【課題】表示に寄与する画素電極または共通電極の部分を大きくすることが可能な液晶表
示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、コンタクトホール１８ａの形状を反映した凹部
１９ａを含む画素電極１９と、画素電極１９に対向するように配置されるとともに、複数
のスリット２１ａおよび電極部２１ｂを有する共通電極２１と、画素電極１９と共通電極
２１との間に形成されるとともに、画素電極１９の凹部１９ａを埋めるように形成される
層間絶縁膜２０とを備え、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する
領域の表面上には、共通電極２１の電極部２１ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】非表示領域に形成したダミー画素電極に共通電位を印加した場合でも、共通電位
の変化がビデオ信号線などの駆動回路用高速信号線に影響を及ぼすことのない電気光学装
置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０の非表示領域１０ｂには、共通電極
２１と同電位が印加されたダミー画素電極９ｂと、ダミー画素電極９ｂに下層側で平面的
に重なるビデオ信号線７５とが形成されているが、ビデオ信号線７５とダミー画素電極９
ｂとの間には、グランド電位が印加されたシールド電極６ｃが介在している。このため、
画素電極９ａおよびダミー画素電極９ｂに印加される共通電位ＬＣＣＯＭの極性が反転す
るなど、共通電位ＬＣＣＯＭが変化するような場合でも、かかる共通電位ＬＣＣＯＭの変
化がビデオ信号線７５に影響を及ぼさない。 （もっと読む）

【課題】額縁が狭いＬＣＤでも、その表面に設けるタッチパネルの側縁部分によって画像表示に影響を与えない「狭額縁ＬＣＤ対応タッチパネル」とする。
【解決手段】タッチパネルを箱形に形成しすることにより表面と側面とを備えた箱形の立体形状に形成する。そのため固定基板を箱形に形成してその側面に電極、電極接続回路、電極リード回路等を、三次元回路成型法によって形成する。その可動電極の上にシール材を貼り、更にその上に固定電極と同様の形状をなし、内側面に電極を形成した可動電極を被せる。その際に可動電極の両電極及び固定電極の両電極はリード回路等により取り出し部に接続される。このような全体として箱形のタッチパネルを、狭額縁ＬＣＤに被せて固定することにより、タッチパネル付狭額縁ＬＣＤとなる。 （もっと読む）

【課題】横電界表示型の液晶パネルでは配向規制力が弱いため、リバースツイスト現象が出現し易い。
【解決手段】互いに一定の距離を挟んで対向配置される第１及び第２の基板と、前記第１及び第２の基板間に封止される液晶層と、配向膜と、前記第１の基板側に形成される対向電極パターンと、前記第１の基板側に複数本の電極枝によって形成される画素電極パターンであって、前記複数本の電極枝のうちコンタクトから延びる複数本の電極枝を横断的に連結する部分連結枝を前記コンタクトの近傍に形成した画素電極パターンとを有する液晶パネルを提案する。 （もっと読む）

【課題】開口率、透過率の改善が図られる電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提
供する。
【解決手段】電気光学装置２は、基板１２上に電極３４を有する電気光学装置であって、
基板１２上に設けられた絶縁膜７６と、絶縁膜７６上に設けられた線状部８０を有する下
地層７８と、少なくとも下地層７８の線状部８０の一部を覆うように設けられ、線状部８
０に沿った方向に延在する電極３４と、を含み、下地層７８は、絶縁膜７６より電極３４
の成膜時に電極３４の結晶の成長を促進させる。 （もっと読む）

【課題】横電界表示型の液晶パネルでは、リバースツイスト現象を自然に消失することができない。
【解決手段】互いに一定の距離を挟んで対向配置される第１及び第２の基板と、第１及び第２の基板間に封止される液晶層と、配向膜と、第１の基板側に形成される対向電極パターンと、前記第１の基板側に形成され、複数本の電極枝を有する画素電極パターンとを有する液晶パネルであって、複数本の電極枝間に形成されるスリットのうち両端部分に形成されるスリットの少なくとも一方の延設方向が、液晶の配向方向に対して７°以上の角度で交差するように形成されるものを提案する。 （もっと読む）

【課題】遮蔽膜とコモン線とを接続しないで良質な画像表示を行うことができるアクティブマトリクス型表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素ＴＦＴと、前記画素ＴＦＴに電気的に接続された画素電極と、遮蔽膜とが設けられた基板を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置であって、遮蔽膜はフローティングになっており、画素電極と前記遮蔽膜との間に第１の誘電体を有し、遮蔽膜と前記コモン線との間に第２の誘電体を有する。 （もっと読む）

【課題】表示装置の高精細化に伴い、画素数が増加し、ゲート線数、及び信号線数が増加する。ゲート線数、及び信号線数が増加すると、それらを駆動するための駆動回路を有するＩＣチップをボンディング等により実装することが困難となり、製造コストが増大するという問題がある。
【解決手段】同一基板上に画素部と、画素部を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路の少なくとも一部の回路を、上下をゲート電極で挟んだ酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで構成する。同一基板上に画素部及び駆動回路を設けることによって製造コストを低減する。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶装置等の電気光学装置において、高品質な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、単結晶シリコンからなる素子基板１０と、素子基板上に設けられた複数の反射型の画素電極９と、画素電極毎に設けられており、素子基板上に絶縁膜１２を介して配置されると共に多結晶シリコンからなる第１半導体層１ａを有する第１トランジスタ３０とを備え、これにより、チャネル領域に蓄積されるキャリアのライフタイムを短くすることができる。特に光の照射によって生じ易い、キャリアのライフタイムが長いことに起因するオフリーク電流の発生を低減或いは防止できる。 （もっと読む）

【課題】画像の読み取り精度を向上させる。
【解決手段】画像の表示及び画像の読み取りを行う画素を有し、画素は、光検出素子、着色層、及び表示素子を有し、光検出素子上に着色層を設け、着色層上に表示素子を設けた構造とする。光検出素子上に着色層を設けて光検出素子と着色層の間隔を短くすることにより、光が所望の着色層を介して所望の光検出素子に入射しやすくなるため、カラーの被読み取り物であっても正確に読み取ることができる。 （もっと読む）

【課題】マスキング材を個々に貼り付ける方式に比べ、生産性を落とすことなく、機能層の膜厚均一性を高めることができる電子デバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】片面に電極パターン１５が断続的又は連続的に設けられたフィルム状の支持体１４を巻き出す支持体巻き出し手段１２と、巻き出された支持体に対し、連続したマスキング材１８を電極パターンの取り出し部１５ａに連続的に貼り合わせるマスキング材貼り合わせ手段１６，２０ａ，２０ｂと、マスキング材が貼り合わされた支持体に対し、電極パターン上に機能層を形成するための液状材料を塗布して塗膜１７を形成する塗布手段２２と、支持体上の塗膜を乾燥させて機能層を形成する乾燥手段２６と、支持体からマスキング材を剥離するマスキング材剥離手段２５，３０，３２と、を備える電子デバイスの製造装置１０。 （もっと読む）

【課題】電気光学用基板の信号線の構成を適正化することにより、高速シリアル転送を採
用した場合の信号特性の向上やノイズの低減を図ることのできる電気光学パネル、電気光
学装置、および電子機器を提供することにある。
【解決手段】電気光学装置の素子基板１０上には、第１信号線１１ｅ〜１１ｈと、この第
１信号線１１ｅ〜１１ｈよりも広い幅寸法の第２信号線１１ａ〜１１ｄとが形成されてい
る。このため、幅寸法の広い第２信号線１１ａ〜１１ｄを高速シリアル転送に用い、幅寸
法の狭い第１信号線１１ｅ〜１１ｈについては、第２信号線１１ａ〜１１ｄに比して転送
速度が遅いシリアル転送用の信号線、あるいはパラレル転送用の信号線として用いる。 （もっと読む）

【課題】露光マスク数を削減することでフォトリソグラフィ工程を簡略化し、酸化物半導体を有する半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。エッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用いる。 （もっと読む）

【課題】駆動回路に対する静電気の影響を確実に防止すると共に、構造上の制約を受けない電気光学装置及びこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学物質を挟んで対向する一対の基板２１，２２を有し、一方の基板２２に他方の基板２１より外方に延在する延在部３０を形成した電気光学パネル２０を有する電気光学装置であって、
前記延在部３０に、前記電気光学パネル２０を駆動する駆動回路３１を配置し、該駆動回路３１に接続された回路基板３２を有し、前記回路基板３２には前記駆動回路３１に平面的に重ならない領域にグランド層３５を形成した。 （もっと読む）

【課題】検出用電極に発生するノイズの影響を簡易な構成のもとで抑制する。
【解決手段】第１基板１０と第２基板２０との間隙に液晶３０が封止される。第１基板１０を挟んで液晶３０とは反対側の表面には、静電容量の変化に応じて接触を検出するための検出用電極１６が形成される。画素回路Ｐは、画素電極２２と対向電極１４と両者間の液晶３０とを含む液晶容量ＣLと、第１電極ｅ1と画素電極２２に接続された第２電極ｅ2とを含む蓄積容量ＣSとを有する。画素電極２２と信号線４５とは、選択期間Ｈにて電気的に接続され、選択期間Ｈの経過後に絶縁される。正極性書込または負極性書込に対応した電位ＶDが選択期間Ｈにて信号線４５に供給される。正極性書込を実行した選択期間Ｈの経過後に第１電極ｅ1の電位は上昇し、負極性書込を実行した選択期間Ｈの経過後に第１電極ｅ1の電位は低下する。 （もっと読む）

【課題】表示装置の高精細化に伴い、画素数が増加し、ゲート線数、及び信号線数が増加する。ゲート線数、及び信号線数が増加すると、それらを駆動するための駆動回路を有するＩＣチップをボンディング等により実装することが困難となり、製造コストが増大するという問題がある。
【解決手段】同一基板上に画素部と、画素部を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路の少なくとも一部の回路を、酸化物半導体を用い、かつゲート電極層と重なるチャネル形成領域となる酸化物半導体層上にチャネル保護層が設けられた逆スタガ型薄膜トランジスタで構成する。同一基板上に画素部に加え、駆動回路を設けることによって製造コストを低減する。 （もっと読む）

【課題】明るさの改善（向上）や駆動電圧の改善（低駆動電圧）が可能な液晶表示装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶表示装置２は、液晶層ＬＣを挟持する第１及び第２基板ＡＲ，ＣＦと、第１基板ＡＲの液晶層ＬＣ側に形成されている第１電極１０と、第１電極１０より液晶層ＬＣ側に絶縁膜４２を介して形成され、第１電極１０と平面的に重なる領域に複数の線状部４８ａを有する第２電極４８と、を備えて複数のサブ画素領域を構成する液晶表示装置であって、第２基板ＣＦの液晶層ＬＣ側には、複数の線状部６０ａを有する第３電極６０が形成されており、第３電極６０の各線状部６０ａは、第２電極４８の各線状部４８ａと平面的に重なり合わずに、且つ、第２電極４８の各線状部４８ａと沿って形成された部分を有し、第２電極４８は、第３電極６０との間、及び第１電極１０との間でそれぞれ電界を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】露光マージンを向上させ、明るさの改善（向上）や駆動電圧の改善（低駆動電圧）が可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置２は、線状部１０ａを有する第１電極と、第１電極に隣り合って形成される線状部４８ａを有する第２電極と、第１電極及び第２電極を覆って設けられた絶縁膜４２と、線状部１０ａと重なる部分を有して線状部１０ａに沿った方向に延在した線状部７０ａを有する第３電極と、第３電極に隣り合った位置に、線状部４８ａと重なる部分を有して線状部４８ａに沿った方向に延在した線状部７２ａを有する第４電極７２と、を備えており、第１電極には、第２電極及び第３電極と異なる電圧が印加され、第１電極及び第２電極は、線状部の少なくとも１つの側端部において、線状部の幅方向に部分的に切り欠かれて凹凸形状を構成している。 （もっと読む）

【課題】動作特性に優れ低温で製造可能な酸化物半導体を用いた表示装置の特性を活かすには、適切な構成を備えた保護回路等が必要となる。
【解決手段】ゲート電極１５を被覆するゲート絶縁層３７と、ゲート絶縁層３７上においてゲート電極１５と端部が重畳し、導電層４１と第２酸化物半導体層４０が積層された一対の第１配線層３８及び第２配線層３９と、少なくともゲート電極１５と重畳しゲート絶縁層３７及び該第１配線層３８及び該第２配線層３９における導電層４１の側面部と第２酸化物半導体層４０の側面部及び上面部と接する第１酸化物半導体層３６とを有する非線形素子３０ａを用いて保護回路を構成する。
ゲート絶縁層３７上において物性の異なる酸化物半導体層同士の接合を形成することで、ショットキー接合に比べて安定動作をさせることが可能となり、接合リークを低減し、非線形素子３０ａの特性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】画像の書き込み時における画像の白とびを防止すると共に、画像の書き込み時以外の画像を視認する場合に、容易に画像を視認する。
【解決手段】光書き込み型画像表示媒体１の光導電体層１０に、光導電体層１０側から書き込み光を照射することにより、表示層７に画像を書き込む書き込み手段としての照射部３２と、表示層７から反射された反射光及び表示層７に入射される入射光の光量を調整するように設けられた光量調整手段としてのプラテンカバー１６と、画像を書き込む際には表示層７に入射される入射光の光量が予め定められた光量Ｑ以下となり、書き込まれた画像を視認する場合には表示層７から反射された反射光により表示層７の画像が視認可能な光量となるように、光量調整手段としてのプラテンカバー１６を制御する制御手段としての制御部３０を備える。 （もっと読む）