【課題】
半導体装置のバンプと端子との接続抵抗の経時変化があっても、表示特性の劣化が極力抑制された電気光学装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】
基板２０を有する電気光学パネル４と、基板２０上に第１の方向（ｘ方向）に沿って配置された複数の入力端子４１と、各入力端子４１と導電性有機部材を介して電気的に接続する複数の入力用バンプが配置された半導体装置３とを具備する電気光学装置１であって、第１の方向における半導体装置３のほぼ中央部に位置する入力用バンプと接続する入力端子４１は、電源供給端子、電源供給コントロール端子、及びグランド端子の少なくとも１つである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、テレビ受像機や電子機器の表示部に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、液晶に混入された重合性成分（材料）を重合する際に、当該液晶に所望の電圧を印加でき、初期に形成される液晶分子のプレチルト角を制御して良好な表示特性の得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置１は、ＴＦＴ基板２に形成された、ゲートバスライン７ａ〜７ｄと、ゲートバスライン７ａ〜７ｄに絶縁膜を介して交差するドレインバスライン９ａ〜９ｄとを有している。ドレインバスライン９ａ〜９ｄ間には、重合用ＴＦＴ２９ａ、２９ｂ、２９ｃがそれぞれ形成されている。液晶４５に混入された重合性成分を重合する際に、重合用ＴＦＴ２９ａ、２９ｂ、２９ｃをオン状態にすることにより、ドレインバスライン９ａ〜９ｄ同士を導通することができる。 （もっと読む）

【課題】 光反射層を利用することにより、走査線あるいはデータ線としての第１の透明電極の電気的抵抗を実質的に低減可能な電気光学装置およびそれを用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置１において、第２透明基板２０には、光散乱用凹凸を形成する下地層２２、光反射層２３、３色のカラーフィルタ層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ、絶縁膜からなる層厚調整層２６、走査線２７、および配向膜２８がこの順に積層されている。これらの層のうち、光反射層２３は走査線２７と同様、帯状に形成され、画像表示領域３の外側で両端部が走査線２７に電気的に接続されている。従って、走査線２７の電気的抵抗を実質的に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】特異点の制御を充分に行うことができ、良好な表示品質を得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲートバスライン１４と、ゲートバスライン１４と交差するように配されたドレインバスライン１６と、両ライン１４、１６により囲まれた画素領域にそれぞれ形成された画素電極２０とを有するＴＦＴ基板１０と、画素電極２０に対向する対向電極６２を有するＣＦ基板１２と、両基板１０、１２間に封入された液晶層とを有する液晶表示装置において、画素電極２０は、複数の電極ユニット４０と、複数の電極ユニット４０を互いに電気的に接続する接続電極４４とを有し、ＣＦ基板１２のＴＦＴ基板１０に対向する面の電極ユニット４０上の領域には、接続電極４４が複数の電極ユニット４０を接続する方向に細長い配向制御用構造物６４が形成されている。 （もっと読む）

本発明は、基板及びポリアニオンとともにカチオン形態で存在する電子伝導性ポリチオフェン・ポリマーを含み透明導電性層を含む部材であって、前記導電性層が50以下のFOMを有する部材（ここで、FOMは、ln(1/T)対[1/SER]のプロットの勾配として定義され、そして、T＝可視光透過率、SER＝表面電気抵抗(オーム／□)、FOM＝性能示数であり、そして該SERの値は1000オーム／□以下である）を提供する。
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【課題】薄膜トランジスタの製造に使用されるマスクの数を減少させた液晶表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１基板及び第２基板を提供する段階と、第１基板上にソース領域、ドレイン領域、チャネル領域及びストレージ領域を含むアクティブ層を形成する段階と、第１絶縁膜を形成する段階と、ゲート電極、ゲートライン、画素電極及びストレージラインを形成する段階と、第２絶縁膜を形成する段階と、第１絶縁膜と第２絶縁膜を介してソース領域とドレイン領域の一部をそれぞれ露出させる第１、第２コンタクトホールを形成する段階と、第２絶縁膜を介して画素電極を露出させる画素ホールを形成する段階と、第１コンタクトホールを介してソース領域と電気的に接続されるソース電極、及び前記第２コンタクトホールを介してドレイン領域と電気的に接続されるドレイン電極を形成する段階と、第１基板と第２基板の間に液晶層を形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】 近距離で写しても鮮明に撮れるストロボ装置を提供する。
【解決手段】 光源の前部に高分子分散液晶を用いた液晶素子を配置する。液晶素子は、透明電極をそれぞれ設けた一対のガラスからなる基板を対向して配置して高分子分散液晶を封入したものからなり、一対の基板のいずれか一方の基板４１に、１〜５階調に分割した円電極４２ａと環状電極４２ｂ、４２ｃとからなるサークル電極４２を設け、各階調の電極にそれぞれ異なる電圧を印加する。光散乱による減光が生じて光の強さが弱まり、近距離でも鮮明な写真が撮れる。また、各階調毎に減光度合いが異なるので、距離差があっても全体的に鮮明な写真が得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射型や半透過型の液晶表示装置に用いられるアレイ基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法に関し、製造コストを削減しつつ良好な表示品質の得られるアレイ基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】不規則な凹凸を表面に有する下地層を基板上に形成し、下地層表面に倣った凹凸を有する金属膜５１を下地層上に形成し、金属膜５１上に着色レジスト層を形成し、着色レジスト層をパターニングして規則的に配列する着色レジストパターン５２を形成し、着色レジストパターン５２の欠陥を光学的に検出するための光学検査を行い、光学検査により検出された着色レジストパターン５２の欠陥を修復し、着色レジストパターン５２をマスクとして金属膜５１をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、横電界によって液晶を駆動する構成における高視野角特性を有したままで開口率を高くすることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、一対の基板４０、４１間に液晶層４２が配設され、前記一方の基板の対向面上に一つ以上の画素電極５４と前記画素電極と協働して液晶に前記基板面に沿った方向に電界を印加するコモン電極５３とが複数の画素領域５９を形成するように設けられるとともに、前記他方の基板の対向面上に前記各画素領域の表示領域に対応する開口７０を有し前記画素領域以外の非表示領域を覆う導電性のブラックマトリクス７１が設けられ、前記ブラックマトリクスがコモン電極と略同電位とされてなることを特徴とする。また、ブラックマスクの他に導電膜８１を設けてこれをコモン電極と略同電位とすることもできる。 （もっと読む）

フラットパネルディスプレイ（ＬＤＣ、ＥＬＤ、プラズマディスプレイ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ）、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した２層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はＡｌ_２Ｏ_３でドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、または酸化ガリウムでドープされたＺｎＯ（ＧＺＯ）、またはＡｌ_２Ｏ_３およびＧａ_２Ｏ_３の両方でドープされたＺｎＯ（ＡＧＺＯ）からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のＩＴＯ層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてＩＴＯ「アイランド」の形成を防止する。 （もっと読む）

【課題】 高い周波数が印加され、数ｃｍ〜数１０ｃｍの長さを有する配線の抵抗を低減し、伝送される信号波形のなまりを低減する。
【解決手段】 高周波が印加される配線１１１は、層間絶縁膜１０７を介して、配線１１１の線方向にそって複数設けられたコンタクトホールにより配線１０６と電気的に並列接続している配線構造を採用する。その配線構造を周辺回路一体型アクティブマトリクス型液晶表示装置の周辺回路に用いることで、高周波信号が印加される配線において信号波形のなまりを低減できる。 （もっと読む）