プリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置及びプリント配線基板
【課題】基板と部材とが誤った相対向きでセットされたことを検知する。
【解決手段】プリント配線基板を製造する際に、部材２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面１Ａの処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある処理領域Ｐに形成された複数の位置合わせ用マーク１３，１４と、これらのいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に表裏判定用マーク１１，１２が形成された基板本体１を所定の位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２の対向位置に部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成された部材２０，３０を基板本体１の対向位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係に基づいて基板本体１と部材２０，３０の相対向きの正誤を判定する判定工程を有する。
【解決手段】プリント配線基板を製造する際に、部材２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面１Ａの処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある処理領域Ｐに形成された複数の位置合わせ用マーク１３，１４と、これらのいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に表裏判定用マーク１１，１２が形成された基板本体１を所定の位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２の対向位置に部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成された部材２０，３０を基板本体１の対向位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係に基づいて基板本体１と部材２０，３０の相対向きの正誤を判定する判定工程を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線基板の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置及びプリント配線基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板に設けられたアライメントマークをＣＣＤカメラにより撮像するとともに、フォトマスクに設けられたマスクアライメントマークをＣＣＤカメラにより撮像し、両者の位置を比較してフォトマスクと基板との位置合わせを行う手法が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３３３７２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、フォトマスクなどの部材を用いてプリント配線基板の主面に処理を行う場合には、プリント配線基板と部材の向きと位置の両方を正しくセットする必要があり、作業者が基板又は部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００５】
また、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合には、一方主面の加工を終えた後に基板を裏返して他方主面の処理を行うが、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００６】
同様に、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合に、作業者が基板を裏返す方向を間違えると、基板が誤った向きでセットされるため、一方主面に形成された接点や回路の位置と他方主面に形成された接点や回路の位置がずれるので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００７】
しかしながら、こうしたヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難であり、ヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという問題がある。
【０００８】
ちなみに、接点や回路の位置ずれを防ぐためにアライメントマークを基板に設けることが行われている。しかし、アライメントマークが基板の中心に対して点対称又は基板の中心線に対して線対称に設けられている場合には、基板と部材の向きに誤りがあってもアライメントマークの位置は変わらない。したがって、基板と部材が誤った向きでセットされたことを検知することができないという不都合がある。
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、基板や部材が誤った向きでセットされたことを検知できるプリント配線基板の製造方法とその製造装置及びプリント配線基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、が形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
【００１１】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程とを有するようにすることができる。
【００１２】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むようにすることができる。
【００１３】
上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するようにすることができる。
【００１４】
本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第１保持手段と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第２保持手段と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置を提供することにより、上記課題を解決することができる。
【００１５】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するようにすることができる。
【００１６】
上記発明において、プリント配線基板の製造前記表裏判定用マークと対向する第１の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第２の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるようにすることができる。
【００１７】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むようにすることができる。
【００１８】
上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するようにすることができる。
【００１９】
本発明は、基板本体を備え、前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点と、を含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有するプリント配線基板を提供することにより、上記課題を解決することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、基板本体の主面の処理領域に複数の位置合わせ用マークのいずれとも非対称な非対称領域に設けられた表裏判定用マークと、表裏判定用マークに応じた位置に部材側に設けられた部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、基板本体と部材の向きの正誤を判定することができる。
【００２１】
つまり、本発明に係る表裏判定用マークは非対称領域に設けられているので、基板本体の表裏や上下左右の配置方向を間違えると表裏判定用マークの位置が正規の検出位置に来ないし、位置合わせマークも表裏判定用マークの正規の検出位置には来ない。すなわち、基板本体と部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向、以下本明細書において同じ）が正しい場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークが対向せず、しかも位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークも対向しないので、この表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとの位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の概要図である。
【図２】図１の矢印II方向から見た基板本体とフォトマスクの図である。
【図３】基板本体に設けられる位置合わせ用マークの配置例を示す図である。
【図４】図２のＡ領域に対応する基板本体の一方主面を示す図である。
【図５】図２のＡ領域に対応する基板本体の他方主面を示す図である。
【図６】図４のＡ領域を覆うフォトマスクの一方主面を示す図である。
【図７】図５のＡ領域を覆うフォトマスクの他方主面を示す図である。
【図８】図４のＡ領域に対応する基板本体及びフォトマスクの一方主面を示す図である。
【図９】図５のＡ領域に対応する基板本体及びフォトマスクの他方主面を示す図である。
【図１０】図８のX-X線に沿う断面図である。
【図１１】図９のXI-XI線に沿う断面図である。
【図１２】表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。
【図１３】フォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図８のX-X線に沿う断面図である。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図９のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１６】本発明の第２実施形態に係る表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。
【図１７】本発明の第２実施形態に係るフォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１８】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例（一方主面側を示す図である。
【図１９】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例（他方主面側）を示す図である。
【図２０】本発明の第３実施形態に係る基板本体の一方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。
【図２１】本発明の第３実施形態に係る基板本体の他方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。
【図２２】図２０のXXII-XXII線に沿う断面図である。
【図２３】図２１のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。
【図２４】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの表裏が誤ってセットされた場合の図２０のXXII-XXII線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜第１実施形態＞
以下、図面に基づいて本発明の第１実施形態に係るプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置、及びプリント配線基板を説明する。
【００２４】
本発明の第１実施形態に係るプリント配線基板の製造方法は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて行われる処理工程を含むものである。本実施形態では、基板本体にフォトマスクを用いて露光処理工程を行う露光装置に、本発明に係るプリント配線基板の製造装置を適用した例を説明する。
【００２５】
まず、本発明の第１実施形態に係る露光装置１０００について説明する。
【００２６】
図１は、本発明の第１実施形態に係る露光装置１０００の概要図である。本実施形態の露光装置１０００は、ベースプレート１０１と、このベースプレート１０１上に設置された筐体１０２とを備えている。筐体１０２内には暗室１０２ａが形成されており、その上面には露光処理のための照光装置１４０が設けられている。
【００２７】
本実施形態の露光装置１０００は、帯状の基板本体１を所定の搬送方向Ｔに沿って搬送する搬送装置１０３を備えている。搬送装置１０３は、帯状の基板本体１を搬送方向Ｔに沿って送り出す送り出しローラ１０４と、送り出された帯状の基板本体１を巻き取る巻き取りローラ１０５と、帯状の基板本体１に搬送のための力を作用させる駆動ローラ１０７と、送り出しローラ１０４と巻き取りローラ１０５との間の搬送経路に沿って帯状の基板本体１を支持するガイドローラ１０６ａ〜１０６ｌとを備えている。これらの送り出しローラ１０４、巻き取りローラ１０５、駆動ローラ１０７、及びガイドローラ１０６ａ〜１０６ｌは、帯状の基板本体１を保持する基板用フレーム（第１保持手段）１１０を構成する。ガイドローラ１０６ｅと１０６ｆは、基板本体１を所定の位置に保持する。
【００２８】
本実施形態における基板本体は、厚さが１０μm〜２５０μmの可撓性を有するポリイミド（ＰＩ）などの絶縁性基材の両主面に、銅などの金属箔が張り付けられた導体張積層板である。絶縁性基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）やポリエステル（ＰＥ）とすることができる。なお、搬送装置１０３により搬送される基板本体１の主面には感光材層が形成されている。
【００２９】
また、本実施形態の露光装置１０００は、フォトマスク２０，３０などの部材を保持するマスク用フレーム１２１と、このマスク用フレーム１２１を保持する第２保持手段１２０と、その位置を調節する位置調節装置１３０を備えている。本実施形態の位置調節装置１３０は、基板本体１の主面と平行に配置された第２保持手段１２０を移動させる駆動機構を有しており、図示しない制御装置の指令に基づいて、基板本体１に対する第２保持手段１２０の相対位置を調節する。これにより、マスク用フレーム１２１によって保持されているフォトマスク２０，３０などの部材を所望の位置にセットすることができる。
【００３０】
本実施形態では、基板本体１の一方主面の露光処理に用いられる第１フォトマスク２０と、基板本体の他方主面の露光処理に用いられる第２フォトマスク３０の２つの異なるフォトマスクが準備されている。本実施形態において、フォトマスク２０，３０は、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂製又はガラス製である。また、本実施形態のフォトマスク２０，３０は透明である。
【００３１】
ちなみに、本実施形態における「部材」は、フォトマスク２０，３０以外にも、プリント配線基板の製造工程において基板本体１と相対位置が設定されるものを含む。たとえば、本実施形態で例示するフォトマスク２０，３０のように露光装置１０００を含むプリント配線基板製造装置の製造用部材（治具を含む）に加えて、基板本体１を補強する補強板や、基板本体１の所定領域を保護するカバーレイなどの製品の部品や、製造工程において用いられるドライレジストなどの製品の加工用材料をも含む。
【００３２】
本実施形態の搬送装置１０３は、駆動ローラ１０７を駆動させることにより、帯状の基板本体１が巻回された送り出しローラ１０４から基板本体１を搬送方向Ｔに沿って送り出す。送り出された基板本体１の他端側は巻き取りローラ１０５に巻き取られる。搬送装置１０３は、基板本体１の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たら駆動ローラ１０７を停止させる。
【００３３】
また、本実施形態の露光装置１０００は、第２保持手段１２０の上方に設けられたカメラ５０を備えている。具体的に、本実施形態のカメラ５０は、露光処理時において、後述する基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４や表裏判定用マーク１１，１２などのアライメントマークに応じた位置に設けられている。基板本体１の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たら、カメラ５０は、フォトマスク２０，３０と基板本体１の各マークを含む所定領域を撮像する。このカメラ５０の撮像した各マークの画像データに基づいて画像処理を行い、その結果に基づいてフォトマスク２０，３０と基板本体１との位置合わせをすることができる。
【００３４】
図２は、基板本体１の処理領域Ｐがフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たときに、図１の矢印II方向から見た基板とフォトマスク２０，３０を示す図である。図２に示すように、帯状の基板本体１の長手方向には露光処理がされる複数の処理領域Ｐが所定間隔で形成されており、搬送装置１０３によって、順次フォトマスク２０，３０に対向する位置に送り出される。なお、本実施形態では、複数の処理領域Ｐが連続して設けられた帯状の基板本体１を処理する例を説明するが、一つの処理領域のみが設けられた基板本体１をバッチ処理する場合でも本実施形態に係る手法を適用することができる。
【００３５】
図２に示すように、基板本体１の処理領域Ｐの各頂点の近傍には４つの円形の第１位置合わせ用マーク１３が形成されている（図４も参照）。なお、この裏面の同じ位置にも４つの円形の第２位置合わせ用マーク１４が形成されている（図５も参照）。
【００３６】
位置合わせ用マーク１３，１４の態様は特に限定されず、基板本体１の一方主面の所定位置に凹形状の第１位置合わせ用マーク１３を形成するとともに、基板本体１の他方主面の所定位置に凹形状の第２位置合わせ用マーク１４を別々に形成することができる。具体的には、基板本体１の表面の金属箔の所定領域をエッチング処理で除去することにより凹部を形成することができる。
【００３７】
また、基板本体１の所定位置に貫通孔を設けて第１位置合わせ用マーク１３と第２位置合わせ用マーク１４を同時に形成することができる。具体的には、ドリルやレーザを用いて基板本体１の所定位置を穿孔することにより貫通孔を形成することができる。
【００３８】
図２の位置合わせ用マーク１３，１４の内側に示された部材側位置合わせ用マーク２３，３４は、フォトマスク２０，３０に設けられた位置合わせ用のマークである（図７，８も参照）。なお、フォトマスク２０，３０は、所定のレジストパターンが形成された処理領域を有しており、この処理領域は基板本体１の処理領域ＰとＸＹ座標において同じ位置に設定されている。
【００３９】
次に、図３に基づいて、基板本体１に設けられた位置合わせ用マーク１３，１４について説明する。図３は、位置合わせ用マーク１３，１４の配置例を示す図である。
【００４０】
図３に示すように、本実施形態の位置合わせ用マーク１３，１４は、フォトマスク２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面の処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域Ｐの対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に形成されている。
【００４１】
本実施形態では、複数の位置合わせ用マーク１３，１４を設けることが好ましく、これら複数の位置合わせ用マーク１３，１４は点対称又は線対称の関係にある一群のマーク群として構成される。図３は、位置合わせ用マーク１３，１４を設けることが可能な候補位置を例示するものであり、上記関係にある位置であれば図３の態様に限定されず、その数も限定されない。
【００４２】
一般に、位置合わせ用マーク１３，１４は、互いに点対称又は線対称の位置に設けられるが、これは以下の理由による。フォトマスク２０，３０などの部材を用いて処理を行う場合、ワーク（基板本体１の処理領域Ｐ）の中心を基準に位置決めがなされることが望ましい。しかし、ワークの中心にアライメントマークを設けるわけにはいかないので、幾何学的にワークの中心を求めることができる位置合わせ用マーク１３，１４群を設定しなければならない。そうすると、位置合わせ用マーク１３，１４群は、ワークの中心や中心を通る軸に対して点対称又は線対称の位置に必然的に設定されることになる。
【００４３】
さらに、基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４の近傍には、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向きを判定するための表裏判定用マーク１１，１２が形成されている。これら表裏判定用マーク１１，１２の内側に示された、部材側表裏判定用マーク２１，３２は、フォトマスク２０，３０に設けられた表裏判定に用いられるマークである。ちなみに、本実施形態における基板本体１とフォトマスク２０，３０の「相対向きの正誤」とは、対向配置されるフォトマスク（部材）２０，３０と基板本体１とが向き合う面の表裏の正誤、及び対向配置されるフォトマスク（部材）２０，３０と基板本体１との上下左右の方向の正誤のいずれをも含む概念である。
【００４４】
フォトマスク２０，３０が基板本体１の対向位置にセットされたときに、照光装置１４０が基板本体１の主面に光を照射する。これにより、基板本体１の主面に塗布された感光材が露光される。この露光処理により、フォトマスク２０，３０にそれぞれ描かれたパターンが基板本体１の主面に転写され、アルカリ性水溶液で現像処理が可能なレジストが形成される。
【００４５】
ちなみに、本実施形態の露光装置１０００は、基板本体１の両主面に処理を行う装置である。まず、露光装置１０００は、基板本体１の一方主面に一方主面用の第１フォトマスク（第１部材）２０を用いて第１処理を行う。次に、作業者が、第１処理がされて巻き取りローラ１０５に巻き取られた基板本体１を、処理面の表裏が反対になるように裏返して、再び送り出しローラ１０４にセットする。さらに、作業者は、一方主面用の第１フォトマスク２０を、他方主面用の第２フォトマスク３０に取り換える。その後、露光装置１０００は、再度、基板本体１の他方主面に第２フォトマスク（第２部材）３０を用いて第２処理を行う。
【００４６】
作業者が、巻き取りローラ１０５を裏返して再び送り出しローラ１０４の位置にセットする場合に、基板本体１の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えてセットしてしまう場合がある。このように、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【００４７】
特に、基板本体１が帯状のものではなく、矩形のシート状のものである場合は、作業者がハンドリング中に基板本体１を回転させてしまい、基板本体１の上下左右の方向が変わってしまう場合がある。このように、作業者が基板又は部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【００４８】
また、作業者が一方主面用の第１フォトマスク２０と他方主面用の第２フォトマスク３０とを取り違えてセットしても、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない
【００４９】
この種のヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難である一方で、このようなヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという大きな損失をもたらす。
【００５０】
このため、本実施形態では、ヒューマンエラーが発生した場合でも、表裏判定用マーク１１，１２及び部材側表裏判定用マーク２１，３２に基づいて、基板本体１と部材２０，３０の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）の誤りを検知する方法及び装置を提案する。
【００５１】
以下において、本実施形態における基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置の正誤及び相対向きの正誤を判定する手法を、図４〜１３に基づいて説明する。
【００５２】
まず、図４及び図５に基づいて、基板本体１に設けられた位置合わせ用マーク１３，１４及び表裏判定用マーク１１，１２について説明する。
【００５３】
図４及び図５は、ともに図２のＡ領域に対応する基板本体１の主面を示す図である。図４は、基板本体１の一方主面に設けられた第１位置合わせ用マーク１３と第１表裏判定用マーク１１を示す図であり、図５は、基板本体１の他方主面に設けられた第２位置合わせ用マーク１４と第２表裏判定用マーク１２を示す図である。
【００５４】
図４及び図５に示すように、本実施形態の基板本体１の一方主面には、処理領域Ｐの頂点付近に同一の形状及び大きさの４つの第１位置合わせ用マーク１３が設けられており、他方主面の同じ位置に第２位置合わせ用マーク１４が設けられている。
【００５５】
本実施形態の基板本体１には、さらに、表裏判定用マーク１１，１２が設けられている。表裏判定用マーク１１，１２は、位置合わせ用マーク１３，１４のいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に設けられている。同図に示す例では、基板本体１の一方主面に一つの第１表裏判定用マーク１１が形成されているとともに、他方主面に一つの第２表裏判定用マーク１２が形成されている。第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２は、表裏に別々に形成することができ、貫通孔のように表裏に同時に形成することもできる。
【００５６】
図４と図５を比較すると、基板本体１の一方主面に形成された第１位置合わせ用マーク１３の位置と、基板本体１の他方主面に形成された第２位置合わせ用マーク１４の位置は同一である。つまり、基板本体１の一方主面の第１位置合わせ用マーク群１３が示す配置パターンと、基板本体１の他方主面の第２位置合わせ用マーク群１４が示す配置パターンとが一致する。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Ｑを中心に基板本体１をＸＹ平面に沿って１８０度回転させた場合も同様である。
【００５７】
本実施形態では、第１位置合わせ用マーク１３及び第２位置合わせ用マーク１４の位置、形状、大きさが同じであるため、第１位置合わせ用マーク１３及び第２位置合わせ用マーク１４によっては基板本体１の表裏や回転の有無といった基板本体１の向きを検知することはできない。
【００５８】
他方、図４及び図５の第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２の位置を比較すると、基板本体１の一方主面に形成された第１表裏判定用マーク１１のＸＹ座標上の位置と、基板本体１の他方主面に形成された第２表裏判定用マーク１２のＸＹ座標上の位置が異なる。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Ｑを中心に基板本体１をＸＹ平面に沿って１８０度回転させた場合も同様である。つまり、第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２の位置を観察することにより、基板本体１の表裏や回転の有無といった基板本体１の向きを検知することができる。
【００５９】
なお、第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２は、それぞれ複数設けることも可能である。ただし、その場合は、同一主面に形成される表裏判定用マーク１１，１２が互いに非対称の関係にあることが好ましい。言い換えると、２つの表裏判定用マーク１１，１２の位置が、基板本体１の主面の処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域Ｐの対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係に無いこと、並びに対称点Ｑ及び対称軸Ｒａ，Ｒｂ上に無いことが好ましい。
【００６０】
２つの表裏判定用マーク１１，１２を対称領域に形成すると、基板本体１を裏返した場合や対称点Ｑを中心に基板本体１を１８０度回転させた場合に、上述した位置合わせ用マーク１３，１４と同様に、２つの表裏判定用マーク１１，１２の位置が一致してしまい、本実施形態の表裏判定用マーク１１、１２としての機能が果たせなくなるからである。
【００６１】
以上に説明した位置合わせ用マーク１３，１４の位置は、後述するフォトマスク２０，３０に形成された部材側位置合わせ用マーク２３，３４の位置と比較され、表裏判定用マーク１１，１２の位置は、後述するフォトマスク２０，３０に形成された部材側表裏判定用マーク２１，３２の位置と比較される。
【００６２】
次に、図６及び図７に基づいて、フォトマスク２０，３０に設けられた部材側位置合わせ用マーク２３，３４及び部材側表裏判定用マーク２１，３２について説明する。図６及び図７は、図４及び図５のＡ領域を覆うフォトマスク２０，３０の主面を示す図である。なお、フォトマスク２０，３０処理領域Ｐは、基板本体１の処理領域ＰとＸＹ平面上において同じ位置である。
【００６３】
図６は、フォトマスク２０，３０の一方主面に設けられた第１部材側位置合わせ用マーク２３と第１部材側表裏判定用マーク２１を示す図、図７は、フォトマスク２０，３０の他方主面に設けられた第２部材側位置合わせ用マーク３４と第２部材側表裏判定用マーク３２を示す図である。
【００６４】
本実施形態における部材側位置合わせ用マーク２３，３４と部材側表裏判定用マーク２１，３２は、インク等で印刷により形成されている。フォトマスク２０，３０が透明である場合には、黒色のインクを用いることが好ましい。
【００６５】
図６及び図７に示すように、部材側位置合わせ用マーク２３，３４は、露光装置１０００の露光処理を行う基準位置に、図４及び５に示す位置合わせ用マーク１３，１４と、ＸＹ平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側位置合わせ用マーク２３，３４と基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４とは対向する。
【００６６】
同様に、部材側表裏判定用マーク２１，３２は、露光装置１０００の露光処理を行う基準位置に、図４及び５に示す基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２と、ＸＹ平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側表裏判定用マーク２１，３２と基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２とは対向する。
【００６７】
次に、図８及び図９に基づいて、基板本体１にフォトマスク２０，３０が対向配置された場合の置合せ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４、及び表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２について説明する。図８及び図９は、図４及び図５の基板本体１のＡ領域を覆うフォトマスク２０，３０の主面を示す図である。
【００６８】
図８は基板本体１の一方主面に第１フォトマスク２０が対向配置された状態の上面図、図９は基板本体１の他方主面に第２フォトマスク３０が対向配置された状態の上面図である。
【００６９】
基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、図８に示すように、第１部材側位置合わせ用マーク２３と基板本体１の第１位置合わせ用マーク１３とが重畳する。また、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、図８に示すように、第１部材側表裏判定用マーク２１と基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳する。
【００７０】
同様に、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、図９に示すように、第２部材側位置合わせ用マーク３４と基板本体１の第２位置合わせ用マーク１４とが重畳する。また、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、図９に示すように、第２部材側表裏判定用マーク３２と基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳する。
【００７１】
この状態の断面図を図１０及び図１１に示す。図１０は図８のX-X線に沿う断面図であり、図１１は図９のXI-XI線に沿う断面図である。
【００７２】
図１０及び図１１に示す第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２は、基板本体１の表面に形成された凹部で構成されている。この凹部を含む領域に光を照射すると、凹部に当たった光の反射光の強さと、その周囲の主面１Ａ，１Ｂに当たった光の反射光の強さに変化が出る。光を照射した状態で、第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２を含む領域を矢印Ａ１，Ｂ１の方向に沿ってカメラ５０で撮像すると、第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１を含む撮像画像、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２を含む撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、両マークの位置関係に関する情報を得ることができる。
【００７３】
本実施形態の露光装置１０００は、撮像画像から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図８，９中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【００７４】
また、本実施形態の露光装置１０００は、撮像画像から得られた第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１との位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２の位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【００７５】
図１２は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合にも、図１２と同様の、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像を得ることができる。
【００７６】
なお、図１２は、図１０、図１１に示す矢印Ａ１に沿う方向から見た位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像、又はＢ１に沿う方向から見た表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。
【００７７】
図１２に示すように、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合には、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が重畳している旨の分析結果、又は位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳している旨の分析結果を得ることができる。
【００７８】
このように、表裏判定用マーク１１，１２の位置と部材側表裏判定用マーク２１，３２の位置が重畳している場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定でき、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳している場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされていると判定できる。
【００７９】
他方、図１３に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置が合っていれば位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳した図１２に示すような像を得ることができるものの、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が重畳した図１２に示すような像を得ることはできない。
【００８０】
このような場合には、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が誤った向きにセットされたと判定できる。なお、図１３には、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０の上下左右の方向が相対的に誤ってセットされた場合も同様である。
【００８１】
本実施形態の露光装置１０００では、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像との位置関係に基づいて、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされたと判断してから、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像の位置関係により、基板本体１に対するフォトマスク２０，３０の位置を合わせることができる。
【００８２】
その結果、基板本体１を裏返す作業を含む場合に、作業者が、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を誤ってセットした場合であっても、その誤りを検知することができる。
【００８３】
以上のとおり、本実施形態における表裏判定用マーク１１，１２は非対称領域に設けられているので、基板本体１とフォトマスク２０，３０の向きが正しい場合には表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２とが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マーク１１、１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２が対向しない。したがって、この表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。
【００８４】
＜第２実施形態＞
続いて、本発明の第２実施形態に係る露光装置１０００、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置１０００及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第１実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第１実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
【００８５】
図１４及び図１５は、本発明の第２実施形態に係る基板本体１とフォトマスク２０，３０の断面図であり、図１４は第１実施形態において説明した図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図、図１５は同図９のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。
【００８６】
図１４及び図１５に示すように、第２実施形態における表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は、断面が円形の貫通孔により形成されている。貫通孔はドリル加工やレーザ加工などの一般的な手法により形成することができる。
【００８７】
また、フォトマスク２０，３０には、表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成されているとともに、位置合わせ用マーク１３，１４に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側位置合わせ用マーク２３，３４が形成されている。
【００８８】
本実施形態では、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を遮光するため、黒色のインクにより部材側表裏判定用マーク２１，３２及び部材側位置合わせ用マーク２３，３４が形成されている。
【００８９】
フォトマスク２０，３０を基板本体１の対向位置に正しくセットすると、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２が対向し、位置合わせ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４とが対向する。
【００９０】
基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は貫通孔で構成されているので、この貫通孔を含む領域を図１４及び図１５に示す矢印Ａ１及びＡ２の方向からカメラ５０で撮像すると、貫通孔の輪郭と貫通孔の内縁よりも内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２又は部材側位置合わせ用マーク２３，３４が存在する画像を得ることができる。具体的には、第１表裏判定用マーク１１と、その内側に位置する第１部材側表裏判定用マーク２１を含む二重円の撮像画像、第２表裏判定用マーク１２と、その内側に位置する第２部材側表裏判定用マーク３２を含む二重円の撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、その位置関係の情報を得ることができる。
【００９１】
本実施形態の露光装置１０００の判定装置７０は、撮像画像から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図８，９中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【００９２】
また、本実施形態の露光装置１０００の判定装置７０は、撮像画像から得られた第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１との位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２の位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【００９３】
図１６は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合にも、図１６と同様の、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像を得ることができる。
【００９４】
なお、図１６は、図１４、図１５に示す矢印Ａ１に沿う方向から見た位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像、又はＢ１に沿う方向から見た表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。
【００９５】
図１６に示すように、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合には、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が内在する二重円を観察することができる。同様に、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされた場合には、位置合わせ用マーク１３，１４の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する二重円を観察することができる。
【００９６】
このように、表裏判定用マーク１１，１２の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２が内在する場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定できる。また、位置合わせ用マーク１３，１４の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされていると判定できる。
【００９７】
他方、図１７に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク１３，１４の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する像（図１６を参照）を得ることができるものの、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の輪郭の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が内在する像（図１６を参照）を得ることができない。
【００９８】
このような場合には、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が誤った向き（表裏又は上下左右の向き）にセットされたと判定できる。なお、図１７には、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０の上下左右の方向が誤ってセットされた場合も同様である。
【００９９】
また、本実施形態に係る露光装置１０００は、表裏判定用マーク１１，１２と対向する第１の位置Ｋ１と、位置合わせ用マーク１３，１４と対向する第２の位置Ｋ２との間で、カメラ５０を手動で往復移動させる移動機構をさらに備えている。移動機構は、具体的に、本実施形態における移動機構は、スライドレール５１と、カメラ５０を支持してスライドレール５１を往復移動する支持体５２とを有する。支持体５２は、図外のロックピンを備え、位置決めされたカメラ５０を少なくとも一時的に固定する。
【０１００】
このように、カメラ５０の移動機構を備えることにより、表裏判定用マーク１１，１２を撮像するカメラ５０と、位置合わせ用マーク１３、１４を撮像するカメラ５０とを共用することができるので、表裏判定用マーク１１，１２用のカメラ５０を増設する必要がなく、設備コストを低減させることができる。
【０１０１】
また、スライドレール５１と支持体５２との簡単な手動構造の移動機構によって、カメラ５０の位置を変更できるので、カメラ５０の位置を自動的に変更するためのアクチュエータや制御回路などの駆動機構を必要とせず、設備コストを低減させることができる。加えて、多くの部品を備える駆動機構から生じる塵によって製品品質に悪影響を与えることも防止できる。
【０１０２】
図示はしないが、カメラ５０には、カメラ５０の位置を認識する位置センサが併設されている。カメラ５０は、基板本体１の一方主面が処理面（撮像面）であるときのカメラ５０の位置及び基板本体の他方主面が処理面（撮像面）であるときのカメラの位置を予め記憶している。本実施形態のカメラ５０は、位置センサにより検出されたカメラ５０の位置と、製造ラインの管理システムを介して入力された基板本体１の処理面の特定情報（一方主面又は他方主面の特定情報）に基づいて、予め記憶している処理面とカメラ位置との対応関係を参照して、カメラ５０の位置の適否を判断する。カメラ５０の位置が適当でない場合には、その旨の警報を図外のスピーカなどの出力装置を介して出力する。
【０１０３】
以上のように構成される本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用及び効果も奏することができる。
【０１０４】
＜第３実施形態＞
続いて、本発明の第３実施形態に係る露光装置１０００、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置１０００及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第１実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第１実施形態及び第２実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
【０１０５】
第３実施形態において、基板本体１に形成される表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は、貫通孔により形成されている。貫通孔は第１実施形態と同様の手法により形成することができる。表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４が形成される位置は、図４及び図５に示す第１実施形態と共通する。
【０１０６】
図１８及び図１９は、本実施形態に係る、フォトマスク２０，３０に形成される部材側表裏判定用マーク２１，３２及び部材側位置合わせ用マーク２３，３４の配置例を示す図である。図１８はフォトマスク２０，３０の一方主面側を示し、図１９はフォトマスク２０，３０の他方主面側を示す。図１８及び図１９は、図４及び図５のＡ領域を覆うフォトマスクの主面を示す図である。
【０１０７】
同図に示すように、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａが形成されている。
【０１０８】
また、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａに対して、基板本体１と相対位置が設定されるフォトマスク２０，３０の処理領域の中心を対称点Ｑとする点対称、若しくは対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂが形成されている。
【０１０９】
つまり、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂとは、対称点Ｑに対して点対称、又は対称軸Ｒａ，Ｒｂに対して線対称の関係にある。なお、第１実施形態と同様に、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂは、対称軸Ｒａ，Ｒｂ上に配置しないことが好ましい。
【０１１０】
本実施形態においては、表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に設けられている部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと、これらに対して対称領域に設けられている部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂと、を区別できればよいので、部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂとは、透光性／遮光性について反対の性質を備えていればよい。
【０１１１】
具体的には、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａを形成し、この遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａに対して、基板本体１と相対位置が設定されるフォトマスク２０，３０の処理領域の中心を対称点Ｑとする点対称、若しくは対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂを形成してもよい。
【０１１２】
また、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂは、基板本体１に形成される貫通孔の開口部を覆うように貫通孔の直径よりも大きく形成されている。本実施形態では、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂ及び部材側位置合わせ用マーク２３ｂ，３４ｂを、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を遮光する黒色のインクを印刷することにより形成する。他方、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び部材側位置合わせ用マーク２３ａ，３４ａを形成するにあたっては、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を透光させるために、何も設けないことにより透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び部材側位置合わせ用マーク２３ａ，３４ａを形成する。
【０１１３】
図２０は、基板本体１の一方主面１Ａに第１フォトマスク２０が対向配置された状態の上面図、図２１は基板本体１の他方主面１Ｂに第２フォトマスク３０が対向配置された状態の上面図である。
【０１１４】
図２０及び図２１に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、第１実施形態と同様に、第１部材側位置合わせ用マーク２３と基板本体１の第１位置合わせ用マーク１３とが重畳する。
【０１１５】
また、図２０に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳するとともに、遮光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ｂと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とは重畳しない。
【０１１６】
同様に、図２１に示すように、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２が重畳するとともに、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２は重畳しない。
【０１１７】
本状態の断面の状態を図２２及び図２３に示す。図２２は図２０のXXII-XXII線に沿う断面図であり、図２３は図２１のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。図２２及び図２３に示す第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２は、基板本体１の表裏を貫通する貫通孔で構成されている。この貫通孔を含む領域に光L１を照射すると、貫通孔に入射した光が透明なフォトマスク２０の透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａが透過するので、光源とは反対側で貫通孔を通過した光を検知することができる。光L１は、照光装置１４０により照射することができる。
【０１１８】
本実施形態では、第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２となる貫通孔の開口部に対向する位置に透光センサ６０を設けているので、貫通孔を通過した光の有無を検出することができる。
【０１１９】
図２２に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳するため、光Ｌ１を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａを透過し、透光センサ６０が光を検知することができる。
【０１２０】
同様に、図２３に示すように、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳するため、光Ｌ１を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透明なフォトマスク２０の透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａを透過し、透光センサ６０が光を検知することができる。
【０１２１】
このように、透光センサ６０が表裏判定用マーク１１、１２を透過する光を検知できた場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定できる。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされているか否かは第１実施形態及び第２実施形態と同様の手法により判定できる。
【０１２２】
他方、基板本体１の他方主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされていない場合は、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳するため、光Ｌ１を照射しても、貫通孔を介して入射した光が、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂで遮光され、透光センサ６０が光を検知することができない。
【０１２３】
具体的には、図２４に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４との位置が合致するものの、光Ｌ１は遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂに遮られるので、透光センサ６０が光を検知することができない。
【０１２４】
本実施形態の露光装置１０００は、透光センサ６０の光の検出結果から第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１ａとの位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２ａの位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【０１２５】
加えて、第１実施形態と同様に、本実施形態の露光装置１０００は、透光センサ６０から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図２０，２１中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【０１２６】
以上のように構成される本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用及び効果をも奏することができる。
【０１２７】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【符号の説明】
【０１２８】
１０００…露光装置，プリント配線基板の製造装置
１０１…ベースプレート，１０２…筺体，１０２ａ…暗室
１０３…搬送装置，１０４…送り出しローラ，１０５…巻き取りローラ，
１０６ａ〜１０６ｌ…ガイドローラ，１０７…駆動ローラ
１１０…基板用フレーム，第１保持手段
１２０…第２保持手段
１２１…マスク用フレーム
１３０…位置調節装置
１４０…照光装置
１…基板本体，帯状の基板本体
１Ａ…基板本体の一方主面
１Ｂ…基板本体の他方主面
Ｐ…処理領域
Ｑ…対称点
Ｒａ，Ｒｂ…対称軸
１１…第１表裏判定用マーク，貫通孔
１２…第２表裏判定用マーク，貫通孔
１３…第１位置合わせ用マーク
１４…第２位置合わせ用マーク
２０…第１部材，第１フォトマスク
２１,２１ａ，２１ｂ…第１部材側表裏判定用マーク
２３…第１部材側位置合わせ用マーク
３０…第２部材，第２フォトマスク
３２…第２部材側表裏判定用マーク
３４…第２部材側位置合わせ用マーク
５０…カメラ
５１…スライドレール
５２…支持体
６０…透光センサ
７０…判定装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線基板の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置及びプリント配線基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板に設けられたアライメントマークをＣＣＤカメラにより撮像するとともに、フォトマスクに設けられたマスクアライメントマークをＣＣＤカメラにより撮像し、両者の位置を比較してフォトマスクと基板との位置合わせを行う手法が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３３３７２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、フォトマスクなどの部材を用いてプリント配線基板の主面に処理を行う場合には、プリント配線基板と部材の向きと位置の両方を正しくセットする必要があり、作業者が基板又は部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００５】
また、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合には、一方主面の加工を終えた後に基板を裏返して他方主面の処理を行うが、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００６】
同様に、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合に、作業者が基板を裏返す方向を間違えると、基板が誤った向きでセットされるため、一方主面に形成された接点や回路の位置と他方主面に形成された接点や回路の位置がずれるので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【０００７】
しかしながら、こうしたヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難であり、ヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという問題がある。
【０００８】
ちなみに、接点や回路の位置ずれを防ぐためにアライメントマークを基板に設けることが行われている。しかし、アライメントマークが基板の中心に対して点対称又は基板の中心線に対して線対称に設けられている場合には、基板と部材の向きに誤りがあってもアライメントマークの位置は変わらない。したがって、基板と部材が誤った向きでセットされたことを検知することができないという不都合がある。
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、基板や部材が誤った向きでセットされたことを検知できるプリント配線基板の製造方法とその製造装置及びプリント配線基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、が形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
【００１１】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程とを有するようにすることができる。
【００１２】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むようにすることができる。
【００１３】
上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するようにすることができる。
【００１４】
本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第１保持手段と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第２保持手段と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置を提供することにより、上記課題を解決することができる。
【００１５】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するようにすることができる。
【００１６】
上記発明において、プリント配線基板の製造前記表裏判定用マークと対向する第１の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第２の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるようにすることができる。
【００１７】
上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むようにすることができる。
【００１８】
上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するようにすることができる。
【００１９】
本発明は、基板本体を備え、前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点と、を含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有するプリント配線基板を提供することにより、上記課題を解決することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、基板本体の主面の処理領域に複数の位置合わせ用マークのいずれとも非対称な非対称領域に設けられた表裏判定用マークと、表裏判定用マークに応じた位置に部材側に設けられた部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、基板本体と部材の向きの正誤を判定することができる。
【００２１】
つまり、本発明に係る表裏判定用マークは非対称領域に設けられているので、基板本体の表裏や上下左右の配置方向を間違えると表裏判定用マークの位置が正規の検出位置に来ないし、位置合わせマークも表裏判定用マークの正規の検出位置には来ない。すなわち、基板本体と部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向、以下本明細書において同じ）が正しい場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークが対向せず、しかも位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークも対向しないので、この表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとの位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の概要図である。
【図２】図１の矢印II方向から見た基板本体とフォトマスクの図である。
【図３】基板本体に設けられる位置合わせ用マークの配置例を示す図である。
【図４】図２のＡ領域に対応する基板本体の一方主面を示す図である。
【図５】図２のＡ領域に対応する基板本体の他方主面を示す図である。
【図６】図４のＡ領域を覆うフォトマスクの一方主面を示す図である。
【図７】図５のＡ領域を覆うフォトマスクの他方主面を示す図である。
【図８】図４のＡ領域に対応する基板本体及びフォトマスクの一方主面を示す図である。
【図９】図５のＡ領域に対応する基板本体及びフォトマスクの他方主面を示す図である。
【図１０】図８のX-X線に沿う断面図である。
【図１１】図９のXI-XI線に沿う断面図である。
【図１２】表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。
【図１３】フォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図８のX-X線に沿う断面図である。
【図１４】本発明の第２実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図９のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１６】本発明の第２実施形態に係る表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。
【図１７】本発明の第２実施形態に係るフォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。
【図１８】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例（一方主面側を示す図である。
【図１９】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例（他方主面側）を示す図である。
【図２０】本発明の第３実施形態に係る基板本体の一方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。
【図２１】本発明の第３実施形態に係る基板本体の他方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。
【図２２】図２０のXXII-XXII線に沿う断面図である。
【図２３】図２１のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。
【図２４】本発明の第３実施形態に係るフォトマスクの表裏が誤ってセットされた場合の図２０のXXII-XXII線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜第１実施形態＞
以下、図面に基づいて本発明の第１実施形態に係るプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置、及びプリント配線基板を説明する。
【００２４】
本発明の第１実施形態に係るプリント配線基板の製造方法は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて行われる処理工程を含むものである。本実施形態では、基板本体にフォトマスクを用いて露光処理工程を行う露光装置に、本発明に係るプリント配線基板の製造装置を適用した例を説明する。
【００２５】
まず、本発明の第１実施形態に係る露光装置１０００について説明する。
【００２６】
図１は、本発明の第１実施形態に係る露光装置１０００の概要図である。本実施形態の露光装置１０００は、ベースプレート１０１と、このベースプレート１０１上に設置された筐体１０２とを備えている。筐体１０２内には暗室１０２ａが形成されており、その上面には露光処理のための照光装置１４０が設けられている。
【００２７】
本実施形態の露光装置１０００は、帯状の基板本体１を所定の搬送方向Ｔに沿って搬送する搬送装置１０３を備えている。搬送装置１０３は、帯状の基板本体１を搬送方向Ｔに沿って送り出す送り出しローラ１０４と、送り出された帯状の基板本体１を巻き取る巻き取りローラ１０５と、帯状の基板本体１に搬送のための力を作用させる駆動ローラ１０７と、送り出しローラ１０４と巻き取りローラ１０５との間の搬送経路に沿って帯状の基板本体１を支持するガイドローラ１０６ａ〜１０６ｌとを備えている。これらの送り出しローラ１０４、巻き取りローラ１０５、駆動ローラ１０７、及びガイドローラ１０６ａ〜１０６ｌは、帯状の基板本体１を保持する基板用フレーム（第１保持手段）１１０を構成する。ガイドローラ１０６ｅと１０６ｆは、基板本体１を所定の位置に保持する。
【００２８】
本実施形態における基板本体は、厚さが１０μm〜２５０μmの可撓性を有するポリイミド（ＰＩ）などの絶縁性基材の両主面に、銅などの金属箔が張り付けられた導体張積層板である。絶縁性基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）やポリエステル（ＰＥ）とすることができる。なお、搬送装置１０３により搬送される基板本体１の主面には感光材層が形成されている。
【００２９】
また、本実施形態の露光装置１０００は、フォトマスク２０，３０などの部材を保持するマスク用フレーム１２１と、このマスク用フレーム１２１を保持する第２保持手段１２０と、その位置を調節する位置調節装置１３０を備えている。本実施形態の位置調節装置１３０は、基板本体１の主面と平行に配置された第２保持手段１２０を移動させる駆動機構を有しており、図示しない制御装置の指令に基づいて、基板本体１に対する第２保持手段１２０の相対位置を調節する。これにより、マスク用フレーム１２１によって保持されているフォトマスク２０，３０などの部材を所望の位置にセットすることができる。
【００３０】
本実施形態では、基板本体１の一方主面の露光処理に用いられる第１フォトマスク２０と、基板本体の他方主面の露光処理に用いられる第２フォトマスク３０の２つの異なるフォトマスクが準備されている。本実施形態において、フォトマスク２０，３０は、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂製又はガラス製である。また、本実施形態のフォトマスク２０，３０は透明である。
【００３１】
ちなみに、本実施形態における「部材」は、フォトマスク２０，３０以外にも、プリント配線基板の製造工程において基板本体１と相対位置が設定されるものを含む。たとえば、本実施形態で例示するフォトマスク２０，３０のように露光装置１０００を含むプリント配線基板製造装置の製造用部材（治具を含む）に加えて、基板本体１を補強する補強板や、基板本体１の所定領域を保護するカバーレイなどの製品の部品や、製造工程において用いられるドライレジストなどの製品の加工用材料をも含む。
【００３２】
本実施形態の搬送装置１０３は、駆動ローラ１０７を駆動させることにより、帯状の基板本体１が巻回された送り出しローラ１０４から基板本体１を搬送方向Ｔに沿って送り出す。送り出された基板本体１の他端側は巻き取りローラ１０５に巻き取られる。搬送装置１０３は、基板本体１の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たら駆動ローラ１０７を停止させる。
【００３３】
また、本実施形態の露光装置１０００は、第２保持手段１２０の上方に設けられたカメラ５０を備えている。具体的に、本実施形態のカメラ５０は、露光処理時において、後述する基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４や表裏判定用マーク１１，１２などのアライメントマークに応じた位置に設けられている。基板本体１の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たら、カメラ５０は、フォトマスク２０，３０と基板本体１の各マークを含む所定領域を撮像する。このカメラ５０の撮像した各マークの画像データに基づいて画像処理を行い、その結果に基づいてフォトマスク２０，３０と基板本体１との位置合わせをすることができる。
【００３４】
図２は、基板本体１の処理領域Ｐがフォトマスク２０，３０に対向する位置に来たときに、図１の矢印II方向から見た基板とフォトマスク２０，３０を示す図である。図２に示すように、帯状の基板本体１の長手方向には露光処理がされる複数の処理領域Ｐが所定間隔で形成されており、搬送装置１０３によって、順次フォトマスク２０，３０に対向する位置に送り出される。なお、本実施形態では、複数の処理領域Ｐが連続して設けられた帯状の基板本体１を処理する例を説明するが、一つの処理領域のみが設けられた基板本体１をバッチ処理する場合でも本実施形態に係る手法を適用することができる。
【００３５】
図２に示すように、基板本体１の処理領域Ｐの各頂点の近傍には４つの円形の第１位置合わせ用マーク１３が形成されている（図４も参照）。なお、この裏面の同じ位置にも４つの円形の第２位置合わせ用マーク１４が形成されている（図５も参照）。
【００３６】
位置合わせ用マーク１３，１４の態様は特に限定されず、基板本体１の一方主面の所定位置に凹形状の第１位置合わせ用マーク１３を形成するとともに、基板本体１の他方主面の所定位置に凹形状の第２位置合わせ用マーク１４を別々に形成することができる。具体的には、基板本体１の表面の金属箔の所定領域をエッチング処理で除去することにより凹部を形成することができる。
【００３７】
また、基板本体１の所定位置に貫通孔を設けて第１位置合わせ用マーク１３と第２位置合わせ用マーク１４を同時に形成することができる。具体的には、ドリルやレーザを用いて基板本体１の所定位置を穿孔することにより貫通孔を形成することができる。
【００３８】
図２の位置合わせ用マーク１３，１４の内側に示された部材側位置合わせ用マーク２３，３４は、フォトマスク２０，３０に設けられた位置合わせ用のマークである（図７，８も参照）。なお、フォトマスク２０，３０は、所定のレジストパターンが形成された処理領域を有しており、この処理領域は基板本体１の処理領域ＰとＸＹ座標において同じ位置に設定されている。
【００３９】
次に、図３に基づいて、基板本体１に設けられた位置合わせ用マーク１３，１４について説明する。図３は、位置合わせ用マーク１３，１４の配置例を示す図である。
【００４０】
図３に示すように、本実施形態の位置合わせ用マーク１３，１４は、フォトマスク２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面の処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域Ｐの対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に形成されている。
【００４１】
本実施形態では、複数の位置合わせ用マーク１３，１４を設けることが好ましく、これら複数の位置合わせ用マーク１３，１４は点対称又は線対称の関係にある一群のマーク群として構成される。図３は、位置合わせ用マーク１３，１４を設けることが可能な候補位置を例示するものであり、上記関係にある位置であれば図３の態様に限定されず、その数も限定されない。
【００４２】
一般に、位置合わせ用マーク１３，１４は、互いに点対称又は線対称の位置に設けられるが、これは以下の理由による。フォトマスク２０，３０などの部材を用いて処理を行う場合、ワーク（基板本体１の処理領域Ｐ）の中心を基準に位置決めがなされることが望ましい。しかし、ワークの中心にアライメントマークを設けるわけにはいかないので、幾何学的にワークの中心を求めることができる位置合わせ用マーク１３，１４群を設定しなければならない。そうすると、位置合わせ用マーク１３，１４群は、ワークの中心や中心を通る軸に対して点対称又は線対称の位置に必然的に設定されることになる。
【００４３】
さらに、基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４の近傍には、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向きを判定するための表裏判定用マーク１１，１２が形成されている。これら表裏判定用マーク１１，１２の内側に示された、部材側表裏判定用マーク２１，３２は、フォトマスク２０，３０に設けられた表裏判定に用いられるマークである。ちなみに、本実施形態における基板本体１とフォトマスク２０，３０の「相対向きの正誤」とは、対向配置されるフォトマスク（部材）２０，３０と基板本体１とが向き合う面の表裏の正誤、及び対向配置されるフォトマスク（部材）２０，３０と基板本体１との上下左右の方向の正誤のいずれをも含む概念である。
【００４４】
フォトマスク２０，３０が基板本体１の対向位置にセットされたときに、照光装置１４０が基板本体１の主面に光を照射する。これにより、基板本体１の主面に塗布された感光材が露光される。この露光処理により、フォトマスク２０，３０にそれぞれ描かれたパターンが基板本体１の主面に転写され、アルカリ性水溶液で現像処理が可能なレジストが形成される。
【００４５】
ちなみに、本実施形態の露光装置１０００は、基板本体１の両主面に処理を行う装置である。まず、露光装置１０００は、基板本体１の一方主面に一方主面用の第１フォトマスク（第１部材）２０を用いて第１処理を行う。次に、作業者が、第１処理がされて巻き取りローラ１０５に巻き取られた基板本体１を、処理面の表裏が反対になるように裏返して、再び送り出しローラ１０４にセットする。さらに、作業者は、一方主面用の第１フォトマスク２０を、他方主面用の第２フォトマスク３０に取り換える。その後、露光装置１０００は、再度、基板本体１の他方主面に第２フォトマスク（第２部材）３０を用いて第２処理を行う。
【００４６】
作業者が、巻き取りローラ１０５を裏返して再び送り出しローラ１０４の位置にセットする場合に、基板本体１の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えてセットしてしまう場合がある。このように、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【００４７】
特に、基板本体１が帯状のものではなく、矩形のシート状のものである場合は、作業者がハンドリング中に基板本体１を回転させてしまい、基板本体１の上下左右の方向が変わってしまう場合がある。このように、作業者が基板又は部材の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。
【００４８】
また、作業者が一方主面用の第１フォトマスク２０と他方主面用の第２フォトマスク３０とを取り違えてセットしても、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない
【００４９】
この種のヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難である一方で、このようなヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという大きな損失をもたらす。
【００５０】
このため、本実施形態では、ヒューマンエラーが発生した場合でも、表裏判定用マーク１１，１２及び部材側表裏判定用マーク２１，３２に基づいて、基板本体１と部材２０，３０の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）の誤りを検知する方法及び装置を提案する。
【００５１】
以下において、本実施形態における基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置の正誤及び相対向きの正誤を判定する手法を、図４〜１３に基づいて説明する。
【００５２】
まず、図４及び図５に基づいて、基板本体１に設けられた位置合わせ用マーク１３，１４及び表裏判定用マーク１１，１２について説明する。
【００５３】
図４及び図５は、ともに図２のＡ領域に対応する基板本体１の主面を示す図である。図４は、基板本体１の一方主面に設けられた第１位置合わせ用マーク１３と第１表裏判定用マーク１１を示す図であり、図５は、基板本体１の他方主面に設けられた第２位置合わせ用マーク１４と第２表裏判定用マーク１２を示す図である。
【００５４】
図４及び図５に示すように、本実施形態の基板本体１の一方主面には、処理領域Ｐの頂点付近に同一の形状及び大きさの４つの第１位置合わせ用マーク１３が設けられており、他方主面の同じ位置に第２位置合わせ用マーク１４が設けられている。
【００５５】
本実施形態の基板本体１には、さらに、表裏判定用マーク１１，１２が設けられている。表裏判定用マーク１１，１２は、位置合わせ用マーク１３，１４のいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に設けられている。同図に示す例では、基板本体１の一方主面に一つの第１表裏判定用マーク１１が形成されているとともに、他方主面に一つの第２表裏判定用マーク１２が形成されている。第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２は、表裏に別々に形成することができ、貫通孔のように表裏に同時に形成することもできる。
【００５６】
図４と図５を比較すると、基板本体１の一方主面に形成された第１位置合わせ用マーク１３の位置と、基板本体１の他方主面に形成された第２位置合わせ用マーク１４の位置は同一である。つまり、基板本体１の一方主面の第１位置合わせ用マーク群１３が示す配置パターンと、基板本体１の他方主面の第２位置合わせ用マーク群１４が示す配置パターンとが一致する。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Ｑを中心に基板本体１をＸＹ平面に沿って１８０度回転させた場合も同様である。
【００５７】
本実施形態では、第１位置合わせ用マーク１３及び第２位置合わせ用マーク１４の位置、形状、大きさが同じであるため、第１位置合わせ用マーク１３及び第２位置合わせ用マーク１４によっては基板本体１の表裏や回転の有無といった基板本体１の向きを検知することはできない。
【００５８】
他方、図４及び図５の第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２の位置を比較すると、基板本体１の一方主面に形成された第１表裏判定用マーク１１のＸＹ座標上の位置と、基板本体１の他方主面に形成された第２表裏判定用マーク１２のＸＹ座標上の位置が異なる。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Ｑを中心に基板本体１をＸＹ平面に沿って１８０度回転させた場合も同様である。つまり、第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２の位置を観察することにより、基板本体１の表裏や回転の有無といった基板本体１の向きを検知することができる。
【００５９】
なお、第１表裏判定用マーク１１と第２表裏判定用マーク１２は、それぞれ複数設けることも可能である。ただし、その場合は、同一主面に形成される表裏判定用マーク１１，１２が互いに非対称の関係にあることが好ましい。言い換えると、２つの表裏判定用マーク１１，１２の位置が、基板本体１の主面の処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域Ｐの対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係に無いこと、並びに対称点Ｑ及び対称軸Ｒａ，Ｒｂ上に無いことが好ましい。
【００６０】
２つの表裏判定用マーク１１，１２を対称領域に形成すると、基板本体１を裏返した場合や対称点Ｑを中心に基板本体１を１８０度回転させた場合に、上述した位置合わせ用マーク１３，１４と同様に、２つの表裏判定用マーク１１，１２の位置が一致してしまい、本実施形態の表裏判定用マーク１１、１２としての機能が果たせなくなるからである。
【００６１】
以上に説明した位置合わせ用マーク１３，１４の位置は、後述するフォトマスク２０，３０に形成された部材側位置合わせ用マーク２３，３４の位置と比較され、表裏判定用マーク１１，１２の位置は、後述するフォトマスク２０，３０に形成された部材側表裏判定用マーク２１，３２の位置と比較される。
【００６２】
次に、図６及び図７に基づいて、フォトマスク２０，３０に設けられた部材側位置合わせ用マーク２３，３４及び部材側表裏判定用マーク２１，３２について説明する。図６及び図７は、図４及び図５のＡ領域を覆うフォトマスク２０，３０の主面を示す図である。なお、フォトマスク２０，３０処理領域Ｐは、基板本体１の処理領域ＰとＸＹ平面上において同じ位置である。
【００６３】
図６は、フォトマスク２０，３０の一方主面に設けられた第１部材側位置合わせ用マーク２３と第１部材側表裏判定用マーク２１を示す図、図７は、フォトマスク２０，３０の他方主面に設けられた第２部材側位置合わせ用マーク３４と第２部材側表裏判定用マーク３２を示す図である。
【００６４】
本実施形態における部材側位置合わせ用マーク２３，３４と部材側表裏判定用マーク２１，３２は、インク等で印刷により形成されている。フォトマスク２０，３０が透明である場合には、黒色のインクを用いることが好ましい。
【００６５】
図６及び図７に示すように、部材側位置合わせ用マーク２３，３４は、露光装置１０００の露光処理を行う基準位置に、図４及び５に示す位置合わせ用マーク１３，１４と、ＸＹ平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側位置合わせ用マーク２３，３４と基板本体１の位置合わせ用マーク１３，１４とは対向する。
【００６６】
同様に、部材側表裏判定用マーク２１，３２は、露光装置１０００の露光処理を行う基準位置に、図４及び５に示す基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２と、ＸＹ平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側表裏判定用マーク２１，３２と基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２とは対向する。
【００６７】
次に、図８及び図９に基づいて、基板本体１にフォトマスク２０，３０が対向配置された場合の置合せ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４、及び表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２について説明する。図８及び図９は、図４及び図５の基板本体１のＡ領域を覆うフォトマスク２０，３０の主面を示す図である。
【００６８】
図８は基板本体１の一方主面に第１フォトマスク２０が対向配置された状態の上面図、図９は基板本体１の他方主面に第２フォトマスク３０が対向配置された状態の上面図である。
【００６９】
基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、図８に示すように、第１部材側位置合わせ用マーク２３と基板本体１の第１位置合わせ用マーク１３とが重畳する。また、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、図８に示すように、第１部材側表裏判定用マーク２１と基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳する。
【００７０】
同様に、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、図９に示すように、第２部材側位置合わせ用マーク３４と基板本体１の第２位置合わせ用マーク１４とが重畳する。また、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、図９に示すように、第２部材側表裏判定用マーク３２と基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳する。
【００７１】
この状態の断面図を図１０及び図１１に示す。図１０は図８のX-X線に沿う断面図であり、図１１は図９のXI-XI線に沿う断面図である。
【００７２】
図１０及び図１１に示す第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２は、基板本体１の表面に形成された凹部で構成されている。この凹部を含む領域に光を照射すると、凹部に当たった光の反射光の強さと、その周囲の主面１Ａ，１Ｂに当たった光の反射光の強さに変化が出る。光を照射した状態で、第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２を含む領域を矢印Ａ１，Ｂ１の方向に沿ってカメラ５０で撮像すると、第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１を含む撮像画像、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２を含む撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、両マークの位置関係に関する情報を得ることができる。
【００７３】
本実施形態の露光装置１０００は、撮像画像から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図８，９中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【００７４】
また、本実施形態の露光装置１０００は、撮像画像から得られた第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１との位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２の位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【００７５】
図１２は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合にも、図１２と同様の、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像を得ることができる。
【００７６】
なお、図１２は、図１０、図１１に示す矢印Ａ１に沿う方向から見た位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像、又はＢ１に沿う方向から見た表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。
【００７７】
図１２に示すように、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合には、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が重畳している旨の分析結果、又は位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳している旨の分析結果を得ることができる。
【００７８】
このように、表裏判定用マーク１１，１２の位置と部材側表裏判定用マーク２１，３２の位置が重畳している場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定でき、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳している場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされていると判定できる。
【００７９】
他方、図１３に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置が合っていれば位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が重畳した図１２に示すような像を得ることができるものの、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が重畳した図１２に示すような像を得ることはできない。
【００８０】
このような場合には、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が誤った向きにセットされたと判定できる。なお、図１３には、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０の上下左右の方向が相対的に誤ってセットされた場合も同様である。
【００８１】
本実施形態の露光装置１０００では、表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像との位置関係に基づいて、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされたと判断してから、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像の位置関係により、基板本体１に対するフォトマスク２０，３０の位置を合わせることができる。
【００８２】
その結果、基板本体１を裏返す作業を含む場合に、作業者が、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０の向き（表裏及び／又は上下左右の方向）を誤ってセットした場合であっても、その誤りを検知することができる。
【００８３】
以上のとおり、本実施形態における表裏判定用マーク１１，１２は非対称領域に設けられているので、基板本体１とフォトマスク２０，３０の向きが正しい場合には表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２とが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マーク１１、１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２が対向しない。したがって、この表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。
【００８４】
＜第２実施形態＞
続いて、本発明の第２実施形態に係る露光装置１０００、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置１０００及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第１実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第１実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
【００８５】
図１４及び図１５は、本発明の第２実施形態に係る基板本体１とフォトマスク２０，３０の断面図であり、図１４は第１実施形態において説明した図８のX-X線に沿う断面図に相当する断面図、図１５は同図９のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。
【００８６】
図１４及び図１５に示すように、第２実施形態における表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は、断面が円形の貫通孔により形成されている。貫通孔はドリル加工やレーザ加工などの一般的な手法により形成することができる。
【００８７】
また、フォトマスク２０，３０には、表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成されているとともに、位置合わせ用マーク１３，１４に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側位置合わせ用マーク２３，３４が形成されている。
【００８８】
本実施形態では、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を遮光するため、黒色のインクにより部材側表裏判定用マーク２１，３２及び部材側位置合わせ用マーク２３，３４が形成されている。
【００８９】
フォトマスク２０，３０を基板本体１の対向位置に正しくセットすると、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２が対向し、位置合わせ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４とが対向する。
【００９０】
基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は貫通孔で構成されているので、この貫通孔を含む領域を図１４及び図１５に示す矢印Ａ１及びＡ２の方向からカメラ５０で撮像すると、貫通孔の輪郭と貫通孔の内縁よりも内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２又は部材側位置合わせ用マーク２３，３４が存在する画像を得ることができる。具体的には、第１表裏判定用マーク１１と、その内側に位置する第１部材側表裏判定用マーク２１を含む二重円の撮像画像、第２表裏判定用マーク１２と、その内側に位置する第２部材側表裏判定用マーク３２を含む二重円の撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、その位置関係の情報を得ることができる。
【００９１】
本実施形態の露光装置１０００の判定装置７０は、撮像画像から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図８，９中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【００９２】
また、本実施形態の露光装置１０００の判定装置７０は、撮像画像から得られた第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１との位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２の位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【００９３】
図１６は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合にも、図１６と同様の、位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像を得ることができる。
【００９４】
なお、図１６は、図１４、図１５に示す矢印Ａ１に沿う方向から見た位置合わせ用マーク１３，１４の像と部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像、又はＢ１に沿う方向から見た表裏判定用マーク１１，１２の像と部材側表裏判定用マーク２１，３２の像である。
【００９５】
図１６に示すように、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合には、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が内在する二重円を観察することができる。同様に、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされた場合には、位置合わせ用マーク１３，１４の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する二重円を観察することができる。
【００９６】
このように、表裏判定用マーク１１，１２の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２が内在する場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定できる。また、位置合わせ用マーク１３，１４の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされていると判定できる。
【００９７】
他方、図１７に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク１３，１４の内側に部材側位置合わせ用マーク２３，３４の像が内在する像（図１６を参照）を得ることができるものの、表裏判定用マーク１１，１２の貫通孔の輪郭の内側に部材側表裏判定用マーク２１，３２の像が内在する像（図１６を参照）を得ることができない。
【００９８】
このような場合には、基板本体１に対してフォトマスク２０，３０が誤った向き（表裏又は上下左右の向き）にセットされたと判定できる。なお、図１７には、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０の上下左右の方向が誤ってセットされた場合も同様である。
【００９９】
また、本実施形態に係る露光装置１０００は、表裏判定用マーク１１，１２と対向する第１の位置Ｋ１と、位置合わせ用マーク１３，１４と対向する第２の位置Ｋ２との間で、カメラ５０を手動で往復移動させる移動機構をさらに備えている。移動機構は、具体的に、本実施形態における移動機構は、スライドレール５１と、カメラ５０を支持してスライドレール５１を往復移動する支持体５２とを有する。支持体５２は、図外のロックピンを備え、位置決めされたカメラ５０を少なくとも一時的に固定する。
【０１００】
このように、カメラ５０の移動機構を備えることにより、表裏判定用マーク１１，１２を撮像するカメラ５０と、位置合わせ用マーク１３、１４を撮像するカメラ５０とを共用することができるので、表裏判定用マーク１１，１２用のカメラ５０を増設する必要がなく、設備コストを低減させることができる。
【０１０１】
また、スライドレール５１と支持体５２との簡単な手動構造の移動機構によって、カメラ５０の位置を変更できるので、カメラ５０の位置を自動的に変更するためのアクチュエータや制御回路などの駆動機構を必要とせず、設備コストを低減させることができる。加えて、多くの部品を備える駆動機構から生じる塵によって製品品質に悪影響を与えることも防止できる。
【０１０２】
図示はしないが、カメラ５０には、カメラ５０の位置を認識する位置センサが併設されている。カメラ５０は、基板本体１の一方主面が処理面（撮像面）であるときのカメラ５０の位置及び基板本体の他方主面が処理面（撮像面）であるときのカメラの位置を予め記憶している。本実施形態のカメラ５０は、位置センサにより検出されたカメラ５０の位置と、製造ラインの管理システムを介して入力された基板本体１の処理面の特定情報（一方主面又は他方主面の特定情報）に基づいて、予め記憶している処理面とカメラ位置との対応関係を参照して、カメラ５０の位置の適否を判断する。カメラ５０の位置が適当でない場合には、その旨の警報を図外のスピーカなどの出力装置を介して出力する。
【０１０３】
以上のように構成される本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用及び効果も奏することができる。
【０１０４】
＜第３実施形態＞
続いて、本発明の第３実施形態に係る露光装置１０００、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置１０００及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第１実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第１実施形態及び第２実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
【０１０５】
第３実施形態において、基板本体１に形成される表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４は、貫通孔により形成されている。貫通孔は第１実施形態と同様の手法により形成することができる。表裏判定用マーク１１，１２及び位置合わせ用マーク１３，１４が形成される位置は、図４及び図５に示す第１実施形態と共通する。
【０１０６】
図１８及び図１９は、本実施形態に係る、フォトマスク２０，３０に形成される部材側表裏判定用マーク２１，３２及び部材側位置合わせ用マーク２３，３４の配置例を示す図である。図１８はフォトマスク２０，３０の一方主面側を示し、図１９はフォトマスク２０，３０の他方主面側を示す。図１８及び図１９は、図４及び図５のＡ領域を覆うフォトマスクの主面を示す図である。
【０１０７】
同図に示すように、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａが形成されている。
【０１０８】
また、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａに対して、基板本体１と相対位置が設定されるフォトマスク２０，３０の処理領域の中心を対称点Ｑとする点対称、若しくは対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂが形成されている。
【０１０９】
つまり、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂとは、対称点Ｑに対して点対称、又は対称軸Ｒａ，Ｒｂに対して線対称の関係にある。なお、第１実施形態と同様に、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂは、対称軸Ｒａ，Ｒｂ上に配置しないことが好ましい。
【０１１０】
本実施形態においては、表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に設けられている部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと、これらに対して対称領域に設けられている部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂと、を区別できればよいので、部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａと部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂとは、透光性／遮光性について反対の性質を備えていればよい。
【０１１１】
具体的には、本実施形態に係るフォトマスク２０，３０には、基板本体１の表裏判定用マーク１１，１２に応じた位置に遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａを形成し、この遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａに対して、基板本体１と相対位置が設定されるフォトマスク２０，３０の処理領域の中心を対称点Ｑとする点対称、若しくは対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある対称領域に、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂを形成してもよい。
【０１１２】
また、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂは、基板本体１に形成される貫通孔の開口部を覆うように貫通孔の直径よりも大きく形成されている。本実施形態では、遮光性の部材側表裏判定用マーク２１ｂ，３２ｂ及び部材側位置合わせ用マーク２３ｂ，３４ｂを、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を遮光する黒色のインクを印刷することにより形成する。他方、透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び部材側位置合わせ用マーク２３ａ，３４ａを形成するにあたっては、透明なフォトマスク２０，３０の所定領域を透光させるために、何も設けないことにより透光性の部材側表裏判定用マーク２１ａ，３２ａ及び部材側位置合わせ用マーク２３ａ，３４ａを形成する。
【０１１３】
図２０は、基板本体１の一方主面１Ａに第１フォトマスク２０が対向配置された状態の上面図、図２１は基板本体１の他方主面１Ｂに第２フォトマスク３０が対向配置された状態の上面図である。
【０１１４】
図２０及び図２１に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい位置（図中ＸＹ座標上の位置）にセットされた場合は、第１実施形態と同様に、第１部材側位置合わせ用マーク２３と基板本体１の第１位置合わせ用マーク１３とが重畳する。
【０１１５】
また、図２０に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳するとともに、遮光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ｂと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とは重畳しない。
【０１１６】
同様に、図２１に示すように、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２が重畳するとともに、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２は重畳しない。
【０１１７】
本状態の断面の状態を図２２及び図２３に示す。図２２は図２０のXXII-XXII線に沿う断面図であり、図２３は図２１のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。図２２及び図２３に示す第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２は、基板本体１の表裏を貫通する貫通孔で構成されている。この貫通孔を含む領域に光L１を照射すると、貫通孔に入射した光が透明なフォトマスク２０の透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａが透過するので、光源とは反対側で貫通孔を通過した光を検知することができる。光L１は、照光装置１４０により照射することができる。
【０１１８】
本実施形態では、第１表裏判定用マーク１１及び第２表裏判定用マーク１２となる貫通孔の開口部に対向する位置に透光センサ６０を設けているので、貫通孔を通過した光の有無を検出することができる。
【０１１９】
図２２に示すように、基板本体１の一方主面に対して第１フォトマスク２０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａと基板本体１の第１表裏判定用マーク１１とが重畳するため、光Ｌ１を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透光性の第１部材側表裏判定用マーク２１ａを透過し、透光センサ６０が光を検知することができる。
【０１２０】
同様に、図２３に示すように、基板本体１の他方主面に対して第２フォトマスク３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされた場合は、透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳するため、光Ｌ１を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透明なフォトマスク２０の透光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ａを透過し、透光センサ６０が光を検知することができる。
【０１２１】
このように、透光センサ６０が表裏判定用マーク１１、１２を透過する光を検知できた場合は、基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向きにセットされていると判定できる。基板本体１の主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい位置にセットされているか否かは第１実施形態及び第２実施形態と同様の手法により判定できる。
【０１２２】
他方、基板本体１の他方主面に対してフォトマスク２０，３０が正しい向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）にセットされていない場合は、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂと基板本体１の第２表裏判定用マーク１２とが重畳するため、光Ｌ１を照射しても、貫通孔を介して入射した光が、遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂで遮光され、透光センサ６０が光を検知することができない。
【０１２３】
具体的には、図２４に示すように、基板本体１にフォトマスク２０，３０の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク１３，１４と部材側位置合わせ用マーク２３，３４との位置が合致するものの、光Ｌ１は遮光性の第２部材側表裏判定用マーク３２ｂに遮られるので、透光センサ６０が光を検知することができない。
【０１２４】
本実施形態の露光装置１０００は、透光センサ６０の光の検出結果から第１表裏判定用マーク１１と第１部材側表裏判定用マーク２１ａとの位置関係、及び第２表裏判定用マーク１２と第２部材側表裏判定用マーク３２ａの位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対向き（表裏及び／又は上下左右の方向を含む）の正誤を判定することができる。
【０１２５】
加えて、第１実施形態と同様に、本実施形態の露光装置１０００は、透光センサ６０から得られた第１位置合わせ用マーク１３と第１部材側位置合わせ用マーク２３との位置関係、及び第２位置合わせ用マーク１４と第２部材側位置合わせ用マーク３４との位置関係に基づいて、基板本体１とフォトマスク２０，３０の相対位置（図２０，２１中ＸＹ座標上の位置）の正誤を判定することができる。
【０１２６】
以上のように構成される本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用及び効果をも奏することができる。
【０１２７】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【符号の説明】
【０１２８】
１０００…露光装置，プリント配線基板の製造装置
１０１…ベースプレート，１０２…筺体，１０２ａ…暗室
１０３…搬送装置，１０４…送り出しローラ，１０５…巻き取りローラ，
１０６ａ〜１０６ｌ…ガイドローラ，１０７…駆動ローラ
１１０…基板用フレーム，第１保持手段
１２０…第２保持手段
１２１…マスク用フレーム
１３０…位置調節装置
１４０…照光装置
１…基板本体，帯状の基板本体
１Ａ…基板本体の一方主面
１Ｂ…基板本体の他方主面
Ｐ…処理領域
Ｑ…対称点
Ｒａ，Ｒｂ…対称軸
１１…第１表裏判定用マーク，貫通孔
１２…第２表裏判定用マーク，貫通孔
１３…第１位置合わせ用マーク
１４…第２位置合わせ用マーク
２０…第１部材，第１フォトマスク
２１,２１ａ，２１ｂ…第１部材側表裏判定用マーク
２３…第１部材側位置合わせ用マーク
３０…第２部材，第２フォトマスク
３２…第２部材側表裏判定用マーク
３４…第２部材側位置合わせ用マーク
５０…カメラ
５１…スライドレール
５２…支持体
６０…透光センサ
７０…判定装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークとが形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むプリント配線基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項５】
プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置において、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第１保持手段と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第２保持手段と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項６】
請求項５に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークと対向する第１の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第２の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるプリント配線基板の製造装置。
【請求項８】
請求項５に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むプリント配線基板の製造装置。
【請求項９】
請求項５〜８の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項１０】
基板本体を備え、
前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有することを特徴とするプリント配線基板。
【請求項１】
プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークとが形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むプリント配線基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
【請求項５】
プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置において、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第１保持手段と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第２保持手段と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項６】
請求項５に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークと対向する第１の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第２の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるプリント配線基板の製造装置。
【請求項８】
請求項５に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むプリント配線基板の製造装置。
【請求項９】
請求項５〜８の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するプリント配線基板の製造装置。
【請求項１０】
基板本体を備え、
前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有することを特徴とするプリント配線基板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【公開番号】特開２０１１−１５５１８３（Ｐ２０１１−１５５１８３Ａ）
【公開日】平成２３年８月１１日（２０１１．８．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１６５６３（Ｐ２０１０−１６５６３）
【出願日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【出願人】（０００００５１８６）株式会社フジクラ (4,463)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月１１日（２０１１．８．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【出願人】（０００００５１８６）株式会社フジクラ (4,463)
【Ｆターム（参考）】
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