が２／１０〜５０／１０であることを特徴とするカラーフィルター保護膜用樹脂組成物。（Ａ）下記式（１）で表されるヘミアセタールエステル化合物。


（Ｒ^１は炭素数３〜３０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基であり、ｎは２〜８の整数、ｍは１〜４の整数であり、Ｒ^２は炭素数が１〜４のアルキレン基であり、Ｒ^３は水素原子またはメチル基である。）（Ｂ）１分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を２個以上有する化合物。 （もっと読む）

【課題】表面に凹凸形状を有する反射層上に平坦化層を形成することで、反射層上の電極の平坦性を向上させ、平坦化層上の電極と他方の電極との間に発生する電界をより均一にし、優れた表示品質を有する液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置１００は、第１の基板１０と、第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に位置する液晶層３０と、を備えた液晶表示装置１００であって、第１の基板１０は、所定の領域に配置され表面に凹凸形状を有する反射層１４と、反射層１４を覆うように形成された平坦化層１６と、平坦化層１６上に設けられた共通電極１７と画素電極１９と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低誘電性、接着力、耐熱性、絶縁性、平坦性および耐化学性などの性能に優れて液晶表示素子の画像形成用材料として適し、特に液晶表示素子のパッシベーション用有無機ハイブリッド絶縁膜形成の際に低誘電性、耐湿性、接着力および耐熱性に優れてパッシベーション用絶縁膜への使用に適した有無機ハイブリッド感光性樹脂組成物、およびその硬化体を用いた液晶表示素子の提供。
【解決手段】有無機ハイブリッド感光性樹脂組成物において、ａ）コロイド状無機物ゾル、ｂ）i）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物と、ii）少なくとも一つのアクリル系不飽和化合物とを共重合させて得られたアクリル系共重合体と、ｃ）光開始剤、ｄ）エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマーと、ｅ）エポキシ基またはアミン基を含むシリコン系化合物と、ｆ）溶媒とを含んでなる、有無機ハイブリッド感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】材料や形成されたパターンが異なる複数の層が積層された構造の半導体装置において、ＣＭＰ法による研磨処理やＳＯＧ膜成膜による平坦化処理を行わなくても平坦化でき、さらに基板材料を選ばず、簡便に平坦化を行う方法を提供することを課題とする
【解決手段】異なる層が複数積層されて形成された半導体装置において、絶縁膜に開口部を形成し、その開口部内に配線（電極）または半導体層を形成することにより、絶縁膜および配線（電極）または半導体層上に形成される絶縁膜に対してＣＭＰ法による研磨処理またはＳＯＧ膜の成膜による平坦化を行わなくても表面の平坦化を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネル内に傾斜部が存在する場合であっても、高いコントラスト比を実現することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板２１の表面に形成された凹部と、ＴＦＴ基板２１側の垂直配向膜２４１との間に、この凹部を平坦化するための平坦化部２８１，２８２を設ける。垂直配向膜２４１が平坦化され、液晶層２５の液晶分子２６の傾斜配向が回避される。これにより、傾斜部４７−１〜４７−４の付近において、液晶分子２６の黒表示時の光漏れが、従来と比べて低減する。 （もっと読む）

【課題】電極層の電気的抵抗を増大させることなく、ラビング不良の発生を抑制することのできるＦＦＳモードの液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０上には、薄膜トランジスタ３０の上層側が有機平坦化膜からなる層間絶縁膜６で覆われ、層間絶縁膜６の上層には、共通電極９ａがベタの電極層として形成されている。共通電極９ａの上層には電極間絶縁膜８が形成され、その上には、スリット状の間隙部７ｂを有する画素電極７ａが形成されている。ベタに形成された共通電極９ａと比較して、スリット状の間隙部７ｂが形成されている画素電極７ａは膜厚が薄いので、ラビング処理を好適に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、現像性、耐熱性に優れた液晶表示素子および固体撮像素子用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供する。
【解決手段】〔Ａ〕（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、および（ａ３）他の不飽和化合物からなる共重合体、〔Ｂ〕分子量が１８０以上のカルボキシル基を有する単官能重合性不飽和化合物、〔Ｃ〕多官能重合性不飽和化合物、ならびに〔Ｄ〕光重合開始剤、を含む感放射線性保護膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）