本発明は、感光性要素から作製される凸版印刷フォームを用いて、基板上に材料を印刷するための方法を提供する。本方法は、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを感光性要素上に形成する工程と、不活性ガスおよび１９０，０００〜１００ｐｐｍの濃度の酸素を有する環境において、ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを通して上記要素を化学線に露光する工程と、露光された要素を処理して、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程とを含む。印刷は、画像形成材料を複数の浮出し面に塗布し、画像形成材料を基板に転写するように接触させることによって行われる。本方法は、高解像度のグラフィック画像の印刷、ならびに基板上に画像形成材料の均一層を形成するのに適している。
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【課題】本発明は、感光性要素から作られる凸版印刷組版で、段ボール板紙などの基板上にインクのパターンを印刷する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、感光性要素用のその場マスクを形成するステップと、この要素をその場マスクを介して不活性ガスと１９０，０００ｐｐｍと１００ｐｐｍとの間の酸素濃度を有する環境内で化学放射線に露出させるステップと、印刷領域のパターンを有する凸版印刷組版を形成するように、露出された要素を処理するステップとを含む。印刷は、印刷機に凸版印刷組版を固定し、印刷組版の印刷領域にインクを塗布し、かつインクのパターンを基板上に転写するために、この印刷領域からのインクを基板に接触させることによって実施される。 （もっと読む）

【課題】短波光の波長３５０〜４５０ｎｍ、低エネルギーによる画像露光タイプの光重合型の感光性平版印刷版材料を用いるにもかかわらず、低ｐＨでの現像処理でも高感度で、非画像部の地汚れ耐性、スラッジ発生耐性、に優れた、平板印刷版作成方法、および感光性平版印刷版材料の処理方法を提供する。また、機上現像印刷でも高感度で、耐刷性、白色光安全性、に優れた平板印刷版作成方法（更には平版印刷方法）を提供する。
【解決手段】支持体上に、３５０〜４５０ｎｍに吸収極大をもつ分光増感剤、重合開始剤、共開始剤、重合性モノマー、及び高分子結合材を含有する感光層を最外層として有する感光性平版印刷版材料を、露光時の該感光性平版印刷版材料の版面の温度５０℃〜１３０℃の範囲でレーザー光源により画像情報を露光する工程を有することを特徴とする平板印刷版作成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンで覆われた薄膜トランジスタの特性を劣化させることなく、リソグラフィー直後の形状を維持してレジストパターンを硬化させることが可能は電子機器の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。次に、レジストパターン２４が形成された第１基板１を乾燥処理する。その後、薄膜トランジスタＴｒのチャネル部ｃｈに対して波長２６０ｎｍよりも短波長の光が照射されることを防止した状態で、乾燥雰囲気下において乾燥処理後のレジストパターン２４に対して紫外線または可視光の少なくとも一方を照射する。次に、レジストパターン２４を熱硬化させる。 （もっと読む）

【課題】空気中の酸素が平版刷版の画像記録層内に入り込むことを防止して高感度化した状態で露光処理可能とする。
【解決手段】平版刷版１０を気体中で搬送するよう搬送路を構成し、搬送路上を搬送される平版刷版１０の表面から所定間隔を開けて露光補助部材１６を配置し、液体充填手段２６により、露光補助部材１６と平版刷版１０との間に液体を充填させ、平版刷版１０の画像記録層を液体で被って空気中の酸素から遮断した状態で露光処理することにより、酸素による重合阻害を防止し効率よくラジカル重合反応を進めて潜像を形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻印刷版を製造するレーザー彫刻工程において発生する分解生成物の除去方法の提供。
【解決手段】シート状あるいは円筒状に成形された少なくとも１層以上の感光性樹脂硬化物層を有するレーザー彫刻印刷原版表面をレーザー彫刻し、該表面に凹凸パターンを有するレーザー彫刻印刷版を製造する方法であって、レーザー彫刻工程において発生する分解生成物を除去する方法が、該分解生成物をオゾン分子に接触させる工程を含む方法であることを特徴とするレーザー彫刻印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 各感応基板の大気雰囲気内に置かれた時から現像処理開始時までの時間を一定にすることができる現像装置を提供する。
【解決手段】 減圧雰囲気内で露光された感応基板Ｗを現像する現像装置２において、現像処理を開始するまで露光処理を終えた前記感応基板Ｗを待機させる基板待機部２６と、前記感応基板Ｗの露光処理終了時から現像処理開始時までの時間と他の感応基板の露光処理終了時から現像処理開始時までの時間とを一定にするために、前記基板待機部２６に前記感応基板Ｗを待機させる待機時間を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウォータマークの欠陥による損壊の発生を防止或いは低減する液浸リソグラフィに用いるレジスト材料及び液浸リソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】レジスト材料は、酸と反応した後にアルカリ性溶液に溶解するポリマーと、照射エネルギーを吸収した後に、分解して酸を形成するＰＡＧと、酸を中和し、移動度が低いクエンチャーとを含み、クエンチャーは、レジスト内の濃度が０．５重量％よりも高い。液浸リソグラフィ方法は、基板上にレジストを形成する工程と、液浸リソグラフィシステムの流体内でレジストを露光する工程と、レジストをベーキングし、レジスト内にあるクエンチャーを液浸リソグラフィに拡散させる流体量を５×１０−１３モル／ｃｍ２にする工程と、露光後のレジストを現像する工程とを含む。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される部分構造を有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁰は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜８のアルキル基又はアルキレン基であり、Ｒ¹は炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基又はアルキレン基で、少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。）
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセス、中でもリソグラフィー露光光がレジスト膜に到達する経路の少なくとも前記レジスト膜上に空気より屈折率が高くかつ前記レジスト膜よりも屈折率が低い所定厚さの液体を介在させた状態で露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる液浸露光プロセスにおいて、液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いることにより、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。
【解決手段】液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いて前記保護膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成において、パターン精度を向上させることができ、生産性を向上させることができるパターン形成方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】 被処理部材５（撥液膜６）とフォトマスク７との間を離間させて、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間に空間を生じさせる。また、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間の空間には、気体発生装置１６から導入管１５を介して窒素ガス１８を流入させる。さらに、フォトマスク７の光透過部１０を介して、被処理部材５上の配線パターン形成部分に対して紫外線１３を照射することにより、配線パターン形成部分の撥液膜６が分解して揮発成分が発生する。発生した揮発成分は、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間の空間に放出され、窒素ガス１８とともに該空間から排出管１９を介して外部へ排出される。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマー、塩基及び純水を含む溶媒からなるトップコーティング組成物である。本発明によるトップコーティング組成物で構成されたトップコーティング膜は、ＴＡＧを利用するか、または水に浸漬させる方法により水に溶けない不溶性膜に形成されうる。このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光前にレジスト膜表層を親水性化することにより、液浸露光時にレジスト界面の浸液におけるマイクロバブルの発生を防止する。
【解決手段】 シリコン基板１上に導電膜３を形成し、導電膜３上にレジスト膜２を形成する。シリコン基板１を活性酸素雰囲気に曝しながらレジスト膜２に真空紫外光４を照射することにより、レジスト膜２の表層に酸化層５を形成して、レジスト膜２表層を親水性化する。露光装置の投影レンズとレジスト膜２との間に浸液２７を満たし、該浸液２７を介してレジスト膜２に対して露光光２３を照射する。 （もっと読む）

【課題】 可視光波長よりも短いオーダでの微細加工を低コストに実現することを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 被加工体(100)の上側に感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、可視光波長よりも小さい波長の２本のレーザービーム(B1,B2)を交叉させて干渉光を発生させ、当該干渉光を照射することによって上記感光性膜を露光する露光工程と、露光後の上記感光性膜を現像して、上記干渉光のパターンに対応する形状を上記感光性膜に発現させる現像工程と、現像後の上記感光性膜をエッチングマスクとしてエッチングを行い、上記被加工体を加工するエッチング工程と、を含む、微細構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】印刷版原版の感光層の表面の酸素を確実に遮断した状態で感光層を露光することが出来る印刷版原版露光装置を提供する。
【解決手段】
透明基板の表面と押さえ部材の底面部および側壁面とで形成される閉空間を真空排気手段によって真空排気して、前記側壁部を徐々に屈曲させつつ、前記底面部に保持された前記印刷版原版の前記感光層を前記一端側から徐々に前記透明基板表面に密着させていき、前記透明基板の表面に前記印刷版原版の前記感光層の全面を略完全に密着させ、前記印刷版原版の前記感光層から酸素を遮断する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセス、中でもリソグラフィー露光光がレジスト膜に到達する経路の少なくとも前記レジスト膜上に空気より屈折率が高くかつ前記レジスト膜よりも屈折率が低い所定厚さの液体を介在させた状態で露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる液浸露光プロセスにおいて、液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いることにより、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。
【解決手段】液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜形成用材料を除去するための保護膜除去用溶剤であって、フッ素系溶剤を含む液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤を用いて前記保護膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】印刷版原版の感光層の表面の酸素を確実に遮断した状態で感光層を露光することが出来る印刷版原版露光装置を提供する。
【解決手段】印刷版原版を保持する透明基板と、この透明基板に保持された印刷版原版の支持体の側の表面全体を覆って透明基板の全周縁部と密着する前記被覆部材とで形成される閉空間の真空排気に同期させて、スクイズ手段を被覆部材の一方の側から他方の側に相対的に移動しながら、印刷版原版の感光層と透明基板との間の空気を、一方の側から他方の側に向かって徐々に押し出して、透明基板の表面に印刷版原版の感光層の全面を略完全に密着させる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法において、不良形状、ウェハ面内及び／或いはショット内における寸法・形状差を抑制し得るレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】投影レンズ系３３と基板１０との間に、フッ素溶剤に酸を添加した光路媒質を介在させた状態でレチクルに形成されたパターンをレジスト膜に転写する工程と、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する工程と、加熱されたレジスト膜を現像する工程を含む。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ化学プロセスを温度制御するシステム、装置及び方法に関する。温度制御システムは、基板上にあらかじめ特定された複数のゾーンの温度を検出するよう構成された複数の温度センサ要素を有するマルチゾーン温度検出ユニットと、上記複数のゾーンの温度を調節するよう構成された複数の温度カプラ要素を有するマルチゾーン温度調節ユニットと、マルチゾーン温度検出ユニット及びマルチゾーン温度調節ユニットに作動的に且つ情報伝達可能に結合された温度コントローラユニットとを有する。温度コントローラユニットは、上記複数のゾーンの温度を調節するために、マルチゾーン温度検出ユニットから検出温度を受け取り、この検出温度情報を処理し、処理後の温度情報に基づいて温度制御情報を作成し、温度制御情報をマルチゾーン温度調節ユニットに伝達する。 （もっと読む）