【課題】基準チップ特定に用いる目印を半導体ウエハに形成する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、フォトレジスト膜の形成された半導体ウエハに、露光用マスクを介して第１、第２、第３露光を行う工程を有し、第１露光の第１ショット領域に対し、第２露光の第２ショット領域は第１方向に隣接し、第２ショット領域に対し第３露光の第３ショット領域は第１方向に隣接し、ショット領域は第１方向に交差し対向する第１、第２の辺と、第１方向に平行な第３、第４の辺を有する外周スクライブ領域を有し、第１の辺上に第１パターンが、第２の辺上で第１パターンと対向する位置に第１パターンを内包する透光領域の第２パターンが配置され、第１、第２露光は第１、第２パターンが重ならないように、第２、第３の露光は第１、第２パターンが重なるように行われる。 （もっと読む）

【課題】部品点数及び制御軸数を削減し、装置の小型化を図る。
【解決手段】基板７を複数の露光領域に分割し、基板７に投影する露光パターンが描かれた投影マスクを基板７の分割された露光領域にそれぞれ対応するよう複数の転写領域に分割し、分割された基板７の露光領域ごとに露光を行う分割露光装置において、投影マスクの上方位置に近接して配置され、投影マスクの面と平行にＸ方向に往復移動可能な遮光体２５と、遮光体２５の上方位置に近接して配置され、前記投影マスクの面に平行に前記Ｘ方向と直交するＹ方向に往復移動可能であって、基板７及び投影マスクの位置決めマークを撮像するＣＣＤカメラ１３−１〜４を覆うためのカバー５７と、を備え、遮光体２５及びカバー５７をそれぞれ所定の露光領域以外の光を遮蔽する位置に位置決めし、前記所定の露光領域を露光する。 （もっと読む）

【課題】マスクの大きさが基板上の露光対象領域に比して小さい露光装置において、基板の全面を均一に露光でき、隣接する露光領域間における継ぎムラの発生を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】光源４から出射された露光光をマスク２に導く光学系として、光源４からの出射光を平行光にするコンデンサレンズ６とこれを透過した露光光をマスク面にて入射光と同倍率で結像させるオフナー光学系８とが設けられている。コンデンサレンズ６からの結像面には可変ブラインド７が配置され、結像面において露光光内に介在するシャッタ７２，７３を有し、シャッタ７２，７３によりマスク面露光領域におけるスキャン方向に直交する方向の少なくとも一方の端縁をスキャン方向に傾斜するように整形する。そして、２回のスキャン露光にて、マスク面露光領域における傾斜した端縁が重なるように、露光光の整形を制御する。 （もっと読む）

【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と半導体装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料を塗布し、周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の画素電極等のデバイスパターン９１ａをパターニング形成する際、デバイスパターン９１ａの間で第１方向Ｙに延在する第１境界領域９９ｇと重なる領域を選択的に露光する第１露光工程と、デバイスパターン９１ａの間で第２方向Ｘに延在する第２境界領域９９ｈと重なる領域を選択的に露光する第２露光工程とを行う。このため、デバイスパターン９１ａの第１辺部９１ｙは、第１露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成され、デバイスパターン９１ａの第２辺部９１ｘは、第２露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成される。 （もっと読む）

【課題】携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】露光光の照射領域はマイクロレンズアレイ２２の大きさに対応するものであり、マイクロレンズアレイ２２は、スキャン方向に垂直の方向に関し、マスクの幅又はその幅の整数分の１の長さに対応する長さを有する。また、マイクロレンズアレイ２２は製造せんとするパネル２３，２４，２５に対応する長さに分割された２個以上のユニット２８，２９，３０を配列して構成されている。 （もっと読む）

【課題】ステップアンドリピート露光におけるつなぎ部の基板パターンの精度を改善し、ウエハ基板上の基板パターンの均一性を改善する。
【解決手段】レクチル２１のマスクパターン６１でウエハ基板４１を繰り返し露光し、多数のドットパターン１０１が所定のピッチで複数方向に周期性を有して配置された基板パターン８１を製造する方法であって、マスクパターン６１で既に露光したウエハ基板上の露光領域Ａ（及び／又はＢ）に、マスクパターン６１を重複させて露光する多重露光工程を含み、多重露光工程では、ウエハ基板４１上の露光領域Ａに対して、マスクパターン６１を、ドットパターンのピッチの整数倍だけシフトさせるとともに、既にした露光を含む２回以上の露光を、露光の重複数に応じて減少させた光量で行うことを特徴とする基板パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィにおいて、シリコンウェハに同一パターンを複数形成するときに破断を起こしにくいパターン配置方法及びパターニングされたシリコンウェハを提供すること。また、そのパターン配置方法が用いられた半導体デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明によると、シリコンウェハに、第１の方向及び前記第１の方向に直交する第２の方向に平行に配置された複数のチップパターンを有し、前記複数のチップパターンは、前記第１の方向及び前記第２の方向に配置され、直線状に配置された一つ以上のパターンを含み、前記シリコンウェハのへき開面と前記シリコンウェハの前記パターンを配置する面とが直交する軸と、前記第１の方向とが、異なるように前記複数のチップパターンを配置することを特徴とするシリコンウェハが提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、メインパターン領域内にマーク類を形成することなく、Ｎ×Ｎショットのサイズの半導体チップを製造することが可能な、半導体チップの製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、チップ領域５の寸法がイメージフィールドよりも大きい半導体チップの製造方法であって、（ａ）メインパターン５ａを形成するメインマスク１と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの上下に位置する部分を形成する上下マスク２と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの左右に位置する部分を形成する左右マスク３と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの角部に位置する部分を形成する隅マスク４を準備する工程と、（ｂ）メインマスク１、上下マスク２、左右マスク３、隅マスク４を組み合わせてチップ領域５を含むショット配列を形成する工程と、（ｃ）当該ショット配列に従いマスク毎に露光する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】 情報データを適宜変更しながら回路パターンも露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、紫外線を含む光を使ってフォトマスクに描かれた所定の回路パターン（ＰＡ）を感光性物質（ＦＲ）が塗布された矩形形状の基板（ＰＷＡ）に露光する。そして露光装置は、紫外線を含む光でフォトマスクの回路パターンを基板に露光する投影露光ユニット（４０）と、基板を載置し投影露光ユニットに対して移動可能な基板ステージ（６０）と、基板ステージを移動させるステージ駆動部（６５）と、紫外線を含む光で電子的に作成された情報データを基板に露光する空間光変調ユニット（４０）と、空間光変調ユニットを基板の辺に略平行な方向に移動させる空間光変調ユニット駆動部（５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】濃度分布マスクが感光性レジスト材料層に投影するパターンのつなぎ目での露光光量誤差を軽減して微小立体形状配列を製造する。
【解決手段】濃度分布マスクのパターンの光透過率をＢと定義すると、前記網点間隙領域の開口率ＷをＷ＝（√Ｂ）に設定し、第１段階の露光工程として、前記濃度分布マスクのパターンの投影する位置を該パターンの寸法だけずらしつつ前記感光性レジスト材料層に複数回投影露光することで、該パターンをつないで前記感光性レジスト材料層の全面を露光する工程と、次の段階の露光工程として、前記濃度分布マスクのパターンの投影する位置を該パターンの整数Ｎ分の１だけずらして前記第１段階の露光工程で露光された感光性レジスト材料層の全面に重ねて露光することで、前記感光性レジスト材料層の全面を前記整数Ｎ回重ねて露光することを特徴とする微小立体形状配列の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 感光性絶縁膜を露光、現像して形成された絶縁層を有する液晶表示パネルにおける周期的な外観むらを低減する。
【解決手段】 感光性絶縁膜を露光、現像してなる絶縁層を形成する工程を有し、あらかじめ用意された数値データに基づく数値制御により生成される複数の露光パターンを前記感光性絶縁膜の異なる位置に同時に照射し、当該複数の露光パターンを排他的に走査することで当該感光性絶縁膜の全体を露光する表示装置の製造方法であって、前記数値データに基づき感光させないと判定される領域には、光を照射しない条件のときに前記感光性絶縁膜の各位置に照射される漏れ光の光量の総量のうちの最大値と同じ光量、または当該最大値より大きい光量の光を均一に照射する。 （もっと読む）

【課題】小型マスク連続露光において、遮光機構の構造を複雑にすることなく、搬送方向の長さが異なる様々な領域の遮光に対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、光源と、基板６を搬送する搬送装置と、光源と基板６との間に配置されるフォトマスク３と、遮光板５１〜５４とを備える。遮光板５１及び５２は、フォトマスク３とほぼ平行な同一平面を構成する位置と、軸受７３の中心軸を下端として、遮光板５１及び５２がＺ軸方向に延びる位置との間で開閉自在である。遮光板５１〜５４の射影全体が非露光領域６２に重なった状態で、遮光板５１〜５４が、開口パターン形成領域３０の上方をＹ軸正方向に基板６と等速で移動する。これによって、非露光領域６２が開口パターン形成領域３０の下方を通過する間、非露光領域６２が遮光板５１〜５４によって遮光される。 （もっと読む）

【課題】基板を移動するステージをリニアモータにより駆動する際、ステージの温度変化を小さくして、パターンの焼付けを精度良く行う。
【解決手段】ステージの温度を調節する温度調節液が流れる通路５２ａ，５２ｂをＸステージ５，Ｙステージ７に設け、ステージの動作状態に応じて、互いに異なる温度の温度調節液を供給する複数の供給装置５３，５４の内の１つから、温度調節液を通路５２ａ，５２ｂへ供給する。ステージの温度変化が小さくなり、パターンの焼付けが精度良く行われる。 （もっと読む）

【課題】凹面鏡の設置時に凹面鏡が破損するのを防止する。
【解決手段】露光光照射装置３０は、凹面鏡３７の裏面を支持する支持台５１と、支持台５１に取り付けられて凹面鏡３７の表面の縁を支持する複数の支持機構６０とを有する凹面鏡支持装置５０を備える。支持台５１は、直径が凹面鏡３７の寸法より小さな丸穴５２を有し、丸穴５２の縁（支持部５３）で凹面鏡３７の裏面に接触して凹面鏡３７の裏面を支持する。複数の支持機構６０は、凹面鏡３７の表面の縁を支持する支持部材６７と、支持部材６７を移動する移動部材６３と、移動部材６３を支持台５１の方向へ付勢する付勢手段（引張コイルバネ６９）とを有し、付勢手段により支持部材６７を凹面鏡３７の表面の縁に押し付けて凹面鏡３７の表面の縁を支持する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単一のブラインドシャッターを用いた小型マスク連続露光方式により、露光領域における照射量分布の局所的なムラが少ない露光を実現できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板を搬送方向に一定の速度で搬送しながら、搬送方向に所定間隔を空けて複数並べられた前記基板上の露光領域に対して露光を行う。露光装置は、点滅式光源と、基板をＹ軸正方向に搬送する搬送装置と、光源と基板との間に配置されるフォトマスクと、光源とフォトマスクとの間に位置し、光を遮光するブラインドシャッターとを備える。光源の点滅の周波数は５０Ｈｚであり、基板の搬送速度は１００〜２００ｍｍ／ｓｅｃであり、Ｙ軸方向におけるフォトマスク上の開口パターンが形成される領域の長さは、１５０〜２５０ｍｍである。これによって、ブラインドシャッター復帰時に光源が遮られることに起因する露光量減損率は３％以下となる。 （もっと読む）