プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光量調節方法、及び表示用パネル基板の製造方法
【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光量調節方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光量調節方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置では、マスクのパターンを基板へ１対１に転写するため、基板が大型化して露光領域が大きくなると、露光領域と同じ大きさのマスクが必要となり、マスクのコストが増加する。そこで、例えば、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の露光で、同じ形状のパターンを繰り返して形成する場合には、露光領域より小さなマスクを用い、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光することが行われている。
【０００４】
基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する場合、露光光の光量が区画毎にばらつくと、形成されるパターンの高さが各区画の境界で急激に変化し、パターンの段差が発生する。表示用パネル基板では、このパターンの段差が人の目で認識されて、表示品質が劣化する。特許文献１には、従来技術として、透過率の勾配がついたフィルターを用いて、マスクの端部で露光量を緩やか傾斜させ、隣り合う区画同士で端部を重複して露光して、境界部分の露光量を均一化することが記載されている。また、特許文献１には、マスクに露光領域と遮光領域を縦横に交互に配置して、境界部分の露光量の差を小さくする技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１３３２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
マスクの全面で露光光の光量を均一にすることは難しく、特にマスクの周辺部では、露光光の回折等により、露光光の光量が場所によって異なってくる。例えば、露光される各区画の上側端部と下側端部、又は右側端部と左側端部とでは、露光光の光量が異なり、これらの露光光の光量のばらつきは、露光装置毎あるいはマスク毎に変化する。しかしながら、特許文献１に従来技術として記載されたフィルターを用いる方法では、各区画の周辺部での露光光の光量の違いに対応することができなかった。また、特許文献１に記載の技術では、マスクに特殊な加工が必要であった。
【０００７】
本発明の課題は、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、マスクホルダに保持されたマスクの上方に設けられ、基板の露光領域の各区画の境界付近で移動して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節する露光量調節板を備え、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するものである。
【０００９】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光量調節方法であって、マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するものである。
【００１０】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、露光量調節板を移動させる駆動手段を備え、駆動手段が、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節させるものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節するものである。
【００１１】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節することにより、各区画の周辺部での露光光の光量の違いに応じて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に高精度に調節することができる。そして、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するので、各区画の境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画の境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００１２】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第１の露光量調節板と、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第２の露光量調節板とを備えたものである。
【００１３】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するものである。
【００１４】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を高精度に調節することができる。また、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を高精度に調節することができる。従って、基板の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画のＸ方向に伸びる境界付近及びＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画のＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００１５】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うものである。上記のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いることにより、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止されるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光量調節方法によれば、マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することにより、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００１７】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光量調節方法によれば、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することにより、基板の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画に分けて露光する場合、各区画のＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。
【図３】図３（ａ）はマスクホルダ及び露光量調節装置の上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＥ−Ｅ部の断面図である。
【図４】基板の露光領域とマスクの一例を示す図である。
【図５】露光量調節板の動作を説明する図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は、チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、露光量調節装置、露光量調節装置駆動回路５２、ステージ駆動回路６０、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図１及び図２では、後述する露光量調節装置が省略されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２１】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２２】
図１において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。
【００２３】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口２０ａが設けられており、開口２０ａの下方には、マスク２が装着されている。マスクホルダ２０の下面の開口２０ａの周囲には、吸着溝が設けられており、マスクホルダ２０は、吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。基板１の表面には、感光樹脂材料（フォトレジスト）が塗布されており、露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２４】
図２において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図２の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図２の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。Ｘステージ５、Ｙステージ７、及びθステージ８には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。
【００２５】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図２の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、マスク２と基板１との位置合わせが行われる。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向へ回転を行う。
【００２６】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。また、本実施の形態では、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０をＸＹ方向へ移動することにより、マスク２と基板１との位置合わせを行っているが、マスクホルダ２０をＸＹ方向へ移動するステージを設けて、マスクホルダ２０をＸＹ方向へ移動することにより、マスク２と基板１との位置合わせを行ってもよい。
【００２７】
図３（ａ）はマスクホルダ及び露光量調節装置の上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＥ−Ｅ部の断面図である。露光量調節装置は、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂ、ボールねじナット４４ａ，４４ｂ，４５ａ，４５ｂ、ボールねじ４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ、ガイド４８，４９、及びモータ５０ａ，５０ｂ，５１ａ，５１ｂを含んで構成されている。
【００２８】
図３（ａ），（ｂ）において、露光量調節板４２ａ，４２ｂは、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＹ方向の幅に渡って配置されている。露光量調節板４２ａの両端は、ボールねじナット４４ａを介して、マスクホルダ２０の内側面に取り付けたガイド４８に移動可能に保持されている。各ボールねじ４６ａに連結された各モータ５０ａを同期して駆動することにより、露光量調節板４２ａはガイド４８に沿ってＸ方向へ移動される。同様に、露光量調節板４２ｂの両端は、ボールねじナット４４ｂを介して、ガイド４８に移動可能に保持されている。各ボールねじ４６ｂに連結された各モータ５０ｂを同期させて駆動することにより、露光量調節板４２ｂはガイド４８に沿ってＸ方向へ移動される。図１において、露光量調節装置駆動回路５２は、主制御装置７０の制御により、各モータ５０ａ，５０ｂを駆動する。
【００２９】
図３（ａ），（ｂ）において、露光量調節板４３ａ，４３ｂは、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＸ方向の幅に渡って配置されている。露光量調節板４３ａの両端は、ボールねじナット４５ａを介して、マスクホルダ２０の内側面に取り付けたガイド４９に移動可能に保持されている。各ボールねじ４７ａに連結された各モータ５１ａを同期して駆動することにより、露光量調節板４３ａはガイド４９に沿ってＹ方向へ移動される。同様に、露光量調節板４３ｂの両端は、ボールねじナット４５ｂを介して、ガイド４９に移動可能に保持されている。各ボールねじ４７ｂに連結された各モータ５１ｂを同期させて駆動することにより、露光量調節板４３ｂはガイド４９に沿ってＹ方向へ移動される。図１において、露光量調節装置駆動回路５２は、主制御装置７０の制御により、各モータ５１ａ，５１ｂを駆動する。
【００３０】
図４は、基板の露光領域とマスクの一例を示す図である。図４（ａ）は、基板１の全面の露光領域を、破線で示したＸＹ方向に連続する４つの区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに分けて露光する例を示している。図４（ｂ）は、このとき使用されるマスク２を示し、マスク２上の破線で示した部分が、マスクホルダ２０の露光光が通過する開口２０ａに相当する部分である。
【００３１】
図５は、露光量調節板の動作を説明する図である。図５（ａ）は、基板１の露光領域の区画Ａを露光するときの露光量調節板４２ａの動作を示し、図５（ｂ）は、このとき基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。基板１の露光領域の区画Ａを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ａを駆動させ、露光量調節板４２ａを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、図５（ａ）に矢印で示すＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、図５（ｂ）に示す様に、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３２】
なお、図５（ｂ）は、露光光の光量がＸ方向において均一でなく、区画Ａの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ａの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合を示している。
【００３３】
同様に、基板１の露光領域の区画Ａを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ａを駆動させ、露光量調節板４３ａを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３４】
図５（ｃ）は、基板１の露光領域の区画Ｂを露光するときの露光量調節板４２ｂの動作を示し、図５（ｄ）は、このとき基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。基板１の露光領域の区画Ｂを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ｂを駆動させ、露光量調節板４２ｂを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、図５（ｃ）に矢印で示すＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、図５（ｄ）に示す様に、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３５】
なお、図５（ｄ）は、図５（ｂ）と同様に、露光光の光量がＸ方向において均一でなく、区画Ｂの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ｂの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合を示している。
【００３６】
同様に、基板１の露光領域の区画Ｂを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ａを駆動させ、露光量調節板４３ａを、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３７】
同様にして、基板１の露光領域の区画Ｃを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ｂを駆動させ、露光量調節板４２ｂを、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。また、基板１の露光領域の区画Ｃを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ｂを駆動させ、露光量調節板４３ｂを、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３８】
同様にして、基板１の露光領域の区画Ｄを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ａを駆動させ、露光量調節板４２ａを、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。また、基板１の露光領域の区画Ｄを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ｂを駆動させ、露光量調節板４３ｂを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３９】
マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂの移動開始時刻及び移動速度を調節することにより、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの周辺部での露光光の光量の違いに応じて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界毎に高精度に調節することができる。
【００４０】
図５（ｅ）は、本発明を用いない場合に基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。図５（ｂ），（ｄ）と同様に、区画Ａ，Ｂの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ａ，Ｂの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合、区画Ａ，Ｂを単にＸ方向に並べて露光すると、図５（ｅ）に示す様に、露光光の光量が区画Ａ，Ｂの境界で急激に変化する。そのため、形成されるパターンの高さが区画Ａ，Ｂの境界で急激に変化し、パターンの段差が発生する。
【００４１】
図５（ｆ）は、本実施の形態により基板１へ照射される露光光のＸ方向の総光量を示している。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射するので、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００４２】
以上説明した実施の形態によれば、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射することにより、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００４３】
さらに、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板４２ａ，４２ｂを設け、各第１の露光量調節板４２ａ，４２ｂを、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板４３ａ，４３ｂを設け、各第２の露光量調節板４３ａ，４３ｂを、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することにより、基板１の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに分けて露光する場合、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００４４】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うことにより、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００４５】
例えば、図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４６】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４７】
図６に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図７に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板
２ マスク
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６ Ｙガイド
７ Ｙステージ
８ θステージ
９ チャック支持台
１０ チャック
２０ マスクホルダ
２０ａ 開口
４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂ 露光量調節板
４４ａ，４４ｂ，４５ａ，４５ｂ ボールねじナット
４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ ボールねじ
４８，４９ ガイド
５２ 露光量調節装置駆動回路
５０ａ，５０ｂ，５１ａ，５１ｂ モータ
６０ ステージ駆動回路
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光量調節方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光量調節方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置では、マスクのパターンを基板へ１対１に転写するため、基板が大型化して露光領域が大きくなると、露光領域と同じ大きさのマスクが必要となり、マスクのコストが増加する。そこで、例えば、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板等の露光で、同じ形状のパターンを繰り返して形成する場合には、露光領域より小さなマスクを用い、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光することが行われている。
【０００４】
基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する場合、露光光の光量が区画毎にばらつくと、形成されるパターンの高さが各区画の境界で急激に変化し、パターンの段差が発生する。表示用パネル基板では、このパターンの段差が人の目で認識されて、表示品質が劣化する。特許文献１には、従来技術として、透過率の勾配がついたフィルターを用いて、マスクの端部で露光量を緩やか傾斜させ、隣り合う区画同士で端部を重複して露光して、境界部分の露光量を均一化することが記載されている。また、特許文献１には、マスクに露光領域と遮光領域を縦横に交互に配置して、境界部分の露光量の差を小さくする技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１３３２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
マスクの全面で露光光の光量を均一にすることは難しく、特にマスクの周辺部では、露光光の回折等により、露光光の光量が場所によって異なってくる。例えば、露光される各区画の上側端部と下側端部、又は右側端部と左側端部とでは、露光光の光量が異なり、これらの露光光の光量のばらつきは、露光装置毎あるいはマスク毎に変化する。しかしながら、特許文献１に従来技術として記載されたフィルターを用いる方法では、各区画の周辺部での露光光の光量の違いに対応することができなかった。また、特許文献１に記載の技術では、マスクに特殊な加工が必要であった。
【０００７】
本発明の課題は、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、マスクホルダに保持されたマスクの上方に設けられ、基板の露光領域の各区画の境界付近で移動して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節する露光量調節板を備え、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するものである。
【０００９】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光量調節方法であって、マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するものである。
【００１０】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、露光量調節板を移動させる駆動手段を備え、駆動手段が、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節させるものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節するものである。
【００１１】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節することにより、各区画の周辺部での露光光の光量の違いに応じて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に高精度に調節することができる。そして、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射するので、各区画の境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画の境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００１２】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第１の露光量調節板と、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第２の露光量調節板とを備えたものである。
【００１３】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法は、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するものである。
【００１４】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を高精度に調節することができる。また、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を高精度に調節することができる。従って、基板の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画のＸ方向に伸びる境界付近及びＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画のＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００１５】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うものである。上記のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いることにより、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止されるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光量調節方法によれば、マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することにより、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００１７】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光量調節方法によれば、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することにより、基板の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画に分けて露光する場合、各区画のＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。
【図３】図３（ａ）はマスクホルダ及び露光量調節装置の上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＥ−Ｅ部の断面図である。
【図４】基板の露光領域とマスクの一例を示す図である。
【図５】露光量調節板の動作を説明する図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は、チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、露光量調節装置、露光量調節装置駆動回路５２、ステージ駆動回路６０、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図１及び図２では、後述する露光量調節装置が省略されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２１】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２２】
図１において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。
【００２３】
基板１の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口２０ａが設けられており、開口２０ａの下方には、マスク２が装着されている。マスクホルダ２０の下面の開口２０ａの周囲には、吸着溝が設けられており、マスクホルダ２０は、吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。基板１の表面には、感光樹脂材料（フォトレジスト）が塗布されており、露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２４】
図２において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図２の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図２の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。Ｘステージ５、Ｙステージ７、及びθステージ８には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。
【００２５】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図２の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、マスク２と基板１との位置合わせが行われる。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向へ回転を行う。
【００２６】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。また、本実施の形態では、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０をＸＹ方向へ移動することにより、マスク２と基板１との位置合わせを行っているが、マスクホルダ２０をＸＹ方向へ移動するステージを設けて、マスクホルダ２０をＸＹ方向へ移動することにより、マスク２と基板１との位置合わせを行ってもよい。
【００２７】
図３（ａ）はマスクホルダ及び露光量調節装置の上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＥ−Ｅ部の断面図である。露光量調節装置は、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂ、ボールねじナット４４ａ，４４ｂ，４５ａ，４５ｂ、ボールねじ４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ、ガイド４８，４９、及びモータ５０ａ，５０ｂ，５１ａ，５１ｂを含んで構成されている。
【００２８】
図３（ａ），（ｂ）において、露光量調節板４２ａ，４２ｂは、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＹ方向の幅に渡って配置されている。露光量調節板４２ａの両端は、ボールねじナット４４ａを介して、マスクホルダ２０の内側面に取り付けたガイド４８に移動可能に保持されている。各ボールねじ４６ａに連結された各モータ５０ａを同期して駆動することにより、露光量調節板４２ａはガイド４８に沿ってＸ方向へ移動される。同様に、露光量調節板４２ｂの両端は、ボールねじナット４４ｂを介して、ガイド４８に移動可能に保持されている。各ボールねじ４６ｂに連結された各モータ５０ｂを同期させて駆動することにより、露光量調節板４２ｂはガイド４８に沿ってＸ方向へ移動される。図１において、露光量調節装置駆動回路５２は、主制御装置７０の制御により、各モータ５０ａ，５０ｂを駆動する。
【００２９】
図３（ａ），（ｂ）において、露光量調節板４３ａ，４３ｂは、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＸ方向の幅に渡って配置されている。露光量調節板４３ａの両端は、ボールねじナット４５ａを介して、マスクホルダ２０の内側面に取り付けたガイド４９に移動可能に保持されている。各ボールねじ４７ａに連結された各モータ５１ａを同期して駆動することにより、露光量調節板４３ａはガイド４９に沿ってＹ方向へ移動される。同様に、露光量調節板４３ｂの両端は、ボールねじナット４５ｂを介して、ガイド４９に移動可能に保持されている。各ボールねじ４７ｂに連結された各モータ５１ｂを同期させて駆動することにより、露光量調節板４３ｂはガイド４９に沿ってＹ方向へ移動される。図１において、露光量調節装置駆動回路５２は、主制御装置７０の制御により、各モータ５１ａ，５１ｂを駆動する。
【００３０】
図４は、基板の露光領域とマスクの一例を示す図である。図４（ａ）は、基板１の全面の露光領域を、破線で示したＸＹ方向に連続する４つの区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに分けて露光する例を示している。図４（ｂ）は、このとき使用されるマスク２を示し、マスク２上の破線で示した部分が、マスクホルダ２０の露光光が通過する開口２０ａに相当する部分である。
【００３１】
図５は、露光量調節板の動作を説明する図である。図５（ａ）は、基板１の露光領域の区画Ａを露光するときの露光量調節板４２ａの動作を示し、図５（ｂ）は、このとき基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。基板１の露光領域の区画Ａを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ａを駆動させ、露光量調節板４２ａを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、図５（ａ）に矢印で示すＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、図５（ｂ）に示す様に、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３２】
なお、図５（ｂ）は、露光光の光量がＸ方向において均一でなく、区画Ａの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ａの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合を示している。
【００３３】
同様に、基板１の露光領域の区画Ａを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ａを駆動させ、露光量調節板４３ａを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３４】
図５（ｃ）は、基板１の露光領域の区画Ｂを露光するときの露光量調節板４２ｂの動作を示し、図５（ｄ）は、このとき基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。基板１の露光領域の区画Ｂを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ｂを駆動させ、露光量調節板４２ｂを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、図５（ｃ）に矢印で示すＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、図５（ｄ）に示す様に、基板１の露光領域の区画Ａ，ＢのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３５】
なお、図５（ｄ）は、図５（ｂ）と同様に、露光光の光量がＸ方向において均一でなく、区画Ｂの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ｂの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合を示している。
【００３６】
同様に、基板１の露光領域の区画Ｂを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ａを駆動させ、露光量調節板４３ａを、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３７】
同様にして、基板１の露光領域の区画Ｃを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ｂを駆動させ、露光量調節板４２ｂを、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。また、基板１の露光領域の区画Ｃを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ｂを駆動させ、露光量調節板４３ｂを、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｂ，ＣのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３８】
同様にして、基板１の露光領域の区画Ｄを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５０ａを駆動させ、露光量調節板４２ａを、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。また、基板１の露光領域の区画Ｄを露光するとき、主制御装置７０は、露光量調節装置駆動回路５２を制御して、各モータ５１ｂを駆動させ、露光量調節板４３ｂを、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、Ｙ方向へ移動させる。これにより、基板１へ照射される露光光の光量は、基板１の露光領域の区画Ａ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近で、なだらかに変化する。
【００３９】
マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節するので、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂの移動開始時刻及び移動速度を調節することにより、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの周辺部での露光光の光量の違いに応じて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界毎に高精度に調節することができる。
【００４０】
図５（ｅ）は、本発明を用いない場合に基板１へ照射される露光光のＸ方向の光量を示している。図５（ｂ），（ｄ）と同様に、区画Ａ，Ｂの左側周辺部の露光光の光量が、区画Ａ，Ｂの右側周辺部の露光光の光量よりも多い場合、区画Ａ，Ｂを単にＸ方向に並べて露光すると、図５（ｅ）に示す様に、露光光の光量が区画Ａ，Ｂの境界で急激に変化する。そのため、形成されるパターンの高さが区画Ａ，Ｂの境界で急激に変化し、パターンの段差が発生する。
【００４１】
図５（ｆ）は、本実施の形態により基板１へ照射される露光光のＸ方向の総光量を示している。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射するので、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の総光量がなだらかに変化し、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界でパターンの段差が発生するのが効果的に防止される。
【００４２】
以上説明した実施の形態によれば、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射することにより、マスクに特殊な加工を施すことなく、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００４３】
さらに、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板４２ａ，４２ｂを設け、各第１の露光量調節板４２ａ，４２ｂを、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に、マスク２のＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板４３ａ，４３ｂを設け、各第２の露光量調節板４３ａ，４３ｂを、基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することにより、基板１の露光領域をＸＹ方向に連続する複数の区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに分けて露光する場合、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤのＸ方向に伸びる境界及びＹ方向に伸びる境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができる。
【００４４】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うことにより、基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止することができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００４５】
例えば、図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４６】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４７】
図６に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図７に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板
２ マスク
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６ Ｙガイド
７ Ｙステージ
８ θステージ
９ チャック支持台
１０ チャック
２０ マスクホルダ
２０ａ 開口
４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂ 露光量調節板
４４ａ，４４ｂ，４５ａ，４５ｂ ボールねじナット
４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ ボールねじ
４８，４９ ガイド
５２ 露光量調節装置駆動回路
５０ａ，５０ｂ，５１ａ，５１ｂ モータ
６０ ステージ駆動回路
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、前記チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に設けられ、基板の露光領域の各区画の境界付近で移動して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節する露光量調節板を備え、
基板の露光領域の各区画の露光時に、前記露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記露光量調節板を移動させる駆動手段を備え、該駆動手段は、前記露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節させることを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第１の露光量調節板と、
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第２の露光量調節板とを備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光量調節方法であって、
マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、
基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項５】
露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節することを特徴とする請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項６】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、前記チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置において、
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に設けられ、基板の露光領域の各区画の境界付近で移動して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節する露光量調節板を備え、
基板の露光領域の各区画の露光時に、前記露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記露光量調節板を移動させる駆動手段を備え、該駆動手段は、前記露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節させることを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第１の露光量調節板と、
前記マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って配置され、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動して、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節する複数の第２の露光量調節板とを備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと備え、チャックに支持された基板の露光領域を、連続する複数の区画に分けて露光するプロキシミティ露光装置の露光量調節方法であって、
マスクホルダに保持されたマスクの上方に露光量調節板を設け、露光量調節板を基板の露光領域の各区画の境界付近で移動させて、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、
基板の露光領域の各区画の露光時に、露光量調節板により光量を調節した露光光を、各区画の境界付近へ重ねて照射することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項５】
露光量調節板の移動開始時刻及び移動速度を調節して、各区画の境界付近へ照射される露光光の光量を、各区画の境界毎に調節することを特徴とする請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項６】
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＹ方向の幅に渡って複数の第１の露光量調節板を設け、各第１の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＹ方向に伸びる境界付近でＸ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＹ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節し、
マスクホルダに保持されたマスクの上方に、マスクのＸ方向の幅に渡って複数の第２の露光量調節板を設け、各第２の露光量調節板を、基板の露光領域の各区画のＸ方向に伸びる境界付近でＹ方向へそれぞれ独立に移動させて、各区画のＸ方向に伸びる境界付近へ照射される露光光の光量を調節することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光量調節方法を用いて露光光の光量を調節しながら、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１３−６４８９７（Ｐ２０１３−６４８９７Ａ）
【公開日】平成２５年４月１１日（２０１３．４．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０３９１３（Ｐ２０１１−２０３９１３）
【出願日】平成２３年９月１９日（２０１１．９．１９）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月１１日（２０１３．４．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月１９日（２０１１．９．１９）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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