【課題】スイッチング素子と電極とを導電接続するための開口部において、電極が破断す
ることを防止する。
【解決手段】第１透光性基板７ａ上に設けられドレイン電極３６を備えたＴＦＴ素子２１
と、ドレイン電極３６から延在した接続用導電膜３６ｂと、基板７ａ上に設けられてＴＦ
Ｔ素子２１及び接続用導電膜３６ｂを覆う凹凸樹脂膜２３と、接続用導電膜３６ｂ上の凹
凸樹脂膜２３に開口されたコンタクトホール２７と、凹凸樹脂膜２３上に設けられコンタ
クトホール２７を介して接続用導電膜３６ｂに接続された画素電極２５と、基板７ａと凹
凸樹脂膜２３の間であってコンタクトホール２７に平面的に重なる位置に設けられた突部
材２８とを有する液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】半透過反射型の電気光学装置において、反射表示領域と透過表示領域との間でセルギャップを異ならせる構造を形成する際の工程を簡単にし、さらにセルギャップを異ならせる構造を形成したときに色づきが発生することを防止する。
【解決手段】一対の基板７ａ，８ａに液晶が挟持されてなり、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒを有するサブ画素Ｄを複数備える液晶表示装置であって、基板７ａのサブ画素Ｄの透過表示領域Ｔ及び反射表示領域Ｒに設けられてなる第１着色膜２２と、第１着色膜２２上の反射表示領域Ｒに設けられてなり、第１着色膜２２の色と異なる色の第２着色膜２３と、第２着色膜２３上に設けられてなる光反射膜２４とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置において、液晶は、第２着色膜２３を反映して、反射表示領域Ｒにおける厚さｔ０が透過表示領域Ｔにおける厚さｔ１よりも薄くなっている。 （もっと読む）

【課題】視野角特性による色変化の少ない色再現性に優れた液晶装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置１００は、一対の基板１０，２０間に負の誘電異方性を有する液晶からなる液晶層５０を挟持してなる垂直配向型の液晶装置であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板２０と液晶層５０との間には段差層３４が設けられており、該段差層３４によって透過表示領域内には相対的に液晶層厚の厚い第１領域Ｅ１と相対的に液晶層厚の薄い第２領域Ｅ２とが形成されており、前記一対の基板１０，２０の液晶層側には、前記液晶５１を駆動するための電極９，２１がそれぞれ設けられており、その少なくとも一方の基板１０側の電極９には、複数の島状部９１，９２と、隣接する前記島状部を互いに電気的に接続する連結部９ｃとが設けられており、前記電極９の連結部９ｃと前記段差層３４の境界領域とは平面的に重なるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】 TFTの層間絶縁膜の下層にあって膜厚が薄いポリシリコン膜からなるソース領域やドレイン領域に到達するコンタクトホールを開口する際に、ポリシリコン膜を突き抜けてしまうとコンタクトホール底部にポリシリコン膜が残存しないため、接続抵抗が増大してしまう。また、保持容量の下部電極がポリシリコン膜からなる場合、該膜を低抵抗化するために高ドーズのドーピングプロセスが必要であるため、生産性を著しく低下させていた。
【解決手段】 基板１上で島状に形成されたポリシリコン膜３におけるソース領域３ａおよびドレイン領域３ｂの少なくとも一部を覆う金属膜４を形成してから、ゲート絶縁膜５、ゲート電極６、層間絶縁膜７を形成し、金属膜４の上部にコンタクトホール８を開口する。さらに、金属膜４を形成する際に、保持容量の位置まで延在させることにより、金属膜４を保持容量の下部電極となす。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜のコンタクトホールを介した画素電極とドレイン電極とのコンタクト抵抗値が、安定的に１０Ｅ４Ω以下にすることができるＴＦＴアレイの製造方法および液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置用ＴＦＴの製造方法は、ＴＦＴを形成する工程と、前記透明絶縁性基板上に該ＴＦＴ領域に起因する段差部をなくすように表面が平坦化された層間絶縁膜を形成する工程と、該層間絶縁膜のドレイン電極の上部にコンタクトホールを設け、該コンタクトホールを介して下部のドレイン電極と電気的に接続されるように該層間絶縁膜上に画素電極を形成する工程と、前記層間絶縁膜にコンタクトホール部を形成したのち、該コンタクトホール部に露出した前記下部のドレイン電極の表面を含む基板表面を、コンタクト部表面を清浄化するために表面処理する工程を含んでなるものである。 （もっと読む）

【課題】駆動回路チップの個数を減らして表示装置の製造費用を節減し、表示装置の画質を向上させる。
【解決手段】行列形態に配列されており、画素電極１９１ａ，１９１ｂ，１９１ｃと当該画素電極に連結されているスイッチング素子Ｑａ，Ｑｂ，Ｑｃを各々含む複数の画素と、スイッチング素子に連結されており、行方向に延長されていて一の画素電極行に対応する第１及び第２ゲート線Ｇ１−１，Ｇ１−２と、スイッチング素子に連結されており、列方向に延長されていて３個の画素列に対応する第１及び第２データ線Ｄ１−１，Ｄ１−２と、を有し、３個の画素列を第１乃至第３画素列とする場合、画素電極のうちの第１及び第２画素列の画素電極はスイッチング素子を通じて第１データ線と連結されており、第３画素列の画素電極はスイッチング素子を通じて第２データ線と連結されている薄膜トランジスタ表示板を備える。 （もっと読む）

【課題】 消費電力を低減することができ、また高歩留まりに製造することができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る液晶装置は、互いに交差して延びる複数の走査線３ａ（第１配線）及び複数のデータ線６ａ（第２配線）と、前記走査線３ａとデータ線６ａとの各交差点に対応して配列された複数の島状電極とを備えており、前記複数の島状電極のうち一部の島状電極である画素電極９が、画像表示を行う有効表示領域１１０ａに属して表示画素１１１を構成する一方、他の複数の前記島状電極１１９が、前記有効表示領域１１０ａの周辺に位置するダミー領域（周辺領域）１１０ｂに属してダミー素子１１２を構成しており、前記ダミー領域１１０ｂに属する前記島状電極１１９が、前記走査線３ａ及びデータ線６ａと絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】 液状の導電性材料を充填・硬化することで膜パターンを上記基板上に形成するためのバンクが形成されている膜パターン形成用基板やそれを用いた基板の製造コストを抑える。
【解決手段】 本発明の膜パターン形成用基板は、少なくとも一つの膜部材がバンクを成している。例えば、ａ−Ｓｉ膜１３とｎ＋型ａ−Ｓｉ膜１５とがバンクを成している。そこへ液状の導電性材料を充填・硬化することで膜パターンを上記基板上に形成する。したがってバンク形成専用のプロセスや部材が不要になる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイパネルにおける画素欠陥を抑制することが可能な技術を提供する。
【解決手段】対向電極と液晶を挟んで対向配置された画素電極２には、複数の貫通孔２０が互いに離れて形成されている。これにより、画素電極２に異物が付着した場合には、画素電極２を部分的に除去して貫通孔２０間を連通させることによって、画素電極２において異物が付着している部分を当該画素電極２から切り離すことができる。従って、導電性の異物が画素電極２に付着した場合であっても、画素電極２の除去部分を低減しつつ、画素電極２と対向電極との電気的接続を回避できる。よって、画素電極２を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減でき、当該電極片が周囲に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】複雑な駆動回路が不要であり、応答特性が優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶パネル１００は、ＴＦＴ基板１１０と、対向基板１３０と、それらの間に封入された液晶からなる液晶層１４０とにより構成されている。１つの画素は、セルギャップが４μｍに設定された領域Ｉと、透明絶縁膜１３５が形成されてセルギャップが２μｍに設定された領域IIとに分割されている。領域Ｉでは電圧を印加すると液晶分子の配向が安定する直前に輝度が高くなる現象（オーバーシュート）が発生し、領域IIではオーバーシュートが発生しない。画素全体の応答特性では、これらの領域の応答特性を合成したものとなる。画素全体における輝度の最大値が、安定時の輝度の１１０％以下となるように、領域Ｉ，IIの面積比やセルギャップ等のパラメータを設定する。 （もっと読む）

【課題】 有機材料を半導体層に用いた半導体装置であって、当該半導体装置が適用される用途に拘らず、特にフレキシビリティが要求されるような用途においても好適に用いることができ、クラックや剥離等の不具合の生じ難い半導体装置を安価に提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置用基板は、基板上に、複数のデータ線と、前記複数のデータ線と交差する複数の走査線と、前記複数の交差に応じて形成される複数のトランジスタと、前記複数のトランジスタに応じて形成される複数の第１の封止層と、を有し、前記各トランジスタはそれぞれ有機半導体層からなるチャネル領域を有し、 前記各第１の封止層は前記各チャネル領域のいずれかひとつを覆うように形成され、前記各第１の封止層は無機材料からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】二重セルギャップの形成に有利で、反射電極及び透明電極を同時に蒸着する従来の液晶表示装置の製造方法による問題点を改善した、新たな構造のトランジスタアレイ基板の構造を提供すること。
【解決手段】本発明は、半透過型液晶表示装置で、既存の７〜８枚のマスク工程より単純な５枚のマスク工程によって、画素部の透過領域に位置し、ゲート電極と同一層に形成された透明電極を含む透過領域、及び凹凸が形成されている感光膜上に反射電極が形成された反射領域を形成することを特徴とする、半透過型トランジスタアレイ基板、その製造方法、及びこのトランジスタアレイ基板を利用した液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】リーク電流の少ない画素薄膜トランジスタを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素薄膜トランジスタと、前記画素薄膜トランジスタ上に形成された保護膜と、前記保護膜上に形成され、前記画素薄膜トランジスタに電気的に接続された画素電極と、を有し、前記画素薄膜トランジスタは、半導体膜、ゲイト電極、ソース電極、及びドレイン電極を有し、前記半導体膜はエッジを有し、前記ソース電極または前記ドレイン電極の一方と前記ソース電極または前記ドレイン電極の他方との間に、前記半導体膜のエッジが存在せず、前記ソース電極またはドレイン電極の一方は、分岐し弧状に延長する部分を有し、前記ソース電極またはドレイン電極の他方の一部は、前記ソース電極または前記ドレイン電極の一方の、分岐し弧状に延長する部分に囲まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大画面に適用しうる配線の構造、特に液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の画素ＴＦＴ、および、他の基板に設けた回路の配線と電気的に接続するための入力端子部における配線の構造について提案する。
【解決手段】液晶表示装置において、基板上に画素ＴＦＴと端子部を有し、前記画素ＴＦＴは、Ｃｒを含有する第１の層と、ＡｌおよびＮｄを含有する第２の層とを積層してなるゲート電極を有し、前記端子部には、前記ゲート電極と同一材料からなる配線と、前記配線に電気的に接続された透明導電膜が設けられ、前記透明導電膜は、異方性導電材を介して、前記基板とは異なる基板に設けられた回路に電気的に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パッド部が狭小化した場合においても、下層の配線との電気的接続を確保しつつ、検査用触手を用いた検査を行うことができるパッド部を備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】パッド部３は、配線３１と、配線３１に達するコンタクトホールＣ１が形成された絶縁膜３２と、コンタクトホールＣ１内および絶縁膜３２上に形成された導電膜３３とを有する。コンタクトホールＣ１は、パッド部３の領域内で複数に分割して形成されており、コンタクトホールＣ１の非形成領域における導電膜３３により、検査用触手が接触する接触部Ａｒを確保している。 （もっと読む）

【課題】本発明は表示素子に適用される液晶表示装置およびその方法に関し、特に工程を単純化し得る液晶表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置は、第１および第2基板と；前記第１基板上のゲートラインと；前記第１基板上のゲート絶縁膜と；前記ゲートラインと交叉して画素領域を限定するデータラインと；前記画素領域内の画素ホールと；前記画素領域内の前記画素ホールの前記ゲート絶縁膜上に透明導電層で形成された画素電極；およびゲート電極、ソース電極、ドレーン電極および半導体層を含む薄膜トランジスターを含み；前記半導体層は前記データライン、ソース電極およびドレーン電極を含むソースとドレーン金属パターンと重なり；前記ドレーン電極は前記半導体層から前記画素電極の上部側へ突出して前記画素電極と接続され；前記半導体層は前記半導体層が前記導電層に重なるところから除去されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特性が向上した薄膜トランジスタの製造方法、これを有する表示装置、及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１００は、基板１０５上にゲート電極１１０、ゲート絶縁膜１１５、半導体パターン１２２及び半導体パターン上に相互離隔する第１及び第２導電性接合パターン１２７ａ，１２７ｂ、第１バリヤーパターン１３１，１４１、ソース，ドレインパターン１３３，１４３、及び第１，第２キャッピングパターン１３５，１４５が形成されたソース，ドレイン電極１３０，１４０を含む。第１及び第２導電性接合パターン１２７ａ，１２７ｂが垂直なプロファイルを有するように形成する。 （もっと読む）

【課題】転移電圧を減少させて液晶分子の転移核形成を容易にし，電力消耗を減らして表示装置の応答速度及び階調表示能力を向上させることのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】単位画素領域Ａ毎に形成された薄膜トランジスタＴｒと，基板１００上に薄膜トランジスタＴｒを覆って形成された絶縁膜１３５と，絶縁膜１３５上に，薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極１３０ｂと接続されて，少なくとも薄膜トランジスタＴｒのゲート電極１１０上部の一部を覆うように形成された画素電極１４０と，画素電極１４０上に形成された液晶層１５５と，を具備し，画素電極１４０に段差ができて傾斜構造を有することにより，対面基板とのギャップが低減して転移電圧が減少し，液晶の配向角度が増加して転移核形成が容易になる。 （もっと読む）

【課題】 寄生容量の大きさの違いによる輝度不均一を防止できる液晶ディスプレイ装置の提供。
【解決手段】 第１基板、第２基板、及び第１基板と第２基板の間に介装された液晶層を包含する。第２基板はコモン電極線と交錯する第１導電線を包含し、交錯エリア外の第１導電線は第２基板と画素電極の間に位置し、並びに画素電極の第２基板における投影により被覆され、スイッチ素子が第１導電線と第２導電線にそれぞれ接続され、このほか、誘電層が画素電極と第２基板の間に介装され、並びに第１導電線、コモン電極線と第２導電線を被覆する。 （もっと読む）

【課題】 液晶分子の配向状態が安定して表示不良が軽減され、且つ広視野角で高コントラストの液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 液晶表示素子は、ＴＦＴ基板と、ＣＦ基板と、これらの基板間に封入された負の誘電異方性を有する液晶と、ＴＦＴ基板側に設けられた画素電極１０５と、この画素電極の周囲に形成された補助電極１０７とを備える。画素電極１０５には、画素中心部から画素周辺部に向かって形成され、１つの画素を複数のサブ画素領域に区分するスリット１０５ａが形成されている。補助電極１０７ｂは、画素電極１０５のスリット１０５ａに対応する位置に形成され、この補助電極と重畳するように透明段差膜１１６が形成される。各サブ画素領域の液晶は、画素電極１０５と補助電極１０７との間に印加される横電界と透明段差膜１１６の端部の形状とにより、それぞれのサブ画素領域の周辺からこれらのサブ画素領域の中心に向かって配向する。 （もっと読む）