【課題】炭化珪素半導体装置の製造において、上面が平坦な終端構造とリセス状のアライメントマークとを少ないマスク数で形成すると共に、アライメントマークのリセスの深さを最適化する。
【解決手段】ハーフトーン露光法を用いて、ＳｉＣエピタキシャル層２に達する第１の開口部１２ａとＳｉＣエピタキシャル層２に達しない第２の開口部とを有するレジストパターン１１を、ＳｉＣエピタキシャル層２上に形成する。エッチングにより、第１の開口部１２ａに露出したＳｉＣエピタキシャル層２にリセス状のアライメントマーク９を形成すると同時に第２の開口部１２ｂをＳｉＣエピタキシャル層２に到達させる。その後、イオン注入により、第２の開口部１２ｂに露出したＳｉＣエピタキシャル層２に、終端領域８を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板の上に凹部または凸部を有するアライメントマークを含む第１のパターンを形成する工程と、第１のパターンの上に平坦化層を形成する工程と、平坦化層のアライメントマークの上に形成された部分を除去する工程と、アライメントマークの上に形成された部分が除去された平坦化層の上に、被加工層を形成する工程と、アライメントマークの位置を被加工層の上から光を用いて光学的に検出し、位置あわせを行う工程と、位置合わせに基づき被加工層をパターニングしてパターンを形成する工程と、を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】より簡単に描画装置の能力を検査し、必要があれば補正する。
【解決手段】描画装置の検査装置が、一方が他方を囲むような形状を有する第１マーク及び第２マークを含む描画データが記憶されている記憶装置と、描画データに基づいて描画装置に第１マークを描画させる第１描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第１マークの位置を検出する第１検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、描画データと第１マークの検出位置とに基づいて描画データを補正する補正部（データ補正部２０１ｅ）と、補正された描画データに基づいて、描画装置に第２マークを描画させる第２描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第２マークの位置を検出する第２検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、第１マークの検出位置と第２マークの検出位置とに基づいて両者の位置ずれ態様を求めるずれ取得部（データ処理部２０１ｋ）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ワークを搬送しながらマスクとワークのＸ，Ｙ，θ方向のズレをリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができるマスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたマスク側アライメントマーク４１は、Ｘ方向に対して互いに異なる角度α°、−α°でそれぞれ傾斜した２本の斜線部４２ａ，４２ｂと、Ｘ方向に沿って延びる直線部４３ａ、４３ｂとを有する。また、このマスクＭを使用して、近接スキャン露光装置１では、撮像手段によって検出されたマスク側アライメントマーク４１とワーク側アライメントマークＷａとのズレ量が、ワークＷの搬送中、ワーク搬送機構１０、マスク駆動部１２、照射部１４の少なくとも一つによって補正される。 （もっと読む）

【課題】マスクの位置合わせの作業性を向上させつつ、位置合わせの精度を高め、容易に、かつ高精度に圧電板や電極を形成することができる圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】ウエハ側マーク群７１と、電極マスク側マーク群５２とを検出する電極マーク群検出工程と、ウエハ側マーク群７１と電極マスク側マーク群５２とを位置合わせしながらウエハに電極膜用マスクを配置する電極マスク配置工程とを有し、ウエハ側マーク群７１、および電極マスク側マーク群５２は、それぞれ互いに大きさの異なるマーク５１ａ〜７１ｄにより構成され、それぞれ最も小さいウエハ側マーク７１ｄ、および電極マスク側マーク５２ｄを互いのマークの位置合わせ用として利用し、これ以外のウエハ側マーク７１ａ〜７１ｃ、および電極マスク側マーク５２ａ〜５２ｃを、電極マーク群検出工程に利用する。 （もっと読む）

【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光領域間におけるパターンシフト量に対して、速く且つリアルタイム的に測定でき、不良検出率及び歩留まりを向上することができる露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マークを提供する。
【解決手段】当該方法は、二回の露光及び他のパターニングプロセスによって、少なくとも一対の所定位置関係を有する導電測定マークを形成する工程と、少なくとも一対の導電測定マークに対して電気的特性の検定を行い、電気的特性が前記所定位置関係に合わない場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が不合格であると確定し、電気的特性が前記所定位置関係に合う場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が合格であると確定する工程とを含む。本発明は露光領域間におけるパターンシフト量の測定に適用される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクと基材との位置合わせの時間を短縮することが可能なフォトマスクと基材との位置合わせ方法およびそれを用いた配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】露光システムは、露光機６０および画像処理装置６４を備える。露光機６０は、複数のカメラ６２ａ，６２ｂを含む。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードおよびパーシャルスキャンモードに選択的に設定可能に構成される。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードでは、得られた画像データの全てを転送し、パーシャルスキャンモードでは、得られた画像データから一部を抽出して転送する。画像処理装置６４が、カメラ６２ａから転送される画像データを用いた処理とカメラ６２ｂから転送される画像データを用いた処理とを並列的に行う。 （もっと読む）

【課題】基板と部材とが誤った相対向きでセットされたことを検知する。
【解決手段】プリント配線基板を製造する際に、部材２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面１Ａの処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある処理領域Ｐに形成された複数の位置合わせ用マーク１３，１４と、これらのいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に表裏判定用マーク１１，１２が形成された基板本体１を所定の位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２の対向位置に部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成された部材２０，３０を基板本体１の対向位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係に基づいて基板本体１と部材２０，３０の相対向きの正誤を判定する判定工程を有する。 （もっと読む）

【課題】エッジ検出により、見え方が多種多様なワーク・アライメントマーク（ワークマーク）のパターンの位置を、正しく検出できるようにすること。
【解決手段】アライメント顕微鏡によりワークマークのパターンの画像を受像し、この画像を制御部に送る。制御部では、取得したパターンの画像［（ａ）（ｄ）］の中心付近から複数の放射方向について、距離に対する輝度の分布を求める［（ｂ）］。そして、求めた輝度分布を微分し、距離に対する輝度の変化である微分値を求め［（ｃ）］、微分値の極大値の位置を、各放射方向について求める。求めた極大値の位置を、それぞれ一つずつ抽出して組み合わせ、極大値の位置を通る閉曲線に近似した円を複数求める。この複数の円の半径と、ワーク・アライメントマークの半径とを比較し、上記複数の円のなかから半径が最も近い円を選択し、その円の中心位置をワーク・アライメントマークの位置とする。 （もっと読む）

【課題】露光工程時におけるフォトマスクに付着したダスト等によりＰＤＰのパターンに断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、大画面、高精細であっても均一なパターン幅を得ることを目的とする。
【解決手段】少なくとも一方の基板に構造物を有したＰＤＰを複数製造するＰＤＰの製造方法であって、前記構造物の形成には、第１露光ステップと第２露光ステップを有し、第１露光ステップにおける露光位置と第２露光ステップにおける露光位置とのずれ量を測定するステップを有し、前記ずれ量から、次以降のプラズマディスプレイパネルの製造における前記第１露光ステップもしくは前記第２露光ステップの露光位置を補正することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、露光の精度を高めることを目的とする。
【解決手段】第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。一対の第１膜マーク３２を含むように第１膜パターン３０を形成する。一対の第２膜マーク５０を含むように第２膜パターン４８を形成する。位置ずれを検出する工程は、それぞれの第１膜マーク３２の中心点の位置の測定と、それぞれの第２膜マーク５０の中心点の位置の測定と、一対の第１膜マーク３２の中心間を結ぶ第１直線と副走査方向に沿った基準直線との間の第１角度の算出と、一対の第２膜マーク５０の中心間を結ぶ第２直線と基準直線との間の第２角度の算出と、を含む。調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。 （もっと読む）

【課題】基板側のアライメントマークの配置に制約の少ない露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】アライメントカメラ３６によって撮像される、マスク側アライメントマーク８６はマスクの有効露光エリアの外側に設けられており、基板側アライメントマークは、マスクＭのパターンが露光転写される領域の外側に設けられたブラックマトリクスＢＭのピクセルＰｗを含む。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板２１の端に、ガラス基板２１の表面２１ａ，２１ｂに対して垂直な切り欠き２２を設ける。次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。そして、ガラス基板２１を裏返し、ウラ面２１ｂを上方に露呈させ、アライメントマーク４３，４４が切り欠き２２に合致するように第２マスク３２をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のウラ面２１ｂに第２マスクパターン４２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 （もっと読む）

【課題】位置を安定的に決定する。
【解決手段】複数の直線を有する位置決め用の模様に含まれる直線の内、平行でない二つの直線により形成される交点を認識し、認識した交点を用いて位置を決定する。また、位置決め用の模様は、磁気ディスク装置内にあるＦＰＣ上に形成された配線パターンであるＦＰＣ端子と、磁気ディスク装置内にある磁気ヘッドと接続される配線の内当該ＦＰＣ端子と重ね合わされる部分にある配線パターンであるヘッド端子とを重ね合わせて接続する際に用いられ、ヘッド端子を重ね合わせるＦＰＣ上の位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】分割露光における表示領域でのショットの継ぎ目の位置を発見しやすく、パターンの継ぎ目検査に要する時間の低減を図ること。
【解決手段】本発明は、複数の露光領域に分割して形成される駆動素子形成領域１０と、駆動素子形成領域１０内に設けられ、隣接する露光領域の境界となる位置に両露光領域の露光ずれを判別するマークとを有する駆動基板１である。また、このマークを、矩形から成る露光領域の隅部近傍に配置したり、矩形から成る露光領域において互いに隣接する４つの露光領域の各隅部近傍に設けるものでもある。また、本発明は、素子形成領域を分割露光によって形成するための一露光分に対応した露光パターン領域と、露光パターン領域における分割露光の継ぎ目部分に設けられるマークとを有するマスクである。 （もっと読む）

【課題】基板の両側にパターニングした層を設ける場合に、基板の上面に、基板の下面にあるアライメントマークと位置合わせされるパターンを投影可能にする。
【解決手段】表裏アライメント可能なリソグラフィ装置のキャリブレーション方法である。この方法は、複数のアライメントマークを有する基板を、アライメントマークがキャリアの方に向くように配置して、キャリアに取り付けることと、基板の厚さを減少させることと、装置のアライメントシステムを使用して、この装置の基板テーブル中の光学系によって形成されるアライメントマーク像の位置を測定することと、基板上の、アライメントマークの測定位置により決定されたパターンの位置に、パターンを投影することと、投影したパターンと基板の反対側に設けたアライメントマークの位置を測定し、基板の反対側に設けたアライメントマークの位置の測定を基板を通して放射を誘導するアライメントシステムによって行うことと、オーバーレイエラーを決定するために測定位置を比較することとを含む。 （もっと読む）

本発明により、両面微細構造化製品を製造する方法、及びこの方法のために使用することができる位置決め構造が提供される。この方法には、基板シート５０の第１の表面に一次製品フィーチャ８０を提供するステップ８００と、反対側の表面に二次製品フィーチャ９０を提供するステップ８１０と、位置合わせパラメータを推定するために、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０の相互位置合わせを表示するステップ８２０と、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０の準備を位置合わせさせるステップ８３０が含まれている。位置決め構造は、第１の表面に集束エレメント２０の位置決めアレイを備えており、また、反対側の表面に、一次製品フィーチャ及び二次製品フィーチャ８０、９０と位置合わせされた、製品フィーチャの８０、９０の位置合わせを推定するために基準オブジェクト３０のホログラフィ表現１０を提供する、基準オブジェクト３０の位置決めアレイを備えている。
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【課題】各マークパターンが大判ガラス基板で互いに干渉した状態でも各マークパターンを確実に選択的に認識できる大判基板を提供する。
【解決手段】所定の寸法および間隔を有する第１パターン46の集合体として第１マークパターン43を構成する。第１パターン46の寸法および間隔と異なる寸法および間隔を有する第２パターン47の集合体として第２マークパターン44を構成する。第１マークパターン43と第２マークパターン44とを干渉した状態で大判ガラス基板に形成した状態でも、大判基板を撮像した画像にてパターン46，47の寸法および間隔に対応する周波数成分を強調することで、各マークパターン43，44を確実に選択的に認識できる。 （もっと読む）

【課題】試験構造を有する基板上のダブルパターニング・オーバレイ誤差の計算の信頼性を改良する。
【解決手段】基板上の第一構造と第二構造の間のオーバレイを測定する方法が提供される。構造は、平行線などの等距離要素を備え、第一及び第二構造の等距離要素が交互になる。本発明によれば、第一構造の要素の設計幅ＣＤ₁は、第二構造の要素の設計幅ＣＤ₂と異なる。設計幅の差を使用して、不適切に測定されたオーバレイ誤差を有する測定点を識別することができる。 （もっと読む）