【課題】フィルムの熱膨張及び熱収縮並びに蛇行等により、露光対象のフィルムが幅方向に変形又は偏倚した場合においても、マスクを取り替えることなく、フィルムに対し高精度で所定位置に露光できるようにする。
【解決手段】露光対象のフィルム１に対し、光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、照射される。マスク２には、フィルム移動方向に対して傾斜する複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅及び間隔は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、カメラ７により検出される基板アライメントマーク１ａ及びマスクアライメントマーク２ｅの位置に基づいて、マスク２をアパーチャ３に対して相対的にフィルム移動方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度よく基板を露光装置のワークチャックに搭載して、タクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及び基板のプリアライメント方法を提供する。
【解決手段】ロボット１７は、基板載置台２５で基板Ｗを保持して処理ユニット１４から露光装置１５に搬送する。基板載置台２５で保持されている基板Ｗは、センサ３０ａ，３０ｂ，３０ｃが、互いに直交する２辺２６、２７に設けられた切欠き２８ａ、２８ｂ、２９を検出し、この検出結果と所定の基準位置とから算出されるズレ量に基づいて、制御部１８が基板載置台２５をＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動、且つθ方向に回転させて、基板Ｗをプリアライメントする。 （もっと読む）

【課題】露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光の照射位置よりも上流側にアライメントマーク形成部１３が設けられており、露光対象部材２に移動方向に対して断続的な指標が付されたアライメントマーク２ａを形成する。検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向におけるアライメントマーク２ａの指標位置における位置を検出する。そして、検出部１４の検出結果によりアライメントマーク２ａの蛇行量を演算し、アライメントマーク形成部１３を移動させる。又は、検出部１４が露光光の照射位置に対応するように配置されている場合は、マスク１２の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】被製造物等を位置合せする基準となるアライメントマークを含んだ画像を辞書画像として登録する作業を、位置合せの際の画像処理に必要な条件を理解していない者でも適正に行えるようにする。
【解決手段】位置合せの対象物に付されたアライメントマークを撮影した画像のうち、辞書画像として登録する領域を設定する操作を行うための操作部と、制御部とを備え、制御部は、アライメントマーク３１を撮影した画像が表示される表示装置の画面２０上に、操作部の操作によって辞書画像として登録する領域を設定するためのＧＵＩ２１〜２３を表示させるとともに、辞書画像として登録する領域を設定する際の操作ガイダンス２４をウィンドウ表示させる処理と、操作部の操作によって現在設定されている領域内の画像の濃度又は輝度のレベル値に関するヒストグラム２５のデータを作成し、そのデータを画面２０上にウィンドウ表示させる処理とを行う。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電粒子線を用いる描画装置であってベースラインの計測精度の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】複数の荷電粒子線のうち少なくとも一つの荷電粒子線のそれぞれについて、ウエハステージ１３上に形成された基準マーク２１に入射する荷電粒子線の第１方向に対する角度を取得し、前記取得された角度が許容範囲内である一つの荷電粒子線を決定し、前記決定された荷電粒子線を用いて、前記基準マークから到達する荷電粒子を検出して、前記基準マークの位置を計測する第２計測器２４により計測された前記基準マーク２１の位置と、マークからの反射光を検出してマークの位置を計測する第１計測器２２により計測された前記基準マークの位置とから、前記第１計測器２２に関するベースラインを求める。 （もっと読む）

【課題】露光領域間におけるパターンシフト量に対して、速く且つリアルタイム的に測定でき、不良検出率及び歩留まりを向上することができる露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マークを提供する。
【解決手段】当該方法は、二回の露光及び他のパターニングプロセスによって、少なくとも一対の所定位置関係を有する導電測定マークを形成する工程と、少なくとも一対の導電測定マークに対して電気的特性の検定を行い、電気的特性が前記所定位置関係に合わない場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が不合格であると確定し、電気的特性が前記所定位置関係に合う場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が合格であると確定する工程とを含む。本発明は露光領域間におけるパターンシフト量の測定に適用される。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構でマスクと基板ステージとの位置関係情報を高精度に計測する。
【解決手段】マスクアライメント系１２Ａであって、マスクＭＡに形成されたマスクマーク１５Ａ，１５Ｂのうちのマスクマーク１５Ａを照明する照明系と、プレートステージＰＳＴに設けられ、基準マーク２７Ａ，２７Ｂが形成された基準マーク部材２６と、基準マーク２７Ａの形成面と基準マーク２７Ｂの形成面とを光学的に共役にするリレー光学系２９Ａと、マスクマーク１５Ａ，１５Ｂ及び基準マーク２７Ａ，２７Ｂの像を共通の撮像面で検出する撮像ユニット１４Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに対する着色画素の位置ズレを算出するバーニアで、顕微鏡の焦点深度に影響されず、測定用マークのフリンジ部に影響されず精度よく、安定して位置ズレを算出するバーニア、及び露光位置の測定方法を提供する。
【解決手段】１）バーニアＶ２は、第一測定用マークＭ１１と第二測定用マークＭ１２で構成され、２）第一測定用マークは、遮光部Ｓと第一開口部Ｋａ−Ａと第二開口部Ｋａ−Ｂからなり、第二測定用マークは、遮光部上に形成されており、３）第二測定用マークの重心Ｄは、第一開口部の重心Ａと第二開口部の重心Ｂを結ぶ直線を底辺とする二等辺三角形又は直角二等辺三角形の頂点Ｃに位置すること。バーニアから一定距離離れた位置に、測定に用いる顕微鏡を移動させるためのターゲットマークＴＭを備えていること。 （もっと読む）

【課題】導体で形成された配線パターンが積層されてなる多層配線板において、前記多層配線板の表層に形成されたフォトレジスト層に対し精度良く露光を行う。
【解決手段】多層配線板の微小領域に交番磁場を印加し計測対象パターン２で誘起された起電力の電圧値を検出する計測部５と、レーザ光を照射してフォトレジスト層を露光するレーザ露光部６と、レーザ露光部６を制御する制御部Ｃｏｎｔを備え、制御部Ｃｏｎｔが電圧値及び位置データより取得した多層配線板１の位置情報をもとに、露光パターンを決定し、レーザ露光部６を駆動してレーザ光を走査させつつ照射してフォトレジスト層の露光を行う配線パターン露光装置Ａ。 （もっと読む）

【課題】導体で形成された配線パターンが積層されてなる多層配線板において、前記多層配線板の表層に形成されたフォトレジスト層に対し精度良く露光を行う。
【解決手段】多層配線板の微小領域に交番磁場を印加する磁気ヘッド５１と、計測対象パターン２で誘起された起電力の電圧値を検出する検出電極５２と、フォトレジスト層と対向して配置されたフォトツール６１を含む露光部６と、露光部６を制御する制御部Ｃｏｎｔを備え、制御部Ｃｏｎｔが電圧値及び位置データより取得した多層配線板１の位置情報をもとに、フォトツール６１の位置決めを行い、フォトツール６１を使ってフォトレジスト層の露光を行う配線パターン露光装置Ａ。 （もっと読む）

【課題】マルチヘッドを有する直描露光機は、ヘッド間の描画境界において重複露光を行うことが一般的である。この際、ヘッドの位置調整にずれ等が発生すると重複して露光する領域のパターン形状に不具合が生じる。
【解決手段】マルチヘッドを有する直描露光機が基板を露光する際の露光ヘッド間の重複露光領域や折り返し露光領域に線幅や抵抗を評価するＴＥＧを配置し、それらの測定値の変動を捕らえることで、複露光ヘッドの位置調整ずれを検出する。 （もっと読む）

【課題】印刷用紙の伸びに伴う各色間の見当のずれをなくし、不良印刷物が生じないようにする。
【解決手段】例えば、２色目の刷版へ画像を焼き付ける場合、印刷用紙の伸び量に応じて設定されている補正量としてｗ１，ｗ２，ｈを読み出し、この補正量に基づいてその画像の焼付開始位置を（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ１−ｗ１，Ｙ１）に調整し、Ｘ軸方向の画素の間隔ΔＸをＷ／ｎから（Ｗ＋ｗ１＋ｗ２）／ｎに調整し、Ｙ軸方向の画素の間隔ΔＹをＨ／ｍから（Ｈ＋ｈ）／ｍに調整する。３色目、４色目も同様にして、画像の焼付開始位置（Ｘ１，Ｙ１）、Ｘ軸方向の画素の間隔ΔＸ、Ｙ軸方向の画素の間隔ΔＹを調整する。なお、歪み方向の補正は、用紙変形機能を有する紙搬送装置を用いて行う。 （もっと読む）

画像処理ドラム上に取り付けられる印刷版の整列を決定し、画像と印刷版の基準縁部との間の位置決め及び整列を維持しながら画像を印刷版に適用するための装置及び方法は、印刷版を製版機上に取り付け、次に、基準縁部上の少なくとも１つの地点の場所を決定するステップを含む。２つ又はそれよりも多くの基準地点の場所は、変換画像データを生むために画像データに適用される変換を決定するために使用される。変換画像データは印刷版を画像処理するために使用される。

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【課題】
電子ビーム露光における、アライメントマーク検出精度を向上する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、（ａ）半導体ウエハにチップ内の半導体装置の構造を形成すると共に、アライメントマークを形成する工程と、（ｂ）前記半導体ウエハに被加工層を形成する工程と、（ｃ）前記アライメントマークを露出する工程と、（ｄ）前記被加工層上に電子ビームレジスト膜を塗布する工程と、（ｅ）前記アライメントマークを電子ビームで走査し、前記アライメントマークの位置情報を求め、位置情報の差分を得る工程と、（ｆ）前記位置情報の差分に基づき、異常値を除去する工程と、（ｇ）異常値を除去したアライメントマークの位置情報に基づき、電子ビーム露光を行う工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測して、描画処理に反映させる。
【解決手段】計測用ワーク３６ａを露光ヘッドに対して相対的に搬送する第１の搬送部１００と、計測用ワーク３６ａに対して複数のテストパターン画像を露光ヘッドによって連続的に描画する第１の描画部１０２と、計測用ワーク３６ａに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも計測用ワーク３６ａの相対的な搬送誤差を計測する計測部１０４と、前記搬送誤差に基づいて、描画タイミングと画像の変形に関する情報を作成する補正部１０６と、正規のワーク３６を露光ヘッドに対して相対的に搬送する第２の搬送部１０８と、正規のワーク３６に対して描画すべき画像を、補正部１０６にて作成された情報に基づいて描画する第２の描画部１１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム描画装置で用いられる微小なフィールドを高精度に偏向校正し得る電子ビーム描画技術を提供する。
【解決手段】電子ビームを偏向手段により高速偏向走査３０１で移動させて周期性を有したパターン状電子ビーム３０５の形成を繰り返し行う機能と、その繰り返しの一周期と同期して周期性を有した校正用マーク３０６上にパターン状電子ビーム３０５を前記偏向手段により低速偏向走査３０３で移動させる機能と、低速偏向走査３０３により校正用マーク３０６およびその近傍から放出される反射電子もしくは２次電子または校正用マーク３０６を透過した透過電子を検出して、その検出結果から前記電子ビームの位置もしくは偏向量の校正を行う。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、半導体素子やプリント配線板などにおけるフォトリソグラフィ工程或いは単に感光性樹脂を硬化させる工程における露光技術に関し、小型化、高性能化に伴ない高い位置精度が必要とされる場合でも、的確にアライメントマークの検出し、パターンを形成することができる、パターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
基板上に感光性樹脂のパターンを形成する工程において、パターン形成部以外の部分を露光し、現像したアライメントマークが存在た後で、パターン部に対し露光、現像を行なうことにより解決した。 （もっと読む）