【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、多数枚現像処理しても現像カスの発生が効果的に抑制され、且つ、経時した平版印刷版原版を用いても安定に現像できる平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、及び、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂を含有する下層と、（Ｃ）水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂、及び（Ｄ）フェノール樹脂を含有する上層と、を順次有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するｐＨ８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、耐光性の高い着色硬化膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と金属原子又は金属化合物とを含む錯体、（Ａ−２）フタロシアニン系顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を少なくとも含む着色硬化性組成物。〔一般式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Ｒ^７は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。〕。
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【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】赤外線吸収剤、アルカリ可溶性樹脂及びアクリロニトリルに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを少なくとも含む共重合体を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、を順次有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するｐＨ８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】ｐＨが５〜８の現像液を用いて現像可能な平版印刷版の製造方法において、非画像部の溶出性と画像部の耐刷性を両立することが可能なネガ型平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム支持体の陽極酸化処理後、燐酸エステル化された多糖類を含む処理液で親水化処理を施し、その後に、少なくとも光ラジカル発生剤、可視光から赤外光の波長領域に吸収を有し前記光ラジカル発生剤を増感させる増感剤及びエチレン性二重結合を有する化合物を含有する感光層を設けることを特徴とするネガ型平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

感光性印刷ブランクからレリーフ像印刷要素を作製する方法を提供する。少なくとも１つの光硬化性層上に配置されたレーザアブレーション可能な層を有する感光性印刷ブランクをレーザアブレーションして、その場マスクを作製する。次いで、その場マスクを通して少なくとも１つの化学線源に前記印刷ブランクを曝露して、光硬化性層の一部を選択的に架橋し、硬化させる。曝露工程中の少なくとも１つの光硬化性層への空気の拡散を制限し、曝露工程中に、少なくとも１つの化学線源の照明の種類、出力、及び入射角のうちの少なくとも１つを変化させることが好ましい。得られたレリーフ像は、複数のドットを含み、段ボールに印刷するために印刷フルーティングに対する耐性の高いドット形状の複数のドットが生成される。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度、耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）下記式（１）で表される酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ハロゲン原子、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表し、隣接するＲ₁〜Ｒ₅が互いに連結して環を形成してもよく、Ｘ^-は共役塩基を表す。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、（Ａ）熱不安定基で保護されたカルボキシル基を有するフラーレン誘導体と、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単層レジストプロセス、多層レジストプロセス、サイドウォールスペーサー法用等のレジスト膜の下層のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、現像後のレジストパターンの裾引きが抑制され、また、アンダーカット形状や逆テーパー形状を抑制し、パターン倒れがないレジスト下層膜材料、及びこれを用いてリソグラフィーにより基板にパターンを形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有し、光及び／又は熱によってスルホン酸を発生する高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化１】
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【課題】高耐刷で、しかも汚れ性に優れ、機上現像カスの少ない機上現像型の平版印刷版原版及び製版方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、（a）赤外線吸収剤、（ｂ）ラジカル重合開始剤、（ｃ）ポリマー微粒子及び（ｄ）ラジカル重合性ウレタンオリゴマーを含有し、印刷機のシリンダー上で湿し水及び印刷インキにより未露光部が除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記（ｄ）ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが重合性基、並びにスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、質量平均モル質量（Ｍｗ）が１５００〜１００００であり、かつポリマー微粒子外に存在することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用して、大量処理した場合であっても現像カスの発生が抑制され、且つ、経時した平版印刷版原版を用いても安定に現像できる平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ−１）アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び（Ｂ−２）フェノール樹脂を含有する下層と、（Ｃ）水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂を含有する上層と、を順次有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するｐＨ８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー露光による画像記録が可能であり、良好な機上現像性を有し、かつ汚れ性に優れ、更に従来のラジカル重合を用いた場合と比較して非常に優れた耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物、（Ｂ）赤外線吸収剤、（Ｃ）重合開始剤および（Ｄ）エチレン性不飽和重合性化合物を含有し、印刷インキ及び／又は湿し水により除去できる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】彫刻時に発生する版上のカスを容易に除去可能であり、レリーフ印刷版への影響が小さいレリーフ印刷版製版用リンス液を用いたレリーフ印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】非エラストマーのバインダーポリマー、可塑剤、及び光熱変換剤を含有するレリーフ形成層を支持体上に有するレリーフ印刷版原版を準備する工程、前記レリーフ印刷版原版を、レーザーを用いた露光により彫刻する工程、並びに、彫刻により発生した彫刻カスをレリーフ印刷版製版用リンス液で除去する工程、をこの順で有し、前記レリーフ印刷版製版用リンス液が、ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とするレリーフ印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】耐汚れ性が良好で、長期保存しても耐汚れ性が低下せず、耐刷性、ＵＶインキ耐刷性、耐薬品性に優れた、中性域に近い現像液での現像処理や、機上現像が可能な平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、ＣｌｏｇＰ値が−０．１４以下で、かつ炭素−炭素不飽和二重結合を共有結合を介して側鎖に有するモノマーに由来する繰り返し単位を有する共重合体を含有する中間層と、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーポリマーを含有する画像形成層とをこの順に有する平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板の段差埋め込み性に優れ、耐溶媒性を有し、基板のエッチング中によれの発生がないだけでなく、エッチング後のパターンラフネスが良好なレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜形成方法、パターン形成方法。
【解決手段】少なくとも、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物の酸触媒縮合樹脂（Ａ）、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物（Ｂ）、フラーレン化合物（Ｃ）及び有機溶剤を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】着肉性に優れ、耐傷性、機上現像性および細線再現性も良好な機上現像型の平版印刷版原版および平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層および分子中にカルボキシル基および／またはスルホン酸基を有するポリビニルアルコールを含有する保護層を有する平版印刷版原版、および機上現像を含む平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】保護層を有する平版印刷版原版の非アルカリ現像処理において、保護層成分が現像液に混入しても、画像記録層の現像除去性低下や現像カスの発生が抑制できる平版印刷版の作製方法を提供すること。および、着肉性に優れ、耐傷性、機上現像性および細線再現性も良好な機上現像型の平版印刷版原版および平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体、画像記録層および保護層を有する平版印刷版原版を、画像様露光後、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、自動処理機の擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の画像記録層を除去する平版印刷版の作製方法。ならびに、支持体上に、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層および分子中にカルボキシル基および／またはスルホン酸基を有するポリビニルアルコールを含有する保護層を有する平版印刷版原版、および機上現像を含む平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】異なる酸化度の酸化銅が混在している状態において、一方のみを選択的に溶解させることのできる酸化銅用エッチング液及びそれを用いた酸化銅用エッチング方法を提供すること。
【解決手段】本発明の酸化銅用エッチング液は、キレート剤と酸化剤と界面活性剤とを少なくとも含み、該キレート剤が、α，ω−ジアミン酢酸、α，ω−ジアミンコハク酸、α，ω−ジアミンプロピオン酸、１，２−ジアミノプロパン四酢酸、クエン酸、イソクエン酸、フマル酸、アジピン酸、コハク酸、グルタミン酸、リンゴ酸、酒石酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも一種を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに対する膨潤作用が小さく、かつ、含まれる成分の析出が抑制されたフォトリソグラフィ用現像液を提供すること。
【解決手段】本発明は、（Ａ）水酸化テトラブチルアンモニウムと、（Ｂ）下記一般式（１）で表される塩基性化合物と、を含むフォトリソグラフィ用現像液である。
（下記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、分枝を有してもよいアルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^４にそれぞれ含まれる炭素原子の数の和は、４〜１５である。）
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【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、（ｂ）アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、（ｃ）回路パターンの露光工程、（ｄ）現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、ｐＨが９未満の中性現像液、もしくはｐＨが９〜１２の範囲であるアルカリ現像液を用いて現像を行っても地汚れの発生のない、また、現像処理後あるいは印刷中に長時間放置されても地汚れの発生のない、耐刷性およびインキ着肉性に優れた感光性平版印刷版材料を与える。
【解決手段】光硬化性感光層が、少なくとも下記一般式Ｉで示される化合物を用いて合成され、かつ側鎖に重合性二重結合基および、カルボキシル基およびスルホン酸塩基の少なくとも一つを有するポリマーを含有する感光性平版印刷版材料。
【化１】


（一般式Ｉにおいて、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は各々独立しては炭素数１〜１０のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。但し、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３のうち少なくとも２つはアルコキシ基を表す。Ｙ_１は炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。） （もっと読む）