【課題】描画対象物におけるパターンの形成位置の制御を簡便な構成で可能として、コストの低減を図る。
【解決手段】基板Ｗを支持するステージ１０に固定的に形成された複数の基準線Ｌrが副走査方向Ｘに並んでいる。また、光学ヘッド４２、４３との相対位置関係が固定された状態で基準線Ｌrに対向するラインカメラ５０が設けられており、このラインカメラ５０によって基準線Ｌrを撮像する。このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。その結果、コストの低減を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板を走査して、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光する。
【解決手段】チャック１０に位置検出用マークを設け、チャック１０の位置を検出しながら、ステージによりチャック１０を移動して、各画像取得装置５１によりチャック１０の位置検出用マークの画像を取得し、検出したチャック１０の位置及び画像処理装置５０が検出したチャック１０の位置検出用マークの位置から、各画像取得装置５１の位置ずれを検出して、各移動機構により各画像取得装置５１の位置ずれを修正する。各画像取得装置５１により基板１の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置５０が検出した基板１の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャック１０を移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査する前の基板１の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】アライメントカメラの位置の校正、露光ヘッドの位置の校正の頻度やタイミングを最適化して、露光精度の向上、再現性（ワーク間並びに露光装置間において一定の精度を有する特性）の向上を図る。
【解決手段】ステージ上に固定された基準スケールに基づいて少なくともアライメントセンサの校正値を求める校正ステップ（Ｓ７０５、Ｓ７０６）と、前記校正値に基づいて前記ワークに形成された前記アライメントマークを測定する測定ステップ（Ｓ７０７）と、少なくとも前記校正ステップによる校正値と前記測定ステップによる測定値に基づいて前記ワークに対して画像の露光を行う露光ステップ（Ｓ７０８）とを有し、前記基準スケールの基準面と前記ワークの基準面をそれぞれ露光基準面に合わせた（Ｓ７０３）後に、前記校正ステップによる校正処理と、前記測定ステップによる測定処理を連続して行うように制御する。 （もっと読む）

【課題】 コスト高及び歩留まりの低下を抑制することができる大型の露光装置に用いられる基準指標板を提供する。
【解決手段】 マスクのパターンを投影光学系を介して感光性基板上に露光する露光装置に用いられ、前記投影光学系を介して投影されるパターンもしくは投影された像の基準となる基準指標板２９であって、ベース板３２と、前記ベース板３２上に取り付けられ、基準マーク３４ａ〜３４ｌが形成された複数の基準板３２ａ〜３２ｅとを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板上に異なる複数の光学膜を成膜するときに、相互の位置関係にずれが生じていない光学素子を製造する。
【解決手段】 最初に、基板母材ＢＭに第１のマスク部材Ｍ１を用いて、円形光学多層膜１０およびアライメント用光学多層膜マークＡＭのパターンを転写する。そして、リング状光学多層膜２０を成膜するときには、第２のマスク部材Ｍ２を用いてパターニングを行うが、このとき、基板母材ＢＭ上に形成されているアライメント用光学多層膜マークＡＭを、マーク認識用パターンＴＰを透視して高精度にアライメントすることにより、円形光学多層膜１０およびリング状光学多層膜２０の位置関係を極めて高精度なものにすることができる。また、アライメント用光学多層膜マークＡＭは、剥離用金属膜８０の剥離時に、その形状を常に鮮明なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】高精度に物体を位置合わせする。
【解決手段】工具ウエハを搬送するロードスライダ上のマークの撮像結果Ｐ内における較正用基準点Ｓｐ_CT2と、その基準点Ｓｐ_CT2からの位置関係が既知な地点Ｐ１〜Ｐ６の位置情報を検出し、これらの地点の、設計上の位置関係と、撮像結果から得られる位置関係との違いに基づいて、そのマークを撮像する撮像装置の倍率、回転などの較正情報を例えば、最小二乗法などの統計的手法を用いて、精度良く算出する。 （もっと読む）