【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】裏面洗浄の際に洗浄液が基板裏面に付着するのを抑制して洗浄効率の向上を図れるようにすると共に、装置の小型化を図れるようにする。
【解決手段】基板Ｇを水平状態に保持する基板保持部１０、基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部２０、基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部５０とを具備する基板洗浄装置において、基板保持部は、基板を支持する支持部材１４を立設する環状部材１３と、回転駆動部に連結される中空回転軸１１の頂部に設けられるボス部１２と、ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポーク１６と、を具備する。洗浄液供給部は、洗浄液供給源５３に接続され、中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸５１と、洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液をスポークの中空部１６ａに案内すべくボス部に設けられる連通流路５４と、スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズル５５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板洗浄方法および基板洗浄装置において、高いスループットを得られ、しかもパーティクル等を効果的に除去することのできる技術を提供する。
【解決手段】基板の上面に液膜を形成し（ステップＳ１０１）、凍結ガスとして例えば低温の窒素ガスを吐出する凍結用ノズルをスキャンして液膜を凍結させた後（ステップＳ１０２，Ｓ１０３）、凍結ガスよりも冷却能力の高い流体、例えば凍結ガスよりさらに低温の窒素ガスを吐出する冷却用ノズルをスキャンして凍結した液膜をさらに低温まで冷却する（ステップＳ１０４，Ｓ１０５）。その後、リンス処理により凍結膜とともにパーティクルを除去し（ステップＳ１０７）、基板を乾燥させる（ステップＳ１０８）。 （もっと読む）

【課題】基板を均一に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを非回転状態で保持する基板保持手段と、ノズル４と、処理液供給手段と、制御手段とを含む。ノズル４は、基板保持手段に保持された基板Ｗの主面の中央部に向けて流体を吐出する中央吐出口１１、主面の中央部を取り囲む環状の中間領域Ｔ１に向けて外向きに流体を吐出する中間吐出口１２、および中間領域Ｔ１を取り囲む環状の周縁領域Ｔ２に向けて外向きに流体を吐出する周縁吐出口１３を有する。処理液供給手段は、中央吐出口１１、中間吐出口１２、および周縁吐出口１３に個別に処理液を供給する。制御手段は、処理液供給手段を制御して、中央吐出口１１、中間吐出口１２、周縁吐出口１３の順番で処理液を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いる基板、例えばフォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、あるいはそれらの製造中間体等を洗浄した場合に、異物の発生を極めて少なくすることができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、超純水により基板を洗浄する際に超純水を噴出するための超純水噴出ノズルと、該超純水噴出ノズルから超純水を噴出して基板の洗浄を行う基板洗浄室とを有する、基板の洗浄を行うための洗浄装置であって、少なくとも、超純水による基板の洗浄の前後の待機中に前記超純水噴出ノズルを待機させるための、前記基板洗浄室とは隔壁により仕切られた超純水噴出ノズル待機室を有し、該待機室は、排水機構と前記超純水噴出ノズル待機室から前記基板洗浄室へのミスト拡散防止機構を具備するものであることを特徴とする基板の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を回転可能に保持する回転保持機構と、基板に処理液を吐出する吐出口を有する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズルを平面視で基板Ｗの略中心と周縁との間で移動する洗浄液ノズル用移動機構と、回転保持機構と洗浄液ノズル用移動機構を制御して、基板を回転させ、かつ、処理液供給部を移動させて、処理液供給部から吐出された処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させる制御部と、を備えている。そして、処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させることで、基板Ｗの全面にわたって均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンが形成された基板に対しても適切に洗浄することができる基板処理装置、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、単一の基板Ｗを水平姿勢で保持する保持部１１と、微細気泡を含んだ気泡含有洗浄液を基板に供給する洗浄液ノズル１５と、洗浄液ノズル１５によって基板Ｗに気泡含有洗浄液を供給させて基板を洗浄する制御部１９と、を備える。気泡含有洗浄液によれば、基板面に与える衝撃を抑制しつつ、微細気泡の表面張力によって基板Ｗ上のゴミ、塵埃、その他の異物を除去することができる。したがって、基板Ｗに形成されたパターンを破壊することなく、基板を好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】
ガラス基板の洗浄で用いた洗浄液がガラス基板表面に付着残留して生成される液滴を、狭い空間内で乾燥除去する
【解決手段】
ガラス基板の乾燥装置１０では、ガラス基板１を保持具２ａ、２ｂが垂直に保持する。保持具２ａはガラス基板の上端部に、保持具２ｂは下端部に配置され、搬送と保持を兼用する。ガラス基板の周囲部には、乾燥手段１２が配置されており、少なくとも上下動及び水平動のいずれかがが可能である。乾燥手段はノズル３を有し、親水性の有機溶剤であるイソプロピルアルコールを含むガス流を噴射可能である。 （もっと読む）

【課題】比較的高温でも保存安定性が良好なアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれを含む硬質表面用洗浄剤、それを用いて行われる硬質表面の洗浄方法並びに基板の製造方法、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法等を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、２５℃におけるｐＨが９以上である、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクに付着する異物は現像残りであるフォトレジストである。この残留した異物は薬液や純水と空気を混合した２流体気液のいずれか単独では容易に除去できない。また、２流体気液を用いる場合はミスト飛沫が生じやすく、これがフォトマスクに再付着すると容易に除去できなかった。
【解決手段】低速で回転するテーブル３にフォトマスク１を載置し、薬液を噴射する工程を行い、次に２流体気液を噴射する工程を実施することでフォトマスク１を洗浄する。その後、回転テーブル３を高速で回転させながら乾燥工程を行う。 （もっと読む）

【課題】処理対象へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、およびそれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、下端が開放した断面櫛状のノズル本体１６を含む。ノズル本体１６の内部には、複数のＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０が形成されており、各ＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０は、ノズル本体１６の下端で、それぞれ二流体ノズル３の長手方向Ｘ１に延びるスリット状のＤＩＷ吐出口２１および窒素ガス吐出口２２として開口している。ＤＩＷ吐出口２１および窒素ガス吐出口２２は、それぞれ平行となるように短手方向Ｙ１に交互に並んで配置されている。ＤＩＷ吐出口２１から吐出されたＤＩＷは、窒素ガスと混合されて液滴となり、長手方向Ｘ１および短手方向Ｙ１に広がる帯状の液滴群となってウエハＷの表面に供給される。 （もっと読む）

【課題】酸、特に硫酸の使用を回避し、そして該プロセス時に適した非イオン性洗浄剤を利用したマスクブランクを洗浄する有効なプロセスを提供すること。
【解決手段】以下のプロセス工程、すなわち、ａ）ＵＶ−処理工程、ｂ）フルジェット洗浄工程、ｃ）メガソニック洗浄工程、ｄ）ＤＩ水リンス工程、及び必要なら基板を乾燥する工程を含む基板を洗浄するための方法。 （もっと読む）

【課題】 噴射用ガスの使用量を減らすと共に、被洗浄物に噴射する液滴の径を均一にできるようにする。
【解決手段】 ガスと液体とを混合させて液滴を発生させる２流体ノズル１を用いた洗浄装置において、前記液体に超音波振動を加える構成とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、フォトマスクの端面のレジストを効率良く洗浄するためのマスク端面のブラシ式洗浄装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、上記の課題を解決するために、回転軸によりファイバーを回転させてマスクの端面からレジストを除去する円柱状のブラシと、前記マスクの表面に被せ、中心に空けた純水供給口に表面側からホースにより純水を供給し、裏面の前端及び後端に設けたサイドフィン及び前記サイドフィンの間に左右に複数設けた流れ調整フィンにより純水の流れを調整しつつ、前記マスクの表面との間に純水を保持して前記マスクの表面をオゾン水から保護する板状のカバーと、前記マスクの上方に管を通し、前記管の穴から前記マスクの端面とブラシとの間に高濃度のオゾン水を噴射するオゾン水噴射口とからなることを特徴とするマスク端面のブラシ式洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

如何なるレジスト種を用いた場合であっても、基板周縁部のレジスト膜を除去した後の盛り上がりを抑えられ、かつレジスト残滓のないマスクブランクスを得る。 マスクブランクス製造工程中の、所定の遮光膜１２上にレジスト膜１３が形成された基板１０から不要なレジスト膜を除去する不要膜除去工程において、レジスト膜１３が形成された側の基板表面をカバー部材３０で覆い、まず、基板１０を所定の回転数Ｒ１で回転させながら、薬液５０にて不要なレジスト膜を溶解し、次に、所定の回転数Ｒ２で回転させて溶解した不要なレジスト膜を除去し、さらに、所定の回転数Ｒ３で回転させてレジストが除去された領域を乾燥させる際、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の条件を（Ｉ）Ｒ１＝１００〜５００ｒｐｍ、（ＩＩ）Ｒ２≧３００ｒｐｍ、（ＩＩＩ）Ｒ１＜Ｒ２≦Ｒ３とする。
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【課題】 ダメージを抑制しつつ基板に流体を供給することのできる流体吐出ノズルを提供する。また、この流体吐出ノズルを用いて基板への汚染物の再付着を抑制することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 気体流入口２と液体流入口３から流入された気体および液体は、混合部４で混合された後、導出路５の端部に設けられた噴射口６から半導体ウェハ７に向かって噴射される。噴射口６から導出路５の長手方向には湾曲部８が延設されていて、湾曲部８は、導出路５の中心軸１２から離れる方向に徐々に湾曲した形状を有する。導出路５は、長手方向に矩形状の断面を有するものとすることができる。 （もっと読む）