【課題】２つの基板のそれぞれに形成されたアライメントマークの両方に同時にピントを合わせることができない場合であっても、それらの位置合わせを高精度に行うことを可能にする。
【解決手段】パターンを転写される基板に形成されるアライメントマークＡＭ１は、正方形の中実図形であるアライメントパターンＡＰ101〜ＡＰ109、ＡＰ111〜ＡＰ114を配列してなるものとする。一方、基板に転写すべきパターンを担持するブランケットには、アライメントマークＡＭ２として、環状の中空矩形のアライメントパターンＡＰ２をパターンと同じ材料で形成する。アライメントマークＡＭ１は、低い空間周波数成分をアライメントパターンＡＰ２よりも多く含むパターンにより構成されており、ピントが合わない状態で撮像された場合でも重心位置を精度よく検出することが可能である。 （もっと読む）

【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム２には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域４が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク３のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム２の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク２ｃが設けられており、この伸縮確認用マーク２ｃをマスクアライメントマークと共にカメラ５１により観察し、制御部７は、伸縮確認用マーク２ｃがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部６により、このずれに応じてマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク３との間に介在するように基準板４が配置されており、基準板４には、各マスク３毎に、マスク３が配置されるべき位置の基準を示す第１基準マーク４１が設けられている。カメラ５１により第１基準マーク４１及びマスクアライメントマーク（スリット３２）を検出し、制御部７は、検出された両者間の距離ａに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク３のずれを検出し、駆動部６によりマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】フィルム基材の熱膨張に拘わらず、所定の間隔で偏光部を形成することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム１０は、バックロール５に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム１０はバックロール５によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、２個のスリットマスク７，１７が配置されている。このスリットマスク７，１７は、露光光源６，１６からの露光光を帯状にしてフィルム１０に照射する。このフィルム１０がバックロール５に接触する手前に、冷却ロール８が配置されていて、冷却ロール８はフィルム１０に転動してこれを冷却する。 （もっと読む）

【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】フィルムの熱膨張及び熱収縮並びに蛇行等により、露光対象のフィルムが幅方向に変形又は偏倚した場合においても、マスクを取り替えることなく、フィルムに対し高精度で所定位置に露光できるようにする。
【解決手段】露光対象のフィルム１に対し、光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、照射される。マスク２には、フィルム移動方向に対して傾斜する複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅及び間隔は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、カメラ７により検出される基板アライメントマーク１ａ及びマスクアライメントマーク２ｅの位置に基づいて、マスク２をアパーチャ３に対して相対的にフィルム移動方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】
熱によるフィルムの変形を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
ディスプレイ用のフィルム７を、搬送しながらフォトマスク３，４を介して露光する露光装置であって、開口部３１を有する第１フォトマスク部３と、前記フィルム７の搬送方向Ａと垂直な方向において、前記開口部３１よりも細幅に形成され、前記開口部３１の全幅に渡って所定間隔で配置された複数の小開口部４１を有する第２フォトマスク部４と、を含んで構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する途中での、基板の取り外しを前提とする基板保持部材の採用を可能にする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に複数の区画領域（ＳＡ１、ＳＡ２等）を形成するに当たり、基板Ｐ上に区画領域を形成する度毎に、基板Ｐを該基板Ｐの面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板Ｐの同一の検出対象部（例えばエッジ）の位置情報を例えば複数のセンサ１２２Ｘ_１、１２２Ｘ_２、１２２Ｙ_１を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板Ｐを露光領域ＩＡに対して位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５は、例えばカメラ６が検出する光の光軸と同軸的にアライメント光を出射する。アライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。露光用のマイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間にも存在し、これにより、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。そして、カメラ６により検出されたマスクアライメントマーク２ａの反射光及び基板アライメントマーク１ａにより、制御装置９は基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】ワーク・アライメントマーク（ワークマーク）の見え方が異なったとしても、ワークマークを正しく検出することができるようにすること。
【解決手段】作業者は、暗視野照明手段である照明手段１０ｃの高さをワークマークがクリアに見える位置に設定し、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上のワークマークＷＡＭ像を撮像し、登録パターンとして制御部１１の記憶部１１ｂに登録する。ワークマークを検出する際、制御部１１のアライメントマーク検出部１１ｃは、照明手段移動手段５により照明手段１０ｃの高さを変化させながら、アライメント顕微鏡１０によりワークＷ上をサーチし、ワークＷ上のパターンと登録パターンとを比較して一致度を求め、一致度が高いパターンが見つかると、このパターンをワークマークとして検出する。このワークマークを使って位置合わせ制御部１１ｅはマスクＭとワークＷの位置合せを行う。 （もっと読む）

【課題】パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク（１８ａ等）を経た照明系１からの露光光により基板２１を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置１０である。照明系１では、マスクを照明することのできる照明可能領域Ｌａが、マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、照明系１は、マスクに対して移動することにより、照明可能領域Ｌａをマスクの全領域に行き渡らせることが可能である。 （もっと読む）

【課題】製品に実装されるサイズの基板を露光する際に、アライメントを精度良く行うことができる露光装置、露光方法、並びに露光ユニットを提供する。
【解決手段】近接露光装置３〜５は、パターンＰ２〜Ｐ４を有するマスクＭ２〜Ｍ４を保持するマスクステージ１０と、基板Ｗ１〜Ｗ３を保持する基板ステージ１１と、マスクＭ２〜Ｍ４のパターンＰ２〜Ｐ４を介して基板Ｗ１〜Ｗ３に露光光を照射する光学系と、基板Ｗ１〜Ｗ３とマスクＭ２〜Ｍ４の一部を検出するレーザと、を備える。マスクＭ２〜Ｍ４と基板Ｗ１〜Ｗ３のアライメントは、レーザによって検出される、一層目の近接露光装置２によって基板Ｗ１に露光転写されたブラックマトリクスパターンＷＰ１のコーナー部ｃと、基板Ｗ１〜Ｗ３のブラックマトリクスパターンＷＰ１の外側に位置するマスクＭ２〜Ｍ４のアライメントマークＡ１〜Ａ３とが互いにオフセットした位置となるようにして実行される。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを形成しにくい基板でもアライメントを精度良く行うことができる露光装置、及びその露光方法、並びに露光ユニットを提供する。
【解決手段】近接露光装置３〜５は、パターンＰ２〜Ｐ４を有するマスクＭ２〜Ｍ４を保持するマスクステージ１０と、被露光材としての基板Ｗ１〜Ｗ３を保持する基板ステージ１１と、パターンＰ２〜Ｐ４を介して基板Ｗ１〜Ｗ３に露光光を照射する照明光学系と、基板Ｗ１〜Ｗ３とマスクＭ２〜Ｍ４の一部を撮像するアライメントカメラと、を備える。マスクＭ２〜Ｍ４と基板Ｗ１〜Ｗ３のアライメントは、撮像される、一層目の基板Ｗ１に露光転写されたブラックマトリクスパターンのコーナー部と、基板Ｗ１〜Ｗ３のブラックマトリクスパターンの外側に位置するマスクＭ２〜Ｍ４のアライメントマークとが所定の距離だけ互いにオフセットした位置となるようにして実行される。 （もっと読む）

【課題】マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。
【解決手段】照明装置６１から、基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの画像を認識する際よりも基板１に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスク２のアライメントマーク２ａ及び基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置５１の焦点をマスク２の下面に合わせ、画像処理装置５０により各画像取得装置５１が出力した画像信号を処理して、マスク２のアライメントマーク２ａの画像認識を行う。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを正確にアライメントすることが可能な露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置１は、マスクＭに少なくとも１つのアライメントマーク４５が形成されており、各マスクＭのアライメントマーク４５にそれぞれ対応する複数の基準マーク５５が設けられた基準バー５１と、基準バー５１の基準マーク５５とマスクＭのアライメントマーク４５とを撮像する少なくとも１つのカメラ５９と、を有する。カメラ５９が読み取った、基準バー５１の基準マーク５５と、マスクＭのアライメントマーク４５と、の相対的な位置情報に基づいて、各マスク保持部１１を所定の位置に変位させることによって各マスクＭを基準バーに対してアライメントする。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターンの像を良好に形成することができるマスクを提供する。
【解決手段】所定軸Ｊ周りに回転しつつ基板Ｐ上にパターンＭＰの像を形成するためのマスクＭであって、パターンＭＰが形成され、所定軸Ｊ周りに配置されたパターン形成面ＭＦと、パターン形成面ＭＦの所定領域にパターンＭＰに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。前記マークは、前記パターン形成面ＭＦの周方向に連続的もしくは断続的に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 露光装置における投影光学系を介してマスク面とプレート面の位置検出をするにあたり、前記投影光学系における非点隔差の影響をできる限り受けない位置で位置検出マークを検出し、精度良くマスク面とプレート面の位置検出をする方法を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、物体面（１１）上に形成されたパターンを像（２１）面上に結像させる投影光学系（３０）と、露光波長と異なる波長を有し物体面と像面の相対的な位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出する位置検出装置（５０）を備えている。位置検出を投影光学系（３０）で生ずる非点隔差の影響が少ない位置で実施することで、位置検出の精度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】ワークを搬送しながらマスクとワークのＸ，Ｙ，θ方向のズレをリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができるマスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたマスク側アライメントマーク４１は、Ｘ方向に対して互いに異なる角度α°、−α°でそれぞれ傾斜した２本の斜線部４２ａ，４２ｂと、Ｘ方向に沿って延びる直線部４３ａ、４３ｂとを有する。また、このマスクＭを使用して、近接スキャン露光装置１では、撮像手段によって検出されたマスク側アライメントマーク４１とワーク側アライメントマークＷａとのズレ量が、ワークＷの搬送中、ワーク搬送機構１０、マスク駆動部１２、照射部１４の少なくとも一つによって補正される。 （もっと読む）

【課題】マスクの位置合わせの作業性を向上させつつ、位置合わせの精度を高め、容易に、かつ高精度に圧電板や電極を形成することができる圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】ウエハ側マーク群７１と、電極マスク側マーク群５２とを検出する電極マーク群検出工程と、ウエハ側マーク群７１と電極マスク側マーク群５２とを位置合わせしながらウエハに電極膜用マスクを配置する電極マスク配置工程とを有し、ウエハ側マーク群７１、および電極マスク側マーク群５２は、それぞれ互いに大きさの異なるマーク５１ａ〜７１ｄにより構成され、それぞれ最も小さいウエハ側マーク７１ｄ、および電極マスク側マーク５２ｄを互いのマークの位置合わせ用として利用し、これ以外のウエハ側マーク７１ａ〜７１ｃ、および電極マスク側マーク５２ａ〜５２ｃを、電極マーク群検出工程に利用する。 （もっと読む）

【課題】装置のコスト増を招くことなく、高精度に位置決めした状態でステップ移動を行い、基板上にファーストレイヤーを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置１０１は、光源と、基板５０１との位置合わせのためのアライメントマークを有するフォトマスク２００と、基板５０２とフォトマスク２００とを相対的に移動する搬送機構と、フォトレジストの一部にレーザーを照射するレーザー照射装置と、フォトマスク２００と、基板５０１との位置合わせを行う位置合わせ機構とを備える。位置合わせは、例えば、前回の露光位置で形成されたレーザー照射跡３１２及び３２３と、これらに対応するフォトマスク２００上のアライメントマークとが重なるように、基板５０１の位置が調整されることで実現される。 （もっと読む）