【課題】高透明性、かつ硬化膜において優れた表面硬度を有するポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）硬化剤、（ｄ）溶剤を含むポジ型感光性組成物であって、（ｃ）硬化剤が、一般式（１）または（２）で表される化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。


（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９は直接結合あるいは炭素数１〜１０のアルキレン鎖を表し、これらは同じでも異なっていてもよい。またＲ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２は水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを示し、それぞれが同じでも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】透過率が高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】複数の色材層が形成された第１基板と、前記第１基板に対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備えた液晶表示装置であって、前記第１基板は、前記色材層上に形成され、前記色材層毎に対応する前記液晶層の厚みを調整するギャップ調整層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度及び電気特性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）式（１）又は式（２）で表される酸発生剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷はアルキル基又は芳香族基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は芳香族基を表し、Ｘ^-はＢＹ₄^-、ＰＹ₆^-、ＡｓＹ₆^-、ＳｂＹ₆^-、又は、式（３）若しくは式（４）で表される一価のアニオンを表し、Ｙはハロゲン原子を表す。
（もっと読む）

【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性，耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基を有する化合物、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、並びに（Ｄ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（１）と、エポキシ基及びオキセタニル基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（２）と、を含有する共重合体、オキシムスルホネート基を有する特定構造の光酸発生剤、増感剤、及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、且つ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】樹脂（Ａ）及び感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、前記樹脂（Ａ）が、有機概念図に基づく無機性値（Ｉ）を有機性値（Ｏ）で除したＩ／Ｏ値が０．６以上０．８以下であり、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ、酸分解性基で保護された酸基、酸基、及び架橋性基を有する樹脂であるポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板上に着色層を有するＣＯＡ型液晶表示装置において、着色層上に形成するＩＴＯ画素電極のエッチングに際して、発生し易いＩＴＯのエッチング残渣を抑制する。
【解決手段】着色層２４を有する表示領域２５の周縁領域に着色層２４の延長上に遮光層２７を形成し、着色層２４及び遮光層２７を覆う保護膜２８を形成する。このとき、遮光層２７の周縁端部を覆う保護膜２８の断面形状は、遮光層の端部から延在し、さらに周縁部に向かうテーパ形状とする。これにより、保護膜２８上に形成する画素電極３０は保護膜２８の急峻性に起因するレジストのエッチング残渣及びＩＴＯのエッチング残渣の発生を抑制することとなる。 （もっと読む）

【課題】素子基板と対向基板との離間距離がばらつくことを防止することができるとともに、素子基板と対向基板との離間距離を狭くすることのできる液晶装置および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０において、周辺領域１０ｂの外側領域１０ｂ2については、内側領域１０ｂ1に比して周辺領域側第１スルーホール７２ｂの開口密度および第２スルーホール７３ｂの開口密度が高い。このため、層間絶縁膜７２、７３を研磨すると、外側領域１０ｂ2と内側領域１０ｂ1との間には、外側領域１０ｂ2における素子基板１０と対向基板２０との間隔を内側領域１０ｂ1における素子基板１０と対向基板２０との間隔よりも広くする段差７２ｘ、７３ｘが構成され、かかる段差７２ｘ、７３ｘより外側（外側領域１０ｂ2）にシール材１０７の内周縁１０７ａが位置する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、高精度で平坦化を行うこと
によって好適なラビング処理を行えるようにし、高品質な画像を表示可能な電気光学装置
を製造する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板（１０）上に、構造物（９ａ）を形成する
構造物形成工程と、構成物上に絶縁膜（１５）を形成する絶縁膜形成工程と、構造物に重
なる領域の少なくとも一部において絶縁膜の表面に凹部（１８）を形成する凹部形成工程
と、凹部形成工程の後に、絶縁膜の表面に平坦化処理を行う平坦化工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】高い感度を有し、高い透明性及び優れたＩＴＯスパッタ耐性を有する硬化膜が得られる感光性樹脂組成物、高い透明性及び優れたＩＴＯスパッタ耐性を有する硬化膜及びその製造方法、並びに、かかる硬化膜を層間絶縁膜として具備する有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸によりカルボキシ基又はフェノール性水酸基を生成する残基を有するモノマー単位（ａ１）、及び、末端にエチレン性不飽和結合を有する炭素数３〜１６の基を有するモノマー単位（ａ２）を含有し、重量平均分子量が１，０００より大きい重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶媒を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパー等の表示装置に適用した場合に、その消費電力を小さくでき、歩留まりを向上させることができるアクティブマトリクス型駆動基板及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】第１絶縁膜２を表面に有する導電基材１上に設けられた薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０と、薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０を第２絶縁膜１６，１７を介して覆う画素電極３０を有し、保持容量２０が第１電極２１と誘電体膜２２と薄膜トランジスタ１０のソース・ドレイン電極１４，１５に接続する第２電極２３との積層体であるアクティブマトリクス型駆動基板５０であって、導電基材１と第１電極２１とが第１絶縁膜２の開口部４で接続されているように構成する。第２絶縁膜（１６，１７）が少なくとも層間絶縁膜１７を有し、導電基材１が金属基材であり、第１絶縁膜２が金属基材１の表面粗さを低減する平坦化膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】安定した電気光学特性を有する電気光学装置を製造可能な電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置の製造方法は、基板上に画素回路と、画素回路を駆動制御する駆動回路とを形成するステップＳ１〜ステップＳ５と、画素回路および駆動回路を構成する構造物上に第１層間絶縁膜を形成するステップＳ６と、第１層間絶縁膜の高さが他の部分に比べて高い部分の第１層間絶縁膜の表面に少なくとも１つの凹部を形成するステップＳ７と、凹部が形成された第１層間絶縁膜に平坦化処理を施すステップＳ８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムに対してデバイス製造関連処理等を行う際の取り扱い性を向上させ、加熱を伴う処理後にガラスフィルムを各種デバイスに組み込む際等には、支持ガラスからガラスフィルムを容易に剥離させることを可能とし、且つ剥離後において粘着剤等がガラスフィルムに残存することを確実に防止できる、清浄なガラスフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】支持ガラス３の表面に、成膜後の表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下となるように無機薄膜４を形成する第１の工程と、前記無機薄膜４の表面に、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下のガラスフィルム２を接触させた状態で積層してガラスフィルム積層体１とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体１に対して加熱を伴う処理を行う第３の工程と、前記加熱を伴う処理後に前記ガラスフィルム２を前記支持ガラス３から剥離する第４の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】液晶分子のプレチルト角を良好に制御することで信頼性の高い表示品質を得ることができる液晶表示装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】一対の基板１５，２５間に負の誘電率異方性を有する液晶層３０を挟持する液晶表示装置１である。一対の基板１５，２５の各々は、基材部１１，２３と、基材部１１，２３の表面に形成され液晶層３０に接する配向膜１２，２２と、を含んでおり、基材部１１，２３における配向膜１２，２２が形成される面の表面粗さが４ｎｍ未満となっている。 （もっと読む）

【課題】共通電位の適正値からのずれを減らす。
【解決手段】本発明の液晶装置１００Ａは、第１の基板１０の液晶層５０側に設けられた第１の配向膜１６Ａと、第２の基板２０の液晶層５０側に設けられた第２の配向膜２２Ａと、を備える。第１の配向膜１６Ａは、第１の無機層１６１Ａの液晶層５０側に液晶層５０と当接して配置されて第１の無機層１６１Ａと柱状構造の方位角が異なる第２の無機層１６２Ａを有する。第２の配向膜２２Ａは、第３の無機層２２１Ａの液晶層５０側に液晶層５０と当接して配置されて第３の無機層２２１Ａと柱状構造の方位角が異なる第４の無機層２２２Ａを有する。第１の無機層１６１Ａの厚みに対する第２の無機層１６２Ａの厚みの比率が、第３の無機層２２１Ａの厚みに対する第４の無機層２２２Ａの厚みの比率と、異なっている。 （もっと読む）

【課題】反射層に起因する段差の解消、および増反射膜として適正な膜構成を有する誘電体多層膜の形成の双方を実現することのできる反射型の電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、第１基板１０の第１面１０ｘ側に複数の画素１００ａの各々に反射膜からなる画素電極９ａを形成した後、画素電極９ａの上層側に複数の画素１００ａに跨る誘電体多層膜１８を増反射膜として形成する。その後、誘電体多層膜１８の上層側に平坦化用絶縁膜１９を形成し、平坦化用絶縁膜１９を表面側から研磨する。このため、平坦化用絶縁膜１９の平坦な表面上に第１基板側配向膜１６を形成することができる。また、段差１５を平坦化用絶縁膜１９で埋める場合でも、画素電極９ａの上層側に平坦化用絶縁膜１９等が存在しない状態で誘電体多層膜１８を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】基板間の間隔が不均一になる可能性を低減できる表示装置用のマザー基板、および表示装置を提供する。
【解決手段】複数の表示領域と、隣り合う表示領域間に位置する非表示領域とを有した表示装置用のマザー基板であって、第１マザー基板と、第１マザー基板に対向して配置される第２マザー基板と、表示領域に対応する第１マザー基板と第２マザー基板との間に設けられた着色層６と、表示領域に対応する第１マザー基板と第２マザー基板との間に設けられており、かつ着色層６よりも非表示領域側に配置された遮光膜７と、非表示領域に対応する第１マザー基板と第２マザー基板との間に設けられたダミー層１８と、を備え、ダミー層１８は、遮光膜７と間隙を介して配置されている。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱透明性、表面硬度などの一般的要求特性を満たすと同時に、高温、高湿の厳しい条件下においても、ＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］水酸基を少なくとも１つ有するフェノール基を側鎖に有する繰り返し単位を含むポリマー、及び［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する架橋性アクリル樹脂、（Ｃ）高分子感光剤、並びに、（Ｄ）溶媒を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、並びに、前記感光性樹脂組成物を使用する硬化膜の形成方法、硬化膜、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。 （もっと読む）