【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットＢＬを吸着保持する吸着ステージ５１の上面５１０と、アライメントパターンＡＰ２を下方から撮像するための石英窓５２ａの上面５２０とを同一平面とせず、石英窓５２ａの上面５２０を下方に後退させて配置する。ブランケットＢＬと石英窓５２ａとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。石英窓５２ａの上面５２０の上方に形成されたギャップ空間ＧＳに真空吸着されたブランケットＢＬが引き込まれて変形するのを防止するため、気体流路５１８およびバルブＶ５３を介してギャップ空間ＧＳ内の気圧を調整する。 （もっと読む）

【課題】２つの基板のそれぞれに形成されたアライメントマークの両方に同時にピントを合わせることができない場合であっても、それらの位置合わせを高精度に行うことを可能にする。
【解決手段】パターンを転写される基板に形成されるアライメントマークＡＭ１は、正方形の中実図形であるアライメントパターンＡＰ101〜ＡＰ109、ＡＰ111〜ＡＰ114を配列してなるものとする。一方、基板に転写すべきパターンを担持するブランケットには、アライメントマークＡＭ２として、環状の中空矩形のアライメントパターンＡＰ２をパターンと同じ材料で形成する。アライメントマークＡＭ１は、低い空間周波数成分をアライメントパターンＡＰ２よりも多く含むパターンにより構成されており、ピントが合わない状態で撮像された場合でも重心位置を精度よく検出することが可能である。 （もっと読む）

【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットＢＬを吸着保持する吸着ステージ５１の上面５１０と、アライメントパターンＡＰ２を下方から撮像するための石英窓５２ａの上面５２０とを同一平面とせず、石英窓５２ａの上面５２０を下方に後退させて配置する。ブランケットＢＬと石英窓５２ａとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム２には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域４が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク３のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム２の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク２ｃが設けられており、この伸縮確認用マーク２ｃをマスクアライメントマークと共にカメラ５１により観察し、制御部７は、伸縮確認用マーク２ｃがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部６により、このずれに応じてマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】フィルム基材の熱膨張に拘わらず、所定の間隔で偏光部を形成することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム１０は、バックロール５に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム１０はバックロール５によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、２個のスリットマスク７，１７が配置されている。このスリットマスク７，１７は、露光光源６，１６からの露光光を帯状にしてフィルム１０に照射する。このフィルム１０がバックロール５に接触する手前に、冷却ロール８が配置されていて、冷却ロール８はフィルム１０に転動してこれを冷却する。 （もっと読む）

【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】
熱によるフィルムの変形を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
ディスプレイ用のフィルム７を、搬送しながらフォトマスク３，４を介して露光する露光装置であって、開口部３１を有する第１フォトマスク部３と、前記フィルム７の搬送方向Ａと垂直な方向において、前記開口部３１よりも細幅に形成され、前記開口部３１の全幅に渡って所定間隔で配置された複数の小開口部４１を有する第２フォトマスク部４と、を含んで構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５から出射されたアライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。アライメント時には、マイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間に移動され、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。カメラ６は、基板アライメントマーク１ａをマスクアライメントマーク２ａと共に複数回撮像し、撮像された像が重ね合わせられ、第２の制御装置９は、検出されたアライメントマークにより、基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】チップファースト型のＦＯ−ＷＬＰにおいて、再配線層を適切に形成できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、複数の半導体チップ９１が間隔をあけて配列された疑似ウェハ９を載置するステージ１１と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９を撮像する撮像ヘッド１４と、再配線層の回路パターンを記述した描画データ８を記憶する記憶装置１６４と、撮像ヘッド１４が取得した画像データに基づいて疑似ウェハに配置された各半導体チップ９１の理想位置からの位置ずれ量を特定し、描画データ８に記述された回路パターンを、当該回路パターンが接続対象とする端子パッドが配置されている半導体チップ９１の位置ずれ量に基づいて補正する補正処理部２４と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９に対して光を照射して、疑似ウェハ９に補正後の回路パターンを描画する光学ヘッド１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する途中での、基板の取り外しを前提とする基板保持部材の採用を可能にする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に複数の区画領域（ＳＡ１、ＳＡ２等）を形成するに当たり、基板Ｐ上に区画領域を形成する度毎に、基板Ｐを該基板Ｐの面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板Ｐの同一の検出対象部（例えばエッジ）の位置情報を例えば複数のセンサ１２２Ｘ_１、１２２Ｘ_２、１２２Ｙ_１を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板Ｐを露光領域ＩＡに対して位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】光学的に位置を評価する機器及び方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ機器は、表面上に位置合わせマークを有する基板を支持する基板テーブルを備える。この機器はさらに、走査動作モード又はステップ動作モードを実現するために、この基板に対して相対的に移動可能なフレームを備える。基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。このフレームに取り付けられた複数の位置合わせマーク検出器は、それぞれの直線駆動機構を使用してこのフレームに関して移動可能である。各位置合わせマーク検出器に関連する位置センサは、フレームに対する相対的な検出器の位置を求める。制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 （もっと読む）

【課題】フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置において、露光面上に生じる皺を抑制することで、露光面上に精度の高いマスクパターンを形成する。
【解決手段】フィルム露光装置１は、フィルム搬送部２と、フォトマスク３と、マスク保持部４と、光照射部５とを備える。フォトマスク３は、被露光体Ｆの搬送方向に沿って配置される第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を備える。マスク保持部４は、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間に被露光体Ｆの搬送方向に交差して延設し且つ露光面ａに対して立設した遮光板４１を備え、遮光板４１の延設方向に沿ってエアが吹き出され、開口４ａを介してフォトマスク３を冷却するエア吹き出し口４２（４２Ａ，４２Ｂ）を備える。 （もっと読む）

【課題】フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する装置において、露光面上に生じる皺を抑制し、精度の高いパターンを形成する。アライメントカメラを配置するためのスペースを確保する。
【解決手段】フィルム露光装置１は、フィルム搬送部２と、フォトマスク３と、フォトマスク３を被露光体Ｆの露光面ａ上に保持するマスク保持部４と、フォトマスク３のマスクパターンに光を照射する光照射部５とを備える。フォトマスク３は、被露光体Ｆの搬送方向に沿って第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を備える。フィルム搬送部２は、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の位置に対応して配置した一対のバックロール２１，２２を備え、一対のバックロール２１，２２で露光面ａの逆側の面を支持している。一対のバックロール２１，２２の間にアライメントカメラ６を配置するスペースを確保する。 （もっと読む）

【課題】 検出エリア内にアライメントマークの一部のみしか配置されていない場合においても、その位置を正確に認識することが可能なアライメントマークの位置検出方法を提供する。
【解決手段】 アライメントマークの形状を形状情報として記憶する記憶工程と、検出エリアを直線部分の方向と直交する方向に微分するとともに直線部分の方向に射影加算することによりアライメントマークの直線部分の両端の位置を検出する両端検出工程と、アライメントマークの直線部分の両端の間の領域を端縁検出領域として設定し、この端縁検出領域を微分および射影加算することによりアライメントマークの先端の位置を検出する先端検出工程と、アライメントマークの先端の位置とアライメントマークの形状情報とに基づいてアライメントマークの位置を認定する位置認定工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光ギャップやアライメントの検出部を移動させることなく露光を行う露光装置を提供する。
【解決手段】所定の露光位置に被露光基板を移動させ保持する基板ステージと、フォトマスクを保持するフォトマスクホルダと、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクに露光光を照射する露光光照射光学部と、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクと被露光基板とのギャップを所定のギャップ検出ポイントにおいて検出するギャップセンサーと、フォトマスクホルダに保持された状態のフォトマスクと被露光基板との位置関係を所定のアライメント検出ポイントにおいて検出するアライメントカメラと、を備えた露光装置において、フォトマスクのうち露光光が照射される露光光照射領域の外側のフォトマスクの外縁部領域に、ギャップ検出ポイントとアライメント検出ポイントとを配設する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５は、例えばカメラ６が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射する。アライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。露光用のマイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間にも存在し、これにより、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。そして、カメラ６により検出されたマスクアライメントマーク２ａの反射光及び基板アライメントマーク１ａにより、制御装置９は基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】
前に露光した被露光基板のアライメントのずれから算出した補正量に基づき、後に露光する被露光基板のアライメントを補正することにより、アライメント精度を向上させることができる被露光基板のアライメント補正方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】
搬送方向Ａに搬送されてきた被露光基板１のアライメントのずれを観測するために、被露光基板１上に予め定められた第１観測点１４及び第２観測点１５の座標を検出する座標検出ステップと、前記検出された座標と前記第１観測点１４及び第２観測点１５に応じて予め定められた基準線とのずれに基づき補正量を算出する補正量算出ステップと、前記算出された補正量に基づき後に露光する被露光基板１のアライメントを補正するアライメント補正ステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】ワーク・アライメントマーク（ワークマーク）の見え方が異なったとしても、ワークマークを正しく検出することができるようにすること。
【解決手段】作業者は、暗視野照明手段である照明手段１０ｃの高さをワークマークがクリアに見える位置に設定し、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上のワークマークＷＡＭ像を撮像し、登録パターンとして制御部１１の記憶部１１ｂに登録する。ワークマークを検出する際、制御部１１のアライメントマーク検出部１１ｃは、照明手段移動手段５により照明手段１０ｃの高さを変化させながら、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上をサーチし、ワークＷ上のパターンと登録パターンとを比較して一致度を求め、一致度が高いパターンが見つかると、このパターンをワークマークとして検出する。このワークマークを使って位置合わせ制御部１１ｅはマスクＭとワークＷの位置合せを行う。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素半導体装置の製造において、上面が平坦な終端構造とリセス状のアライメントマークとを少ないマスク数で形成すると共に、アライメントマークのリセスの深さを最適化する。
【解決手段】ハーフトーン露光法を用いて、ＳｉＣエピタキシャル層２に達する第１の開口部１２ａとＳｉＣエピタキシャル層２に達しない第２の開口部とを有するレジストパターン１１を、ＳｉＣエピタキシャル層２上に形成する。エッチングにより、第１の開口部１２ａに露出したＳｉＣエピタキシャル層２にリセス状のアライメントマーク９を形成すると同時に第２の開口部１２ｂをＳｉＣエピタキシャル層２に到達させる。その後、イオン注入により、第２の開口部１２ｂに露出したＳｉＣエピタキシャル層２に、終端領域８を形成する。 （もっと読む）