【課題】フォトマスク６の変形を高精度かつ短時間に測定できるプロキシミティ露光装置を提供する。
【解決手段】透明基板６ｂの一方の表面６ｃに転写パターン６ａが形成されたフォトマスク６と、ガラス基板５とのギャップＧを狭めるギャップ狭小手段と、透明基板６ｂの第１端面６ｅから、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄで全反射し、第１端面６ｅとは異なる透明基板６ｂの第２端面６ｆへ達する光路を含むレーザ光線２８の光路の光路長を測定する測長手段２４とを有する。レーザ光線２８は、第１端面６ｅから透明基板６ｂ内に入射し、透明基板６ｂ内を、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄに向かって進行する。レーザ光線２８は、透明基板６ｂの内部から、表面６ｄに、臨界角より大きな入射角で入射し、全反射する。 （もっと読む）

【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、１度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの変形を補正することによって転写精度を向上させる液晶露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ機構４２，４３と、フォトマスク７１を支持するフォトマスク支持フレームと、フォトマスク支持フレームの歪みを検出する歪み検出手段と、フォトマスク７１の変形を補正する補正手段と、フォトマスク７１の変形パターンと歪みの分布とが対応して記憶されている変形パターン記憶手段と、歪み検出手段によって検出された歪み分布と、変形パターン記憶手段から読み出した変形パターンの歪み分布とを比較して、フォトマスク７１の変形パターンを推定し、推定した変形パターン、及び、歪み検出手段によって検出された歪み量に基づいて、フォトマスク７１の変形を打ち消す補正量を算出し、当該補正量に対応する電圧を補正手段に対して出力する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム２には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域４が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク３のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム２の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク２ｃが設けられており、この伸縮確認用マーク２ｃをマスクアライメントマークと共にカメラ５１により観察し、制御部７は、伸縮確認用マーク２ｃがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部６により、このずれに応じてマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】複数の光源部の照度をそれぞれ制御することで、ギャップ分布による露光面での照度のばらつきを小さくすることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥは、複数の光源部７３と、露光制御用シャッター７８と、インテグレータレンズ７４と、コリメーションミラー７７と、を有する照明光学系７０を備え、基板Ｗに対して近接対向するマスクＭに向けて照明光学系７０から光を照射することで、マスクＭのパターンＰを基板Ｗに露光する。露光領域内の複数箇所にて、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを測定するギャップセンサ１７を備え、複数の光源部７３は、複数箇所にて測定された各ギャップに応じて照度をそれぞれ変更する。 （もっと読む）

【課題】３Ｄ偏光フィルム及び配向フィルム等の製造時の露光に使用でき、薄いが剛性が高く、高精度で露光することができると共に、マスクコストを低減できるスキャン露光用メタルマスク及びスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】メタルスリットマスク５は、金属製の基板１５に、スキャン方向に延びる矩形のスリット５ａがスキャン方向及びスキャン方向に直交する方向にマトリクス状に配列されて形成されている。これらのスリット５ａ群の中で、スキャン方向に配列された各列３個のスリット５ａ１，５ａ２，５ａ３は、それらの相互間に、基板１５の領域１５ａ、１５ｂが位置しており、これらの領域１５ａ、１５ｂは、スキャン方向に直交する方向に直線状に連なっている。この３個のスリット５ａ、５ｂ、５ｃのスリット列のスキャン方向に直交する方向に隣接するもの同士の間隔は、フィルムに形成すべき帯状の露光領域の幅に対応して決められている。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの撓みを撓み補正バーにより矯正する機構を設けた水平置きのプロキシミティ露光装置において、フォトマスク基板の板厚の均一性が良くなかったり、パターン形成面の平面性が良くない場合にも、パターン露光の転写精度を劣化させず、塵埃による製品欠陥を防止できること。
【解決手段】マスクホルダが、フォトマスクの下面側に撓み補正バーとでフォトマスクを挟む二つのホルダ部材を有し、ホルダ部材は、撓み補正バーと対向する二辺の内側寄りの縁部を直接支持するように、ワーク基板に対して平行に対向配置され、フォトマスクを直接支持するホルダ部材が接するべきフォトマスク支持面の平面度の分布に対応して、ホルダ部材の直接支持面側の上端部の平面位置により、上端部の高さを調節できるようにした。 （もっと読む）

【課題】複数の構成部材により構成される大型のチャックを用い、大型の基板の温度を均一に精度良く調節して、露光精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０にほぼ同じ大きさの複数の温度調節領域を設け、チャック１０を温度調節領域と異なる形状の複数の構成部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃにより構成する。チャック１０の各温度調節領域に、熱媒体が流れる熱媒体通路１１ａ，１１ｂ，１１ｃをそれぞれ独立して設け、チャック１０を構成する構成部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの境界に位置する温度調節領域の熱媒体通路１１ｂ，１１ｃを、隣接する構成部材にまたがって配置する。チャック１０の各温度調節領域の温度を別々の温度センサー１２で検出し、各温度センサー１２の検出結果に基づいてそれぞれ独立に温度を調節した熱媒体を、チャック１０の各温度調節領域の熱媒体通路１１ａ，１１ｂ，１１ｃへそれぞれ独立して供給する。 （もっと読む）

【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの配向層の形成装置および配向層の形成方法を提供する。
【解決手段】 光配向装置であって、非偏光を照射する光源、前記非偏光を受け、前記非偏光を偏光に変換する偏光板、および前記偏光を受け、前記偏光を第１光線と第２光線に分割する多層膜分光器を含む露光機、光線をそこに通過させる少なくとも２つの透過部を含み、前記第１光線と前記第２光線が前記２つの透過部をそれぞれ通過するマスク、および前記マスクに対応し、前記２つの透過部を通過する前記第１光線と前記第２光線がそこに照射される光配向領域を含む光配向装置。 （もっと読む）

【課題】金属層の下方に配置されたレジストが、種々の要因によって劣化する。
【解決手段】半導体装置形成方法は、基板上に、第１波長の光で感光する下層レジストおよび第１波長と異なる第２波長の光で感光する上層レジストがこの順序で配された加工対象を準備する段階と、第２波長の光によるフォトリソグラフィを用いて、上層レジストにパターンを形成する段階と、上層レジストのパターンを用いて金属層のパターンを形成する段階と、第１波長の光を金属層のパターンに照射して、近接場光を発生させることにより、金属層のパターンよりも微細なパターンを下層レジストに形成する段階と、下層レジストのパターンを基板上に転写する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】カブリ故障を抑えつつ、良好な露光パターンを得る。
【解決手段】露光機４４は、金属製のバックアップロール４１と、光源５２と、光マスク板５６と、マスク支持板５７Ａ・５７Ｂとを備える。バックアップロール４１は、表面に硬化性膜２７が形成された支持フィルム１３の裏面を周面４１Ａで支持しながら搬送する。光源５２は、バックアップロール４１に支持されている支持フィルム１３上の硬化性膜２７に向けての硬化光を放つ。光マスク板５６は硬化光を遮る。光マスク板５６は、バックアップロール４１に近接するようにして光源５２及びバックアップロール４１の間に配され、Ｘ方向へ延びＹ方向に並ぶスリット５６Ｓを有する。マスク支持板５７Ａ・５７Ｂは、光マスク板５６及びバックアップロール４１の間に配され、バックアップロール４１側から光マスク板５６を支持する。マスク支持板５７Ａ・５７Ｂは、光マスク板５６よりも硬化光が散乱しやすい。 （もっと読む）

【課題】フィルムの熱膨張及び熱収縮並びに蛇行等により、露光対象のフィルムが幅方向に変形又は偏倚した場合においても、マスクを取り替えることなく、フィルムに対し高精度で所定位置に露光できるようにする。
【解決手段】露光対象のフィルム１に対し、光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、照射される。マスク２には、フィルム移動方向に対して傾斜する複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅及び間隔は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、カメラ７により検出される基板アライメントマーク１ａ及びマスクアライメントマーク２ｅの位置に基づいて、マスク２をアパーチャ３に対して相対的にフィルム移動方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】高精度に調整可能な露光装置の調整方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の露光装置の調整方法は、鏡面部に光散乱部位を有する鏡面部材を有する露光装置の上記鏡面部に対し、レーザー光を照射する工程と、上記鏡面部の上記光散乱部位からの上記レーザー光の散乱光に基づき、上記光散乱部位までの距離を演算する工程と、上記演算工程に基づき上記鏡面部の形状を判定する工程と、上記判定結果に基づき、上記鏡面部の形状を調整する工程と、を有する。かかる方法によれば、鏡面部であっても光散乱により鏡面部の形状認識が可能となり、これに基づき、鏡面部の表面形状を調整することで、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するチャックを移動する移動ステージの移動に伴うケーブルからの発塵を抑制して、マスク及び基板に塵が付着するのを防止する。
【解決手段】チャック１０を搭載する移動ステージと、移動ステージに接続された複数のケーブル５１と、複数のケーブル５１を押さえるケーブル押さえ部材３２ｃが設けられた複数の連結されたケーブル収容具３２を有し、各ケーブル収容具３２のケーブル押さえ部材３２ｃに超高分子量ポリエチレンから成る潤滑層（超高分子量ポリエチレンチューブ３２ｄ）が設けられたケーブルガイド３０とを備える。ケーブルガイド３０に収容されたケーブル５１により移動ステージへ電力を供給して、移動ステージによりチャック１０を移動する。 （もっと読む）

【課題】
熱によるフィルムの変形を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
ディスプレイ用のフィルム７を、搬送しながらフォトマスク３，４を介して露光する露光装置であって、開口部３１を有する第１フォトマスク部３と、前記フィルム７の搬送方向Ａと垂直な方向において、前記開口部３１よりも細幅に形成され、前記開口部３１の全幅に渡って所定間隔で配置された複数の小開口部４１を有する第２フォトマスク部４と、を含んで構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】露光対象のフィルムが幅方向に変形した場合においても、マスクを取り替えることなく露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光対象のフィルム１は、例えば供給リール４１、搬送ローラ４２，４３、リール４４等の搬送装置により１方向に移動される。光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、フィルム１に照射される。マスク２には、フィルム１の移動方向に直交する方向に複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、マスク２とアパーチャ３とのフィルム移動方向における相対的な位置を制御するので、フィルム１の露光すべき幅が変化しても、マスク２を取り替えることなく露光できる。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージに第２の反射手段（３５）を取り付け、第２の反射手段（３５）のθ方向の位置ずれを検出する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージに取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。第２の反射手段のθ方向の位置ずれの検出結果に基づき、複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージによりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）