露光装置
【課題】パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク（１８ａ等）を経た照明系１からの露光光により基板２１を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置１０である。照明系１では、マスクを照明することのできる照明可能領域Ｌａが、マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、照明系１は、マスクに対して移動することにより、照明可能領域Ｌａをマスクの全領域に行き渡らせることが可能である。
【解決手段】マスク（１８ａ等）を経た照明系１からの露光光により基板２１を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置１０である。照明系１では、マスクを照明することのできる照明可能領域Ｌａが、マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、照明系１は、マスクに対して移動することにより、照明可能領域Ｌａをマスクの全領域に行き渡らせることが可能である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板の表面に、所定のマスクパターンを露光装置により露光し、その後エッチング工程により基板上にマスクパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板や液晶基板等も露光装置を用いて製造されている。このような露光装置として、マスクと基板とを僅かな隙間を空けて配置し、１対１の関係（倍率）で基板にパターンを形成するいわゆるプロキシミティ露光を行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような露光装置では、基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成し、その基板を単一の回路部品に対応する大きさに切断することにより、作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することができる。
【０００３】
ここで、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板を基板とし、その基板（ガラス板）に上述した露光装置を用いてタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成することが考えられる。このようなガラス板は、硬化処理を施されることにより、表面の保護に用いることのできる所望の硬度とされる。この硬化処理後のガラス板は、非常に硬いものであることから、硬化処理後に切断することは困難である。このため、硬化処理前のガラス板を露光対象としての基板とし、その基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成することが考えられるが、硬化処理の性質上当該処理前にパターンを形成することは大変困難である。そこで、所望の大きさに切断して硬化処理を施したガラス板を露光対象としての基板とし、その基板を個別に露光装置を用いてタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２９２９０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、所望の大きさに切断して硬化処理を施したガラス板を、１つ１つ露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行うことは、作業効率の大幅な低下を招いてしまうことから、改善することが望ましい。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことのできる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置であって、前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置であって、前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることを特徴とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の露光装置であって、さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の露光装置を用いる露光方法であって、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、該照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含むことを特徴とする。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項４に記載の露光装置を用いる露光方法であって、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、該各照明位置において、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせるために、前記マスクおよび前記基板に対して前記マスクブラインドを移動させる複数の分割照明位置を設定し、前記照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含み、前記露光工程は、前記照明系が存在する前記照明位置において、前記分割照明位置のうちの１つに存在する前記マスクブラインドを経た前記照明系からの露光光により前記基板を露光する第１工程と、前記分割照明位置のうちの前記第１工程が行われていない１つに前記マスクブラインドを移動させる第２工程と、を設定した全ての前記分割照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の露光装置によれば、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことができる。
【００１４】
上記した構成に加えて、前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることとすると、照明系からの照明可能領域での照明により、基板を露光することができる。
【００１５】
上記した構成に加えて、さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることとすると、露光対象とする単一の基板とマスクとのアライメントを行ってから、その基板を露光するので、当該基板を適切に露光することができる。
【００１６】
上記した構成に加えて、さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることとすると、照明可能領域内に複数の基板が取り付けられた取付板を用いることにより、さらに効率よく露光処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０における主に照明系１の構成を模式的に示す説明図である。
【図２】露光装置１０における主に露光ステージ１９の周辺の構成を模式的に示す説明図である。
【図３】マスクステージ１８に設けられるマスクの例を示す説明図であり、（ａ）はマスク１８ａを模式的に示し、（ｂ）はマスク１８ｂを模式的に示している。
【図４】４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２と、照明可能領域Ｌａと、を模式的に示す説明図である。
【図５】２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２と、照明可能領域Ｌａと、を模式的に示す説明図である。
【図６】露光装置１０における露光処理の際の動作を説明するための図２と同様の説明図であり、（ａ）は取付板２２が載置される様子を示し、（ｂ）はアライメント観察機構２３を用いて調整（アライメント）を行う様子を示し、（ｃ）は１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示し、（ｄ）は（ｃ）とは異なる１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示している。
【図７】露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。
【図８】露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。
【図９】露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。
【図１０】露光装置１０における第１照明位置の照明可能領域Ｌａ内の露光処理において、分割照明領域Ｄａの設定とその位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は分割照明領域Ｄａが設定される前であって基板２１Ｂ−１のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｂ）は基板２１Ｂ−１に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示し、（ｃ）は基板２１Ｂ−２のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｄ）は基板２１Ｂ−２に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示している。
【図１１】露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。
【図１２】２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２と、その取付板２２に対して設定された各照明位置の設定および各照明位置における各分割照明位置の設定と、それに伴う効果と、を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本願発明に係る露光装置の発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
【実施例】
【００１９】
先ず、本願発明に係る露光装置１０の概略的な構成について説明する。図１は、本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０における主に照明系１の構成を模式的に示す説明図である。図２は、露光装置１０における主に露光ステージ１９の周辺の構成を模式的に示す説明図である。なお、理解容易のために、図１では、アライメント観察機構２３の構成を省略して示し、図２では、照明系１の構成を省略して示している。
【００２０】
露光装置１０は、マスクと基板（露光対象）とを僅かな隙間を空けて配置し、１対１の関係（倍率）で基板にパターンを形成するいわゆるプロキシミティ露光を行うものである（図２参照）。この露光装置１０は、図１に示すように、光軸方向に沿って出射側から順に、光源１１と、コールドミラー１２と、露光シャッタ１３と、紫外線バンドパスフィルタ１４と、インテグレータレンズ１５と、コリメータミラー１６と、マスクブラインド１７と、マスクステージ１８と、露光ステージ１９と、を有する。この露光装置１０（照明系１）は、露光光として紫外線を用いている。
【００２１】
光源１１は、露光に用いる露光光としての紫外線の照射のために設けられており、本実施例では、水銀ランプ１１ａが楕円反射鏡（楕円鏡）１１ｂの第１焦点位置に配置されて構成されている。この光源１１（その水銀ランプ１１ａ）は、後述する制御部２４による制御下で点灯および消灯される。光源１１では、水銀ランプ１１ａから出射された出射光を、楕円反射鏡１１ｂに反射してコールドミラー１２へと進行させる。
【００２２】
コールドミラー１２は、入射した光のうち、赤外領域の熱線を透過させるとともに他の波長帯域の光を反射するものであり、入射した光から赤外領域の熱線を分離することができる。このため、光源１１からの出射光は、コールドミラー１２により赤外領域の熱線が分離されて、露光シャッタ１３もしくは紫外線バンドパスフィルタ１４へと進行する。
【００２３】
その露光シャッタ１３は、コールドミラー１２により反射された出射光の透過および遮断の切り替えを可能とすべく、コールドミラー１２から紫外線バンドパスフィルタ１４へと向かう光路（後述する照明光路）上に出し入れ自在とされている。この露光シャッタ１３は、光路上から退避されると後述するように基板２１（図２、図６（ｃ）、図６（ｄ）等参照）の露光を可能とし、光路上に位置されると後述する基板２１の露光を停止させる。この露光シャッタ１３は、後述する制御部２４による制御下で後述する照明光路に対して出し入れされる。
【００２４】
紫外線バンドパスフィルタ１４は、入射した光のうち紫外線のみの透過を許すものであり、本実施例では、波長３６５ｎｍの水銀のスペクトル線であるｉ線の透過を許すｉ線バンドパスフィルタにより構成されている。このため、コールドミラー１２により反射された出射光は、紫外線バンドパスフィルタ１４により紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光（実際には、ｉ線の波長帯域の近傍の強度が高い光）とされて、インテグレータレンズ１５へと進行する。なお、ｉ線以外にも、ｈ線、ｉ線とｈ線の組み合わせ、またはその間の波長を利用することができる。
【００２５】
インテグレータレンズ１５は、入射した光の照度ムラを打ち消して照射面において周辺部まで均一で明るい照度分布とする。このため、紫外線バンドパスフィルタ１４を経て紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光とされた入射光は、インテグレータレンズ１５により均一な照度分布とされてコリメータミラー１６へと進行する。なお、このインテグレータレンズ１５と紫外線バンドパスフィルタ１４とは、配置を逆転させても同様の作用を得ることができる。
【００２６】
コリメータミラー１６は、入射した光を平行光（光束）として反射する。このため、インテグレータレンズ１５を経て均一な照度分布とされた出射光は、コリメータミラー１６により反射されることにより、平行光とされてマスクブラインド１７およびマスクステージ１８へと進行する。このコリメータミラー１６は、インテグレータレンズ１５との協働により、平行光とした出射光が、マスクブラインド１７における最も大きくした状態の後述する透過開口１７ａ（図６（ｃ）、（ｄ）参照）を、過不足なく照射することができるように、光学的な設定が為されている。ここでいう過不足なく照射するとは、透過開口１７ａの内方を余すことなく照射することができるとともに、透過開口１７ａの周縁部（マスクブラインド１７）により蹴られる領域（当該周縁部を照射する領域）が可能な限り小さくされていることをいう。
【００２７】
マスクステージ１８は、所望のパターンが形成されたマスク１８ａを、コリメータミラー１６により反射された出射光の光路上に位置させて保持する。このマスク１８ａでは、本実施例では、後述する４個の基板２１Ａ（図４参照）に対応する４個のパターンＰｃＡが形成されている（図３（ａ）参照）。また、マスクステージ１８では、図示は略すが、マスク１８ａの取り外しが可能とされており、マスク１８ａとは異なる所望のパターンが形成されたマスクへの交換が可能とされている。この他のマスクとして、本実施例では、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）を用意している。このマスク１８ｂでは、本実施例では、後述する２８個の基板２１Ｂ（図５参照）に対応する２８個のパターンＰｃＢが形成されている（図３（ｂ）参照）。これらのマスク１８ａおよびマスク１８ｂを含む交換対象とされる各マスクでは、各パターン（ＰｃＡ、ＰｃＢ参照）において、アライメントマークＰａが形成されている（図３参照）。このパターンＰｃＡおよびパターンＰｃＢは、図示は略すが、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）とされている。
【００２８】
マスクステージ１８は、本実施例では、交換対象とされる各マスク（１８ａ等）を鉛直方向の上側に載置させた状態で保持することが可能とされている。これにより、マスクステージ１８では、各マスク（１８ａ等）の交換作業を容易なものとすることができるとともに、その各マスク（１８ａ等）を保持するための構成を容易なものとすることができる。また、マスクステージ１８は、保持した各マスク（１８ａ等）の鉛直方向の下側であって、各マスク（１８ａ等）を保持する構成の内方に、露光ステージ１９を受け入れることが可能とされている。これは、後述するように、露光ステージ１９の載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１）を、プロキシミティ露光を行う観点から、マスク（１８ａ等）に対して所定の位置とする必要があることによる。
【００２９】
本実施例では、マスク１８ａおよびマスク１８ｂを含む交換対象とされる各マスクが、後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ（図２参照）を全面に渡って覆うことが可能な大きさ寸法とされている。また、交換対象とされる各マスクでは、その全領域を効率よく利用すべくパターン（図３のＰｃＡ、ＰｃＢ参照）の個数およびその配置が設定されている。この各パターンの個数および配置の設定は、後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ（図２参照）に載置される取付板２２において、取り付けられる基板２１の個数およびその配置に対応するものとされている。換言すると、各パターンの個数および配置は、取付板２２の全領域を効率よく利用すべく個数およびその配置が設定されて取り付けられる複数の基板２１に対応するものとされている。このため、コリメータミラー１６により反射された出射光は、マスク１８ａを透過することにより、マスク１８ａに形成されたパターン（パターンＰｃＡ）の形状に応じたものとされて露光ステージ１９（基板２１の表面）へと進行する。この交換対象とされる各マスクにおけるパターンの個数および配置の情報は、制御部２４の記憶部（図示せず）に格納されている。
【００３０】
このマスクステージ１８とコリメータミラー１６との間に、マスクブラインド１７が設けられている。このマスクブラインド１７は、コリメータミラー１６により反射されてマスク１８ａに向かう出射光の照明光路上に進退自在とすべくマスクステージ１８に設けられている。マスクブラインド１７は、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）のマスクパターンに応じて適宜光路上に進出されて、透過を許す領域（以下では、透過開口１７ａ（図６（ｃ）、（ｄ）参照）ともいう）が可変とされている。このため、マスクブラインド１７は、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）のマスクパターン（パターンＰｃＡ等）のうち所望の領域（後述する照明可能領域Ｌａもしくは分割照明領域Ｄａ）のみのマスクパターン像を、露光ステージ１９に載置された後述する基板２１上に形成させることができる（図４および図５参照）。マスクブラインド１７では、マスクブラインド駆動機構２６により、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）に対して、その平面に沿う方向（後述するＸ−Ｙ平面に沿う方向）への移動が行われる。また、マスクブラインド１７では、マスクブラインド駆動機構２６により、マスク（１８ａ等）に対する位置に拘らず、透過開口１７ａの大きさ寸法および形状の調整が行われる。このマスクブラインド駆動機構２６は、後述する制御部２４による制御下で駆動される。このことから、露光装置１０では、マスクブラインド１７およびマスクステージ１８が、マスク（１８ａ等）に対して、後述する照明系１からの露光光により照明される領域（後述する照明可能領域Ｌａもしくは分割照明領域Ｄａ）を設定するマスクステージ機構２として機能する。
【００３１】
このマスクブラインド１７は、透過開口１７ａを最も大きくした状態において、コリメータミラー１６を経た出射光の進行方向に直交する断面形状を、マスクステージ１８に設けられるマスク（１８ａ等）（後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ）の全領域を複数に分割した大きさ寸法に相当させるものとされている。なお、ここでいう全領域を複数に分割した大きさ寸法とは、その全領域を０および１を除く自然数で除算したものに限定されるものではなく、２つ以上の当該大きさ寸法により一部重複することを含んで全領域を行き渡らせることができるものであればよい。
【００３２】
マスクブラインド１７は、本実施例では、コリメータミラー１６を経た出射光が最も大きくされた透過開口１７ａを通過すると、その断面形状が、マスクステージ１８に設けられるマスク（１８ａ等）（後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当する矩形状とされる（図４および図５の符号Ｌａ参照）。以下では、透過開口１７ａを通過した出射光により照明される領域を照明可能領域Ｌａ（図４および図５等参照）という。
【００３３】
このことから、露光装置１０では、光源１１から、コールドミラー１２、露光シャッタ１３、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を経る光路が、マスク１８ａを露光光としての紫外線（ｉ線）で照明するための照明系（照明光学系）１として機能する。この照明系１は、最大で、マスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａ（複数（この例では４つ）に分割した領域）を、紫外線（ｉ線）で照明することができる。
【００３４】
照明系１は、照明系移動機構２５により、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対して、その平面に沿う方向（後述するＸ−Ｙ平面に沿う方向）への移動が可能とされている。すなわち、照明系移動機構２５は、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対して、照明系１を後述するＸ軸方向およびＹ軸方向へと適宜移動させることができる。この照明系移動機構２５は、後述する制御部２４による制御下で駆動される。この照明系１は、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して移動されることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能とされている。なお、この照明系１の移動は、手動により行うものであってもよい。
【００３５】
このため、露光装置１０では、照明系１によるマスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのパターンＰｃＡの像（以下、マスクパターン像ともいう）を、照明可能領域Ｌａで露光ステージ１９に載置された後述する基板２１の表面に形成する（図４および図５等参照）。このとき、照明系１では、コリメータミラー１６により反射された出射光が平行光とされていることから、マスク１８ａのパターンＰｃＡに対して、１対１の比率で後述する基板２１の表面にマスクパターン像を形成する。以下では、この照明系１の照明により、マスク１８ａ（そのパターンＰｃＡ）のマスクパターン像を形成する光路を露光光路とし、その光軸方向をＺ軸方向とする。また、露光光路の光軸方向（Ｚ軸方向）に直交する面をＸ−Ｙ平面とする。
【００３６】
露光ステージ１９には、図２に示すように、マスクパターンの露光のために複数の基板２１が取り付けられた取付板２２が、載置面１９ａに載置される。この露光ステージ１９は、載置面１９ａをＸ軸方向に移動させることができるとともに、載置面１９ａをＹ軸方向に移動させることができ、かつその載置面１９ａをＺ軸方向に移動させることが可能とされている。また、露光ステージ１９は、載置面１９ａをＺ軸回りに回転させることができるとともに、載置面１９ａのＺ軸方向に対する傾斜を調整することが可能とされている。このため、露光ステージ１９は、載置面１９ａに載置される各基板２１の表面をマスクステージ１８に保持されたマスク１８ａに近接させて取付板２２を保持することができ、保持した取付板２２（各基板２１）を露光光路に直交する面に沿って移動させることができ、保持した取付板２２（各基板２１）を露光光路に直交する面上で回転させることができ、保持した取付板２２（各基板２１）の露光光路に対する傾斜を調整することができる。このことから、露光ステージ１９は、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する基板２１の姿勢の調整を行うことができる。
【００３７】
この露光ステージ１９における取付板２２の移動は、本実施例では、後述する制御部２４により露光ステージ１９の内方に設けられたステージ駆動機構２７が制御されることで行われる。なお、露光ステージ１９における取付板２２の移動は、手動により行うものであってもよい。本実施例では、取付板２２は、そこに取り付けられた各基板２１に対してプリアライメントされた状態で露光ステージ１９上に載置される。このプリアライメントとは、各基板２１を照明系１における基準位置とするものであり、各基板２１に対するマスクパターンの露光位置に要求される位置精度を満たすものではない。
【００３８】
その各基板２１は、本実施例では、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板に、紫外線（ｉ線）に対して光反応するフォトレジスト等の感光材料が塗布または張り付けられて形成されている。このため、各基板２１は、紫外線（ｉ線）の照射により露光可能とされている。その各ガラス板は、図示は略すが、携帯型電子機器のタッチパネルの保護ガラスとしての形状に成形された後、硬化処理が施されて形成されている。各基板２１は、少なくとも、照明系１による照明可能領域Ｌａよりも小さな大きさ寸法のものが用いられる。換言すると、照明系１による照明可能領域Ｌａは、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されている。
【００３９】
本実施例では、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）が対応され照明可能領域Ｌａに近い大きさ寸法とされた基板２１Ａ（図４参照）と、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）が対応され基板２１Ａよりも小さい大きさ寸法とされた基板２１Ｂ（図５参照）と、が露光対象として設定されている。この各基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）は、図示は略すが、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）を形成するために、露光される。各基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）には、それぞれ複数のアライメントマークＡｍ（図４および図５参照）が設けられている。この各基板２１は、取付板２２を介して露光ステージ１９に保持される。
【００４０】
その取付板２２は、平坦な板状を呈し、露光ステージ１９の載置面１９ａよりも小さな大きさ寸法とされている。取付板２２は、載置面１９ａに載置された状態で露光ステージ１９により保持可能とされている。この露光ステージ１９による取付板２２の保持は、吸着によるものであってもよく、保持爪によるものであってもよい。この取付板２２では、各基板２１に対応するマスク（１８ａ等）に形成されたパターンに適合されて、各基板２１が取り付けられる。換言すると、取付板２２では、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）における各パターンの個数に等しい個数の基板２１が、その各パターンの配置に適合されて取り付けられる。取付板２２では、本実施例では、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）に対応されて、４個の基板２１Ａが取付板２２に取り付けられ（図４参照）、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）に対応されて、２８個の基板２１Ｂが取付板２２に取り付けられる（図５参照）。この各基板２１の取り付けは、露光ステージ１９の載置面１９ａ上への取付板２２の載置、および載置面１９ａ上における後述するアライメントのための取付板２２の移動の際、位置ずれを起こすことなく取り付けられていれば、接着材を用いるものであっても、補助器具による固定であっても、凹所に嵌め込むものであってもよい。本実施例では、取付板２２では、複数の基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）が接着材により取り付けられている。
【００４１】
さらに、本実施例では、取付板２２には、複数の基板２１が取り付けられる領域と干渉しない（重ならない）位置に、複数のアライメントマークＢａ（図４および図５参照）が設けられている。このアライメントマークＢａは、後述するように、取付板２２に取り付けられた各基板２１のアライメントマークＡｍとの相対的な位置関係に基づいて、取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の特定のために用いられる。このアライメントマークＢａは、本実施例では、取付板２２における４隅に設けられている。
【００４２】
この露光装置１０では、照明系１において、光源１１から出射された出射光が、コールドミラー１２、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５、コリメータミラー１６およびマスクブラインド１７を経て、マスクステージ１８へと到達することにより、マスクステージ１８に保持されたマスク１８ａの照明可能領域Ｌａを紫外線（ｉ線）で一様に照射する。すると、露光装置１０では、露光ステージ１９の載置面１９ａ（そこに載置された各基板２１）上に、照明可能領域Ｌａで紫外線（ｉ線）によるマスクパターン像が適切に形成される。また、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させて、照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせることにより、載置面１９ａ（そこに載置されたすべての基板２１）に対して紫外線（ｉ線）によるマスクパターン像が適切に形成される。このとき、露光装置１０では、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）に対して移動させる必要がないことから、所謂ノンステップステージ機構として機能する。
【００４３】
このことから、露光装置１０では、移動された照明系１の位置（照明可能領域Ｌａ）において、マスクパターン像と各基板２１とが適切な位置となるように、取付板２２の位置を設定することにより、各基板２１にマスクパターン像を適切に露光することができる。このマスクパターン像に対する各基板２１の位置、すなわちマスク１８ａに対する各基板２１の光学的な位置は、露光ステージ１９が保持する取付板２２を適宜移動させることにより、調整する（アライメントする）ことができる。このため、露光装置１０では、露光ステージ１９が、マスク（１８ａ等）に対して、各基板２１が取り付けられた取付板２２の位置を調整する位置調整機構３として機能する。この露光装置１０では、この調整（アライメント）のために、アライメント観察機構２３（図２等参照）が設けられている。
【００４４】
このアライメント観察機構２３は、照明系１のコリメータミラー１６と、マスクステージ１８（マスク１８ａ）と、の間で照明光路に対して進退可能に設けられている。アライメント観察機構２３は、マスクパターン像におけるアライメントマークＰａ（図３参照）と、観察対象とする基板２１のアライメントマークＡｍ（図４および図５参照）と、をＺ軸方向（露光光路における光軸方向）で観察することが可能とされている。このアライメント観察機構２３は、図示は略すが、Ｚ軸方向に沿う撮影光軸を有し、マスク１８ａおよびそれを経た観察対象とした基板２１の画像を取得可能な撮像装置を備えている。アライメント観察機構２３は、取得した観察画像を制御部２４（図１参照）に出力することができる。
【００４５】
制御部２４は、露光装置１０の動作を統括的に制御する。この制御部２４は、図示は略すが、照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ａ）との間の照明光路上の任意の位置にアライメント観察機構２３を存在させることができるとともに、その照明光路上からアライメント観察機構２３を退避させることができる。また、制御部２４は、図示は略すが、アライメント観察機構２３から出力された観察画像を適宜表示部に表示させることができるとともに、当該画像を画像解析することにより、マスクパターン像におけるアライメントマークＰａ（その中心位置（図３参照））と、観察対象とした基板２１のアライメントマークＡｍ（その中心位置（図４および図５参照））と、の位置ずれ量（調整代）を取得することが可能とされている。制御部２４は、アライメント観察機構２３を経て取得した位置ずれ量（調整代）に基づいて、露光ステージ１９に保持された取付板２２を移動させることにより、マスクパターン像と観察対象とした基板２１とを適切な位置関係とする調整（アライメント）を行う。
【００４６】
また、制御部２４は、上述したように、照明系移動機構２５、マスクブラインド駆動機構２６およびステージ駆動機構２７の駆動を制御することができる。このため、制御部２４は、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対するＸ−Ｙ平面に沿う方向での照明系１の位置を調整することができ、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する照明可能領域Ｌａの位置を調整することができ、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する後述する分割照明領域Ｄａの設定およびその位置を調整することができ、マスクパターン像に対する各基板２１の位置（マスク１８ａに対する各基板２１の光学的な位置）を調整することができる。
【００４７】
さらに、制御部２４は、本実施例では、露光ステージ１９の載置面１９ａに載置される取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の情報を取得することが可能とされている。この情報は、例えば、図示は略すが、複数の基板２１が取り付けられた取付板２２の画像を取得し、その画像を画像解析することにより、取付板２２の各アライメントマークＢａと、各基板２１の各アライメントマークＡｍ（図４および図５参照）と、の位置ずれ量（調整代）を取得することにより、取得することができる。この情報を取得する位置情報取得機構は、取得した情報を制御部２４に送信することを可能とするものであれば、露光装置１０の一部として設けるものであってもよく、露光装置１０とは別体として設けるものであってもよい。このため、制御部２４は、本実施例では、図示を略す位置情報取得機構からの取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の情報に基づいて、マスクステージ１８（マスク１８ａ）に対して露光ステージ１９（載置面１９ａ）を移動させる（位置を調整する）ことにより、取付板２２に取り付けられた複数の基板２１のうち、任意の基板２１のアライメントマークＡｍと、それに対応するマスクパターンにおけるアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３が観察対象とすることができる位置関係とすること（位置調整）ができる。
【００４８】
次に、実施例１の露光装置１０において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）を用いた露光処理について説明する。図６は、露光装置１０における露光処理の際の動作を説明するための図２と同様の説明図であり、（ａ）は取付板２２が載置される様子を示し、（ｂ）はアライメント観察機構２３を用いて調整（アライメント）を行う様子を示し、（ｃ）は１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示し、（ｄ）は（ｃ）とは異なる１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示している。図７は、露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。図８は、露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。以下、この露光処理の際の制御部２４における制御処理の一例である図８のフローチャートの各ステップについて、図６および図７を用いて説明する。
【００４９】
この図８のフローチャートでは、基板２１Ａ（図４参照）を露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８にはマスク１８ａ（図３（ａ）参照）を設けている。このため、載置する取付板２２では、マスク１８ａにおける４個のパターンＰｃＡの並びに対応させて、４個の基板２１Ａが取り付けられている（図４および図７参照）。この載置される取付板２２上における４個の基板２１Ａの各アライメントマークＡｍの位置の情報は、上述した位置情報取得機構（図示せず）により取得されて、制御部２４に送信される。制御部２４は、この情報を自らの記憶部（図示せず）に格納するとともに、後述するステップＳ３を実行する前に、この情報に基づいて最初に露光を行うアライメント観察機構２３が基板２１ＡのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置となるように露光ステージ１９により当該基板２１Ａを移動させてその位置を調整する。このとき、制御部２４は、予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターンＰｃＡ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、最初に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンＰｃＡのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置に、アライメント観察機構２３を移動させる。本実施例では、図４を正面視して左上の基板２１ＡのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置（照明系１（照明可能領域Ｌａ）における第１照明位置）にアライメント観察機構２３を移動させる。
【００５０】
また、制御部２４では、照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせる、すなわちマスク１８ａに設けられた複数（この例では４個）のパターンＰｃＡを余すことなく照明することを可能とするために、マスク１８ａに対して照明系１を移動させる複数（この例では４箇所）の照明位置を設定する。この複数の照明位置は、できる限り少ない数ですべてのパターンＰｃＡを照明することができる、すなわちより効率よく照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせることができるように設定する。本実施例では、図７の（ａ）に示す位置を第１照明位置とし、（ｂ）に示す位置を第２照明位置とし、（ｃ）に示す位置を第３照明位置とし、（ｄ）に示す位置を第４照明位置としている。さらに、後述するように、露光処理が開始される際、照明可能領域Ｌａ（照明系１）の上述した照明位置の番号をカウントするカウント値ｎは１とされている。
【００５１】
ステップＳ１では、載置面１９ａに載置された取付板２２を露光ステージ１９で保持して、ステップＳ２へ進む。このステップＳ１では、図示を略す搬送機構により取付板２２が載置面１９ａに載置されると、その取付板２２を露光ステージ１９で保持する（図６（ａ）参照）。このとき、取付板２２は、載置面１９ａ上において、プリアライメントされた状態で載置される。
【００５２】
ステップＳ２では、ステップＳ１での取付板２２の保持に続き、載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１Ａ）をマスク１８ａに対して所定の位置として、ステップＳ３へ進む。このステップＳ２では、露光ステージ１９をＺ軸方向でマスク１８ａに近接する方向へと移動することにより、取付板２２をマスク１８ａに対する所定の位置とする（図６（ｂ）参照）。この所定の位置とは、プロキシミティ露光を行う観点から、照明系１によるマスク１８ａの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのマスクパターン像を１対１の関係（倍率）で基板２１Ａの表面に適切に形成することができることを言う。この状態において、本実施例では、照明系１は、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対するＸ−Ｙ平面に沿う方向で見た位置が、図７を正面視して取付板２２上における左上の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる第１照明位置とされている（図７（ａ）参照）。
【００５３】
ステップＳ３では、ステップＳ２での取付板２２をマスク１８ａに対して所定の位置とすること、あるいは、ステップＳ７での照明系１の第ｎ照明位置への移動に続き、アライメント情報を取得して、ステップＳ４へ進む。このステップＳ３では、第ｎ照明位置とした照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ａ）との間の照明光路上において、その照明可能領域Ｌａに存在する基板２１ＡのアライメントマークＡｍとマスクパターンのアライメントマークＰａとを観察対象とすることができる位置に露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３とを相対的に移動（位置調整）させて（図６（ｂ）参照）、そのアライメント観察機構２３からアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）を取得する（図４および図７参照）。この観察対象とすることができる位置とは、照明系１が第１照明位置である場合（ｎ＝１である場合）、図４および図７（ａ）に示すように、左上の基板２１ＡのアライメントマークＡｍと、そこに対応する左上のパターンＰｃＡのアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３での観察画像内に捕捉することを言う。このとき、本実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報と、予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターンＰｃＡ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報と、に基づいて、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３との相対的な移動（位置調整）を行う。
【００５４】
ステップＳ４では、ステップＳ３でのアライメント情報の取得に続き、そのアライメント情報に基づいてアライメントを行い、ステップＳ５へ進む。このステップＳ４では、アライメント観察機構２３を経て取得した位置ずれ量（調整代）に基づいて、露光ステージ１９に保持された取付板２２を移動させることにより、マスクパターン像と観察対象とした基板２１Ａとを適切な位置関係とする調整いわゆるアライメントを行う。この調整（アライメント）では、載置面１９ａ（取付板２２）をＸ軸方向およびＹ軸方向へと移動させたり、載置面１９ａ（取付板２２）をＺ軸方向周りに回転させたり、載置面１９ａ（取付板２２）のＺ軸方向に対する傾斜を調整したりすることにより、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａのマスクステージ１８（マスク１８ａ）および照明系１に対する位置関係を適切なものとする。このため、ステップＳ３およびステップＳ４は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａのマスクステージ１８のマスク１８ａ（照明系１）に対する位置を調整する調整工程となる。なお、ステップＳ４では、アライメント観察機構２３を照明光路上から退避させる。この際、本実施例では、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｎ＋１）照明位置での照明系１の照明光路上に存在する基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へと、アライメント観察機構２３を移動させる。このアライメント観察機構２３の移動は、次にステップＳ３へと戻ってくるまでの間に、それらの動作（主に後述する露光工程（ステップＳ５））に並行して行う。
【００５５】
ステップＳ５では、ステップＳ４でのアライメントの実行に続き、露光を行い、ステップＳ６へ進む。このステップＳ５では、ステップＳ４でアライメントされた状態を維持し、照明系１によるマスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのパターンＰｃＡのマスクパターン像を、照明可能領域Ｌａで露光ステージ１９に載置された基板２１Ａの表面に形成する（図６（ｃ）参照）。すると、照明可能領域Ｌａにある基板２１Ａの表面（図７参照）には、マスク１８ａのパターンＰｃＡのマスクパターン像に倣うパターンが形成される。このため、ステップＳ５は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａを露光する露光工程となる。
【００５６】
ステップＳ６では、ステップＳ５での露光の実行に続き、ｎ＝４であるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合はステップＳ８へ進み、Ｎｏの場合は、照明位置の番号をカウントするカウント値ｎを、ｎ＝ｎ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ７へ進む。このステップＳ６では、カウント値ｎが４である、すなわち照明可能領域Ｌａ（照明系１）の照明位置が第４照明位置であるか否かを判断している。ここで、本実施例の露光装置１０では、上述したように、照明可能領域Ｌａが露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当するものとされていることから、照明位置が第４照明位置であるということは、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域に対する露光が終了したことを意味する。このため、ステップＳ６では、載置面１９ａに載置された取付板２２（４個の基板２１Ａ）に対する露光が終了した否かを判断していることとなる。
【００５７】
ステップＳ７では、ステップＳ６でのｎ＝４ではないとの判断に続き、照明系１を第ｎ照明位置へと移動させて、ステップＳ３に戻る。このステップＳ７では、照明系移動機構２５（図１および図２参照）を制御することにより、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第ｎ照明位置へと移動させる（図６（ｄ）参照）。ここで、ステップＳ７へと進んできた場合、ステップＳ６においてカウント値ｎが１を加算した値に書き換えられていることから、ステップＳ６における照明位置とは異なる照明位置（次の照明位置）へと照明系１を移動させることとなる。すなわち、照明系１が第１照明位置（図７（ａ）参照）である場合（ステップＳ６においてｎ＝１である場合）、図７（ｂ）に示すように、図７を正面視して取付板２２上における左上の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる状態（図７（ａ）参照）から、同じく左下の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる状態（第２照明位置（図７（ｂ）参照））へと、照明系１を移動させる。このため、ステップＳ７は、照明系１を、設定した照明位置のうち露光工程が行われていない１つに移動する移動工程となる。
【００５８】
ステップＳ８では、ステップＳ６でのｎ＝４であるとの判断に続き、カウント値ｎを初期値（１）として、このフローチャートを終了する。この後、載置面１９ａに載置された取付板２２が、図示を略す搬送機構により載置面１９ａ上から他の箇所へと搬送される。
【００５９】
このように、露光装置１０では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）が、プリアライメントされた状態で載置面１９ａに載置されると（図６（ａ）参照）、ステップＳ１→ステップＳ２へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする（図７（ａ）参照）。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第２照明位置へと移動させて（図７（ｂ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第３照明位置へと移動させて（図７（ｃ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第４照明位置へと移動させて（図７（ｄ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ８へと進むことで、取付板２２に取り付けられた４個の基板２１Ａの適切な露光が終了する。
【００６０】
このため、露光装置１０では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）と、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）と、を用いることで、取付板２２を載置面１９ａ上に載置する作業を１度行うだけで、４個の基板２１Ａを適切に露光することができる。このとき、露光装置１０では、基本的に、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させるのみである。このため、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させる照明系ステップ機構（アライメント顕微鏡ステップ機構）と、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させることのないノンステップステージ機構（アライメントのための調整を除く）と、を採用した構成とされている。
【００６１】
なお、上記した本実施例の露光処理（図８のフローチャート）では、アライメントを実行するステップＳ４において、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｎ＋１）照明位置での照明系１の照明光路上に存在する基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へと、アライメント観察機構２３を移動させていることから、ステップＳ３において、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、マスクパターン（そのアライメントマークＰａ）（アライメント観察機構２３）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させて位置調整を行うだけとすることができるので、より効率よく露光処理を行うことができる。
【００６２】
次に、実施例１の露光装置１０において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いた露光処理について説明する。この露光処理は、後述する分割照明領域Ｄａ（第ｍ分割照明位置）に関する制御を除くと、基本的には、上述した露光処理（図８のフローチャート）と同様である。図９は、露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。図１０は、露光装置１０における第１照明位置の照明可能領域Ｌａ内の露光処理において、分割照明領域Ｄａの設定とその位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は分割照明領域Ｄａが設定される前であって基板２１Ｂ−１のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｂ）は基板２１Ｂ−１に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示し、（ｃ）は基板２１Ｂ−２のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｄ）は基板２１Ｂ−２に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示している。図１１は、露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。以下、この露光処理の際の制御部２４における制御処理の一例である図１１のフローチャートの各ステップについて、図９および図１０を用いて説明する。また、以下では、取付板２２に取り付けられた２８個の基板２１Ｂに対して、理解容易のために、図５を正面視して左上から横へ向けて順に付けた番号を用いる場合もある。
【００６３】
この図１１のフローチャートでは、基板２１Ｂ（図５参照）を露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８にはマスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）を設けている。このため、載置する取付板２２では、マスク１８ｂにおける２８個のパターンＰｃＢの並びに対応させて、２８個の基板２１Ｂが取り付けられている（図５および図９参照）。この載置される取付板２２上における２８個の基板２１Ｂの各アライメントマークＡｍの位置の情報は、上述した位置情報取得機構（図示せず）により取得されて、制御部２４に送信されている。制御部２４は、この情報を自らの記憶部（図示せず）に格納するとともに、この情報に基づいて、後述するステップＳ１４を実行する前に、最初に露光を行う基板２１ＢのアライメントマークＡｍをアライメント観察機構２３で観察対象とすることができる位置となるように露光ステージ１９により当該基板２１Ｂの位置を調整する。このとき、制御部２４は、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、最初に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置に、アライメント観察機構２３を移動させる。本実施例では、図４を正面視して左上の基板２１ＢのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置（照明系１（照明可能領域Ｌａ）における第１照明位置の第１分割照明位置）にアライメント観察機構２３を移動させる。
【００６４】
また、制御部２４では、後述する分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせる、すなわち各照明可能領域Ｌａ内においてマスク１８ｂに設けられた複数（この例では８個または６個）のパターンＰｃＢを余すことなく照明することを可能とするために、マスク１８ｂおよび基板２１Ｂに対してマスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）の位置を調整する複数の分割照明位置を設定する。この複数の分割照明位置は、できる限り少ない数ですべてのパターンＰｃＢを照明することができる、すなわちより効率よく分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることができるように設定する。本実施例では、第１照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ１の順に基板２１Ｂに適合する８箇所の分割照明位置を設定し（図９（ａ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ２の順に基板２１Ｂに適合する８箇所の分割照明位置を設定し（図９（ｂ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ３の順に基板２１Ｂに適合する６箇所の分割照明位置を設定し（図９（ｃ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ４の順に基板２１Ｂに適合する６箇所の分割照明位置を設定する（図９（ｄ）参照）。さらに、後述するように、露光処理が開始される際、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内において上述した分割照明位置の番号（露光を行う回数）をカウントするカウント値ｍは１とされている。
【００６５】
ステップＳ１１では、載置面１９ａに載置された取付板２２を露光ステージ１９で保持して、ステップＳ１２へ進む。このステップＳ１１は、図８のフローチャートにおけるステップＳ１と同様である。
【００６６】
ステップＳ１２では、ステップＳ１１での取付板２２の保持に続き、載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１Ｂ）をマスク１８ｂに対して所定の位置として、ステップＳ１３へ進む。このステップＳ１２は、図８のフローチャートにおけるステップＳ２と同様である。
【００６７】
ステップＳ１３では、ステップＳ１２での取付板２２をマスク１８ｂに対して所定の位置とすること、あるいは、ステップＳ２０での照明系１の第ｎ照明位置への移動に続き、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において露光を行う回数の最大値ｋを設定して、ステップＳ１４へ進む。このステップＳ１３では、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において露光を行う回数、すなわち第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内に存在する基板２１Ｂの個数を最大値ｋとして設定する。本実施例では、照明系１が第１照明位置である場合（ｎ＝１である場合）、図５および図９（ａ）に示すように、基板２１Ｂ−１から基板２１Ｂ−４と、基板２１Ｂ−８から基板２１Ｂ−１１と、の合計８個が照明可能領域Ｌａ内に存在されていることから、最大値ｋ＝８とする。これは、照明系１が第２照明位置（ｎ＝２）である場合も同様である。また、照明系１が第４照明位置である場合（ｎ＝４である場合）、図９（ｄ）に示すように、基板２１Ｂ−４から基板２１Ｂ−７と、基板２１Ｂ−１１から基板２１Ｂ−１４と、の合計８個が照明可能領域Ｌａ内に存在されているが、基板２１Ｂ−４と基板２１Ｂ−１１とは第１照明位置の際に照明可能領域Ｌａ内に存在されていたことから、これらを差し引いて合計６個が照明可能領域Ｌａ内に存在するものとし、最大値ｋ＝６とする。これは、照明系１が第３照明位置（ｎ＝３）である場合も同様である。
【００６８】
ステップＳ１４では、ステップＳ１３での最大値ｋの設定、あるいは、ステップＳ１８でのｍ＝ｋではないとの判断に続き、第ｍ分割照明位置に存在する基板２１Ｂのアライメント情報を取得して、ステップＳ１５へ進む。このステップＳ１４では、第ｎ照明位置とされた照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ｂ）との間の照明光路上において、その照明可能領域Ｌａの中の第ｍ分割照明位置に存在する基板２１ＢのアライメントマークＡｍとマスクパターンのアライメントマークＰａとを観察対象とすることができる位置に露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３とを相対的に移動（位置調整）させて、そのアライメント観察機構２３からアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）を取得する。この観察対象とすることができる位置とは、照明系１が第１照明位置であって（ｎ＝１である）、その照明可能領域Ｌａの中の第１分割照明位置を露光する（最初に露光を行う（ｍ＝１である））場合、図１０（ａ）に示すように、基板２１Ｂ−１のアライメントマークＡｍと、そこに対応する左上のパターンＰｃＢのアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３での観察画像内に捕捉することを言う。このとき、本実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報と、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報と、に基づいて、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３との相対的な移動（位置調整）を行う。
【００６９】
ステップＳ１５では、ステップＳ１４でのアライメント情報の取得に続き、そのアライメント情報に基づいてアライメントを行い、ステップＳ１６へ進む。このステップＳ１５は、図８のフローチャートにおけるステップＳ４と同様である。また、ステップＳ１５では、第（ｍ＋１）分割照明位置に存在する基板２１Ｂを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させる。この際、本実施例では、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｍ＋１）分割照明位置に存在する基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させる。このアライメント観察機構２３の移動は、本実施例では、次にステップＳ１４へと戻ってくるまでの間に、それらの動作（主に後述する第１工程（ステップＳ１７））に並行して行う。本実施例では、第１分割照明位置の露光のためのアライメントを行う（ｍ＝１である）場合、上述したように第２分割照明位置を基板２１Ｂ−２に対応するものとしていることから（図９の矢印Ａ１参照）、基板２１Ｂ−２に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３とを移動させる（図１０（ａ）に二点差線で示すアライメント観察機構２３および矢印参照）。このため、ステップＳ１４およびステップＳ１５は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在するいずれかの基板２１Ｂのマスクステージ１８のマスク１８ａ（照明系１）に対する位置を調整する調整工程となる。
【００７０】
ステップＳ１６では、ステップＳ１５でのアライメントの実行に続き、分割照明領域Ｄａを第ｍ分割照明位置に適合させて、ステップＳ１７へ進む。このステップＳ１６では、コリメータミラー１６により反射された出射光を、第ｍ分割照明位置に存在するパターンＰｃＢおよび基板２１Ｂのみに到達させるように（図１０（ｂ）参照）、コリメータミラー１６とマスク１８ｂとの間の照明光路上にマスクブラインド１７を進出させて、その透過開口１７ａの大きさを調整する。この調整により照明される領域を分割照明領域Ｄａとする。このため、ステップＳ１６では、マスクブラインド１７を調整して、その透過開口１７ａを通過した出射光が、第ｍ分割照明位置のみを照明するものとして分割照明領域Ｄａを設定し、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおける第ｍ分割照明位置のみの露光を可能とする。このため、ステップＳ１６は、分割照明位置のうちの後述する第１工程（ステップＳ１７）が行われていない１つにマスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）の位置を調整する第２工程となる。
【００７１】
ステップＳ１７では、ステップＳ１６での分割照明領域Ｄａを第ｍ分割照明位置に適合させることに続き、露光を行い、ステップＳ１８へ進む。このステップＳ１７は、図８のフローチャートにおけるステップＳ４と同様である。すなわち、ステップＳ１７では、照明系１によるマスク１８ｂにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、マスクブラインド１７を経ることで分割照明領域Ｄａのみで、マスク１８ｂのパターンＰｃＢのマスクパターン像を露光ステージ１９に載置された基板２１Ｂの表面に形成する（図１０（ｂ）参照）。すると、照明可能領域Ｌａの第ｍ分割照明位置にある基板２１Ｂの表面には、マスク１８ｂのパターンＰｃＢに適合するマスクパターン像に倣うパターンが形成される。このため、ステップＳ１７は、照明系１が存在する第ｎ照明位置において、第ｍ分割照明位置に存在する（その位置に調整された）マスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）を経た照明系１からの露光光により基板２１Ｂを露光する第１工程となる。
【００７２】
ステップＳ１８では、ステップＳ１７での露光の実行に続き、ｍ＝ｋであるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合は、カウント値ｍを初期値（１）としてステップＳ１９へ進み、Ｎｏの場合は、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において分割照明位置の番号（露光を行う回数）をカウントするカウント値ｍを、ｍ＝ｍ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ１４に戻る。このステップＳ１８では、カウント値ｍがｋである、すなわち第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおいて露光を行った回数が最大値となったか否かを判断している。ここで、本実施例の露光装置１０では、上述したように、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内に存在する基板２１Ｂの個数を最大値ｋとして設定していることから（ステップＳ１３）、露光を行った回数が最大値であるということは、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂに対する露光が終了したことを意味するので、ステップＳ１８は第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおける露光が終了した否かを判断していることとなる。このため、ステップＳ１４からステップＳ１８は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する各基板２１Ｂを露光する露光工程となる。
【００７３】
ステップＳ１９では、ステップＳ１８でのｍ＝ｋであるとの判断に続き、ｎ＝４であるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合はステップＳ２１へ進み、Ｎｏの場合は、照明位置の番号をカウントするカウント値ｎを、ｎ＝ｎ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ２０へ進む。このステップＳ１９は、図８のフローチャートにおけるステップＳ６と同様であり、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ｂ）の全領域に対する露光が終了したかを判断している。
【００７４】
ステップＳ２０では、ステップＳ１９でのｎ＝４ではないとの判断に続き、照明系１を第ｎ照明位置へと移動させて、ステップＳ１３に戻る。このステップＳ２０は、図８のフローチャートにおけるステップＳ７と同様であり、照明系移動機構２５（図１および図２参照）を制御することにより、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第ｎ照明位置へと移動させる。このため、ステップＳ２０は、照明系１を、設定した照明位置のうち露光工程が行われていない１つに移動する移動工程となる。
【００７５】
ステップＳ２１では、ステップＳ１９でのｎ＝４であるとの判断に続き、カウント値ｎを初期値（１）として、このフローチャートを終了する。この後、載置面１９ａに載置された取付板２２が、図示を略す搬送機構により載置面１９ａ上から他の箇所へと搬送される。
【００７６】
このように、露光装置１０では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）が、プリアライメントされた状態で載置面１９ａに載置されると、ステップＳ１１→ステップＳ１２へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂのうち、第１分割照明位置に存在する基板２１Ｂ−１を露光対象とする（図７（ａ）参照）。その後、ステップＳ１３→ステップＳ１４→ステップＳ１５→ステップＳ１６→ステップＳ１７へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第１分割照明位置を分割照明領域Ｄａとして、その中にある基板２１Ｂ−１に対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ１８→ステップＳ１４へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第２分割照明位置に存在する基板２１Ｂ−２を露光対象とし、ステップＳ１５→ステップＳ１６→ステップＳ１７へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第２分割照明位置を分割照明領域Ｄａとして、その中にある基板２１Ｂ−２に対してアライメントを行なってから露光を行う。このことを、図９（ａ）に示す矢印Ａ１の順に繰り返し行うことにより、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１から２１Ｂ−４、および２１Ｂ−８から２１Ｂ−１１の８個）の適切な露光が終了する。
【００７７】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第２照明位置へと移動させて（図９（ｂ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第２照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｂ）に示す矢印Ａ２の順に繰り返し行うことにより、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１５から２１Ｂ−１８、および２１Ｂ−２２から２１Ｂ−２５の８個）の適切な露光が終了する。
【００７８】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第３照明位置へと移動させて（図９（ｃ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第３照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置等と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｃ）に示す矢印Ａ３の順に繰り返し行うことにより、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１９から２１Ｂ−２１、および２１Ｂ−２６から２１Ｂ−２８の６個）の適切な露光が終了する。
【００７９】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第４照明位置へと移動させて（図９（ｄ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第４照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置等と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｄ）に示す矢印Ａ４の順に繰り返し行うことにより、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−５から２１Ｂ−７、および２１Ｂ−１２から２１Ｂ−１４の６個）の適切な露光が終了する。その後、ステップＳ１９→ステップＳ２１へと進むことで、取付板２２に取り付けられた２８個の基板２１Ｂの適切な露光が終了する。
【００８０】
このため、露光装置１０では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）と、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）と、を用いることで、取付板２２を載置面１９ａ上に載置する作業を１度行うだけで、２８個の基板２１Ｂを適切に露光することができる。このとき、露光装置１０では、基本的に、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させるのみである。このため、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させる照明系ステップ機構（アライメント顕微鏡ステップ機構）と、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させることのないノンステップステージ機構（アライメントのための調整を除く）と、を採用した構成とされている。
【００８１】
なお、上記した本実施例の露光処理（図１１のフローチャート）では、アライメントを実行するステップＳ１５において、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させていることから、ステップＳ１４において、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、マスクパターン（そのアライメントマークＰａ）（アライメント観察機構２３）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させて位置調整を行うだけとすることができるので、より効率よく露光処理を行うことができる。
【００８２】
次に、プロキシミティ露光を行う際の技術の課題について説明する。プロキシミティ露光では、マスクのマスクパターンと１対１の関係（倍率）で基板上にマスクパターン像を形成するものであることから、大きなマスクを用いることにより、一度に大きな範囲で基板を露光することができる。このため、プロキシミティ露光を行う露光装置では、複数の回路部品に対応する大きさ寸法の基板と、その基板に適合する大きさ寸法であって複数の回路部品のためのパターンが設けられたマスクと、を用いることにより、基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成し、その基板を単一の回路部品に対応する大きさに切断することにより、作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することが考えられている。
【００８３】
ここで、近年、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板に、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）を形成することにより、タッチパネルの機能を備えさせることが考えられている。このガラス板に、プロキシミティ露光を用いてパターンを形成する場合、上述したガラス板を露光対象としての基板とすることとなる。このようなガラス板は、硬化処理が施されることにより、表面の保護に用いることのできる所望の硬度とされる。この硬化処理後のガラス板は、非常に硬いものであることから、硬化処理後に切断することは困難である。このことから、硬化処理後のガラス板を露光対象としての基板とすると、上述したように作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することはできなくなってしまう。そこで、硬化処理前のガラス板に、複数の回路部品に対応するパターンを形成することが考えられる。しかしながら、上記した硬化処理を行うと、その性質上形成したパターンを傷めてしまうことから、その硬化処理前にパターンを形成することは大変困難である。
【００８４】
このため、硬化処理前のガラス板を所望の大きさに切断し、それらに硬化処理を施してから、その硬化処理後のガラス板を露光対象としての基板とし、当該ガラス板を個別に露光装置に配することにより、各ガラス板にタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成することとなる。このように、所望の大きさに切断して硬化処理を施した１つのガラス板を、露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行い、その後パターンを形成したガラス板を露光位置から退避させ、次のガラス板を露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行う、ということを繰り返すことは、作業効率の大幅な低下を招いてしまう。
【００８５】
これに対し、本発明に係る露光装置１０では、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して照明系１を移動させることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、複数の基板２１が取り付けられた取付板２２と、それに対応するマスク（１８ａ等）と、を用いることにより、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って移動させて、それぞれの基板２１が取り付けられた位置を照明可能領域Ｌａとすることで、すべての基板２１の露光を行うことができるので、１度載置面１９ａ上に取付板２２を載置するだけで、複数の基板２１を露光することができる。このため、各基板２１に対して、１つ１つ載置面１９ａ上に載置する作業を行う必要がないことから、複数の基板２１の露光に要する時間を短縮することができ、作業効率を高めることができる。
【００８６】
また、露光装置１０では、取付板２２に複数の基板２１を取り付けることで当該各基板２１の露光を行うものであることから、所望の大きさに切断してから硬化処理を施した複数のガラス板を取付板２２に取り付けることで、それら複数のガラス板を露光対象としての基板２１とすることができ、作業効率を高めつつ複数のガラス板にパターンを形成することができる。
【００８７】
さらに、露光装置１０では、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して照明系１を移動させることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、できる限り少ない数ですべてのパターン（ＰｃＡ等）を照明することができるように複数の照明位置を設定することより、より効率よく照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）の全領域に行き渡らせることができ、すべての基板２１の露光をより効率よく行うことができる。
【００８８】
露光装置１０では、照明系１による照明可能領域Ｌａを、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定していることから、マスク（１８ａ等）に設けられた複数のパターン（ＰｃＡ等）を余すことなく照明することを可能とする複数の照明位置を、より効率よく設定することができる。このため、さらに作業効率を高めることができる。
【００８９】
露光装置１０では、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って各照明位置へと移動させた後、その照明位置に存在する基板２１のアライメントマークＡｍとマスク（１８ａ等）のアライメントマークＰａとに基づいてアライメントを行うことから、作業効率を高めつつ複数の基板２１を適切に露光することができる。換言すると、露光装置１０では、その露光対象とする単一の基板２１（２１Ａ）とマスク（１８ａ等）とのアライメントを行ってから、その基板２１の露光工程を実行するので、当該基板２１を適切に露光することができる。
【００９０】
露光装置１０では、照明系１を各照明位置に移動させることにより、複数の基板２１を露光するものであることから、マスク（１８ａ等）（マスクステージ１８）や複数の基板２１（取付板２２）を移動させる必要がないので、簡易な構成としつつ複数の基板２１をより適切に露光することができる。これは、マスクステージ１８が、保持したマスク（１８ａ等）の鉛直方向の下側であって各マスク（１８ａ等）を保持する構成の内方に、露光ステージ１９を受け入れ可能な構成とされていることと、その構成により露光ステージ１９の載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１）を、プロキシミティ露光を行う観点から、マスク（１８ａ等）に対して所定の位置とすることが容易であることによる。また、照明系１は、マスクステージ１８や露光ステージ１９に比較して、簡易で小さな構成とすることができるとともに、露光工程において要求される設定位置の精度が低いことにもよる。
【００９１】
露光装置１０では、照明系１が存在する各照明位置に存在する基板２１（そのアライメントマークＡｍ）およびそれに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３を移動させることにより、すべての基板２１のアライメント情報を取得することができるので、複数の基板２１の適切な露光を可能としつつ作業効率を高めることができる。
【００９２】
露光装置１０では、照明系１（その光源１１（水銀ランプ１１ａ））を照明可能領域Ｌａのみを適切に照射することのできる出力に設定すればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を適切に照射することのできる出力に設定する構成と比較して、照明系１の出力を抑制することができる。
【００９３】
露光装置１０では、照明系１を照明可能領域Ｌａのみを適切に照射することのできる出力に設定すればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を適切に照射することのできる出力と同等の出力に設定することにより、各照明位置での露光に要する時間を短縮することができる。
【００９４】
露光装置１０では、照明系１を照明可能領域Ｌａのみを照射することのできる構成とすればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を照射する構成と比較して、照明系１の構成を簡易で小さなものとすることができる。
【００９５】
露光装置１０では、照明系１の出力を抑制することができるとともに、照明系１の構成を簡易で小さなものとすることができることから、照明系１の移動を容易なものとすることができるとともに、照明系１の移動のための照明系移動機構２５を簡易で小さなものとすることができる。
【００９６】
露光装置１０では、１つの照明位置での照明系１の照明光路上の露光を行う際、アライメント観察機構２３を次の照明位置での照明系１の照明光路上へと移動させることから、より作業効率を高めることができる。特に、上記した実施例では、１つの照明位置でのアライメントおよび露光を行う間に（その動作に並行して）、次に露光を行う基板２１（２１Ａ）に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させることから、より作業効率を高めることができる。加えて、上記した実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、アライメント観察機構２３が観察対象とすることのできる位置へと次に露光を行う基板２１（２１Ａ）の調整を行うものであることから、アライメント観察機構２３によるアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）の取得を確実なものとすることができるので、より作業効率を高めることができる。
【００９７】
露光装置１０では、各照明位置においてマスクブラインド１７がマスク（１８ａ等）に対する分割照明領域Ｄａの設定およびその位置の調整が可能であることから、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１（２１Ｂ）が取り付けられた取付板２２を用いることにより、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内において、各基板２１（２１Ｂ（そのための各パターンＰｃＢ））が存在する分割照明位置毎に露光工程を行うことができるので、１度載置面１９ａ上に取付板２２を載置するだけで、さらに多くの基板２１（２１Ｂ）を適切に露光することができる。このため、さらに多くの基板２１に対して、１つ１つ載置面１９ａ上に載置する作業を行う必要がないことから、多くの基板２１の露光に要する時間を短縮することができ、作業効率をより高めることができる。
【００９８】
露光装置１０では、取付板２２に単一の照明可能領域Ｌａ内に相当する箇所に複数の基板２１（２１Ｂ）を取り付けることで当該各基板２１（２１Ｂ）の露光を行うものであることから、所望の大きさに切断してから硬化処理を施した複数のガラス板を取付板２２に取り付けることで、それら複数のガラス板を露光対象としての基板２１（２１Ｂ）とすることができ、さらに作業効率を高めつつ複数のガラス板にパターンを形成することができる。
【００９９】
露光装置１０では、各照明位置においてマスクブラインド１７を調整することにより、分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、できる限り少ない数ですべてのパターン（ＰｃＢ）を照明することができるように複数の分割照明位置を設定することより、より効率よく分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることができ、すべての基板２１（２１Ｂ）の露光をより効率よく行うことができる。
【０１００】
露光装置１０では、マスクブラインド１７により調整される分割照明領域Ｄａを、コリメータミラー１６により反射された出射光が第ｍ分割照明位置に存在するパターンＰｃＢおよび基板２１Ｂのみに到達するように設定していることから、マスク（１８ｂ等）に設けられた複数のパターン（ＰｃＢ等）を余すことなく照明することを可能とする複数の分割照明位置を、より効率よく設定することができる。このため、さらに作業効率を高めることができる。
【０１０１】
露光装置１０では、各照明位置に照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って移動させた後、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各分割照明位置において、そこに存在する基板２１（２１Ｂ）のアライメントマークＡｍとマスク（１８ｂ等）のアライメントマークＰａとに基づいてアライメントを行うことから、作業効率を高めつつさらに多くの基板２１を適切に露光することができる。換言すると、露光装置１０では、その露光対象とする単一の基板２１（２１Ｂ）とマスク（１８ｂ等）とのアライメントを行ってから、その基板２１の露光工程を実行するので、当該基板２１を適切に露光することができる。
【０１０２】
露光装置１０では、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる場合、光学系１を移動させることなくマスクブラインド１７により分割照明領域Ｄａの設定を調整することで各照明位置での照明可能領域Ｌａ内における分割照明位置毎の露光を行うことから、より容易に分割照明位置を変移させることができ、作業効率を高めることができる。
【０１０３】
露光装置１０では、照明系１が存在する各照明位置のうち各分割照明位置に存在する基板２１（２１Ｂ）（そのアライメントマークＡｍ）およびそれに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３を移動させることにより、すべての基板２１（２１Ｂ）のアライメント情報を取得することができるので、複数の基板２１（２１Ｂ）の適切な露光を可能としつつ作業効率を高めることができる。
【０１０４】
露光装置１０では、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる場合、１つの分割照明位置の露光を行う際、アライメント観察機構２３を次の分割照明位置へと移動させることから、より作業効率を高めることができる。特に、上記した実施例では、１つの分割照明位置でのアライメントおよび露光を行う間に（その動作に並行して）、次に露光を行う基板２１（２１Ｂ）に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させることから、より作業効率を高めることができる。加えて、上記した実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、アライメント観察機構２３が観察対象とすることのできる位置へと次に露光を行う基板２１（２１Ｂ）の調整を行うものであることから、アライメント観察機構２３によるアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）の取得を確実なものとすることができるので、より作業効率を高めることができる。
【０１０５】
したがって、本発明に係る露光装置１０では、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板２１を露光対象としても、効率よく露光処理を行うことができる。
【０１０６】
［変形例］
次に、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる際の各照明位置の設定と、各照明位置における各分割照明位置の設定と、が異なる変形例について、図１２を用いて説明する。図１２は、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２と、その取付板２２に対して設定された各照明位置の設定および各照明位置における各分割照明位置の設定と、それに伴う効果と、を説明するための説明図である。
【０１０７】
この変形例は、光学系１およびアライメント観察機構２３の移動をより効率の良いものとする観点から、各照明位置およびそれらでの各分割照明位置を設定するものの一例である。この変形例では、図１２に示すように、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いるものとする。なお、この変形例は、各照明位置およびそれらでの各分割照明位置の設定が異なることを除くと、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いた場合と同様であることから、上記した図１１のフローチャートにより露光処理を行うことができる。
【０１０８】
この変形例では、基板２１Ｃを露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８には基板２１Ｃに対応して２４個のパターンが設けられたマスク（図示せず）を設けている。このため、載置する取付板２２では、当該マスクにおける２４個のパターン（図示せず）の並びに対応させて、２４個の基板２１Ｃが取り付けられている。この変形例では、照明可能領域Ｌａ´が露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク）の全領域を略１２個に分割した大きさ寸法に相当するものとされており、後述する行方向で並列された２つの基板２１Ｃを一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されている。また、分割照明領域Ｄａ´は、各基板２１Ｃのみにコリメータミラー１６により反射された出射光を到達させる大きさ寸法に設定されている。
【０１０９】
この変形例では、複数の照明位置およびそれらにおける複数の分割照明位置を、図１２に示す矢印Ａ５で示す順に設定している。すわなち、図１２を正面視して、各基板２１Ｃが横方向に並ぶ方向を行（行方向）とし、かつ縦方向に並ぶ方向を列（列方向）とすると、第１照明位置は、１行目における１列目および２列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第１照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における１列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における２列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第２照明位置は、１行目における３列目および４列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとし、その第２照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における３列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における４列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第３照明位置は、１行目における５列目および６列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとし、その第３照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における５列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における６列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第４照明位置は、２行目における５列目および６列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第４照明位置において、第１分割照明位置は、２行目における６列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、２行目における５列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。以下の設定は、同様に矢印Ａ５で示す順に設定しており、最後となる第１２照明位置は、４行目における１列目および２列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第１２照明位置において、第１分割照明位置は、４行目における２列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、４行目における１列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。
【０１１０】
この変形例では、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２を用いるとともに、上記した設定としていることから、最大値ｋの設定（ステップＳ１３）の際に最大値ｋ＝２とするとともに、載置面１９ａに載置された取付板２２に対する露光が終了した否かの判断（ステップＳ１９）の際にカウント値ｎ＝２４であるか否かを判断するものとすることにより、図１１のフローチャートと同様の工程により、２４個の基板２１Ｃを適切に露光することができることとなる。
【０１１１】
この変形例では、複数の照明位置およびそれらにおける複数の分割照明位置を、矢印Ａ５で示す順、取付板２２（それが載置された載置面１９ａおよび対応するマスク）上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定していることから、２４個の基板２１Ｃにおいて、露光対象とした基板２１Ｃに対して隣接する基板２１Ｃを次の露光対象とすることができるとともに、全体で見ると取付板２２上において極めて短い経路で（極めて効率よく）全ての基板２１Ｃを露光対象とすることができる。
【０１１２】
詳細には、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へと照明系１を移動させることで、１２箇所の照明位置での各照明可能領域Ｌａ´により、マスク、載置面１９ａおよび取付板２２の全領域に露光光を行き渡らせることができる。このとき、照明系１では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って移動すれば良いことから、照明位置（照明可能領域Ｌａ´）を１２箇所に形成するために必要な移動量を極めて短いものとすることができる。
【０１１３】
また、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へとアライメント観察機構２３を移動させることにより、２４個の基板２１Ｃの全てを観察対象とすることができる。このとき、アライメント観察機構２３では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って移動すれば良いことから、２４個の基板２１Ｃの全てを観察対象とするために必要な移動量を極めて短いものとすることができる。
【０１１４】
さらに、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へとマスクブラインド１７における透過開口１７ａの位置（大きさ）を調整することで、２４箇所の分割照明位置（各照明位置において２箇所づつ）での各分割照明領域Ｄａ´により、マスク、載置面１９ａおよび取付板２２の全領域に行き渡らせることができる。このとき、マスクブラインド１７では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って透過開口１７ａの位置を移動すれば良いことから、分割照明位置（分割照明領域Ｄａ´）を２４箇所に形成するために必要な調整量を極めて小さいものとすることができる。
【０１１５】
これらのことから、この変形例の露光装置１０では、照明系１の移動、アライメント観察機構２３の移動およびマスクブラインド１７の調整をより効率よく行うことができるので、より作業効率を高めることができる。
【０１１６】
なお、上記した実施例（変形例を含む）では、本発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０について説明したが、マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置であって、前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能である露光装置であればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１１７】
また、上記した実施例では、照明可能領域Ｌａが露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当するものとされていたが、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１１８】
さらに、上記した実施例では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いる例を示していたが、この個数は照明可能領域Ｌａとともに適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。例えば、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いる場合、照明可能領域Ｌａを基板２１Ｂの大きさ寸法に相当するものとして、載置面１９ａに載置された取付板２２に対する露光が終了した否かの判断（ステップＳ６）の際にカウント値ｎ＝２８であるか否かを判断するものとすることにより、図８のフローチャートと同様の工程により、２８個の基板２１Ｂを適切に露光することができることとなる。
【０１１９】
上記した実施例では、図７および図９に示すように第１照明位置から第４照明位置が設定されていたが、効率良く次の照明位置へと移動することを可能とするものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。このとき、変形例のように、光学系１およびアライメント観察機構２３の移動をより効率の良いものとする観点から、取付板２２上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定する、換言すると、複数の基板２１（２１Ｃ）において、露光対象とした基板２１（２１Ｃ）に対して隣接する基板２１（２１Ｃ）を次の露光対象とするとともに、全体で見て取付板２２上において極めて短い経路で全ての基板２１（２１Ｃ）を露光対象とすることを可能とするように、各照明位置を設定することが望ましい。
【０１２０】
上記した実施例では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いる例を示していたが、この個数は適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２１】
上記した実施例では、図９に矢印（Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４）で示すように第１照明位置から第４照明位置における分割照明位置に対する露光工程の順序が設定されていたが、効率良く次の分割照明位置へと移行することを可能とするものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。このとき、変形例のように、アライメント観察機構２３の移動およびマスクブラインド１７の調整をより効率の良いものとする観点から、取付板２２上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定する、換言すると、複数の基板２１（２１Ｃ）において、露光対象とした基板２１（２１Ｃ）に対して隣接する基板２１（２１Ｃ）を次の露光対象とするとともに、全体で見て取付板２２上において極めて短い経路で全ての基板２１（２１Ｃ）を露光対象とすることを可能とするように、各分割照明位置を設定することが望ましい。
【０１２２】
上記した実施例では、各照明可能領域Ｌａにおいて複数の基板が設けられた例（２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２）に対して、各照明可能領域Ｌａで分割照明位置を設定する構成としていたが、照明可能領域Ｌａを露光対象とする基板の大きさ寸法に適合する大きさに変更するとともに照明位置の設定を変更して、露光工程と移動工程とを交互に行う回数を変更する構成としてもよい。このような照明可能領域Ｌａの変更は、例えば、インテグレータレンズ１５もしくはインテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を変更することにより、行うことができる。インテグレータレンズ１５もしくはインテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を変更する構成としては、複数のインテグレータレンズ１５、もしくは複数のインテグレータレンズ１５とコリメータミラー１６との組み合わせを設けるとともに、それらを照明光軸に対して交換可能とすることにより実現することができる。また、照明可能領域Ｌａの変更は、照明光路におけるインテグレータレンズ１５とコリメータミラー１６との間に、ズーム光学系を設ける構成としても実現することができる。
【０１２３】
上記した実施例では、露光光として紫外線（ｉ線）の波長帯域の光を用いていたが、異なる波長帯域の光であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２４】
上記した実施例では、基板２１のアライメントマークＡｍとマスク（１８ｂ等）のアライメントマークＰａとが２つずつ設けられていたが、マスク（１８ｂ等）に対する基板２１の位置を適切なものとすることができるものであって、それぞれが少なくとも１つ以上設けられていればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２５】
上記した実施例では、露光工程を実行する前にアライメント情報を取得する構成とされていたが、アライメント観察機構２３を照明光路上から退避させる際、次の照明位置もしくは分割照明位置へと移動させていることから、露光工程を実行している間にアライメント情報を取得する構成であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。このような構成の場合、より作業効率を高めることができる。
【０１２６】
上記した実施例では、本願発明の構成をプロキシミティタイプの露光装置に適用した例について説明したが、コンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置に適用してもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２７】
以上、本発明の露光装置を実施例に基づき説明してきたが、具体的な構成については実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。
【符号の説明】
【０１２８】
１ 照明系
１０ 露光装置
１７ マスクブラインド
１８ａ、１８ｂ マスク
１９ 露光ステージ
２１、２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ 基板
２２ 取付板
Ｄａ 分割照明領域
Ｌａ 照明可能領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板の表面に、所定のマスクパターンを露光装置により露光し、その後エッチング工程により基板上にマスクパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板や液晶基板等も露光装置を用いて製造されている。このような露光装置として、マスクと基板とを僅かな隙間を空けて配置し、１対１の関係（倍率）で基板にパターンを形成するいわゆるプロキシミティ露光を行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような露光装置では、基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成し、その基板を単一の回路部品に対応する大きさに切断することにより、作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することができる。
【０００３】
ここで、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板を基板とし、その基板（ガラス板）に上述した露光装置を用いてタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成することが考えられる。このようなガラス板は、硬化処理を施されることにより、表面の保護に用いることのできる所望の硬度とされる。この硬化処理後のガラス板は、非常に硬いものであることから、硬化処理後に切断することは困難である。このため、硬化処理前のガラス板を露光対象としての基板とし、その基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成することが考えられるが、硬化処理の性質上当該処理前にパターンを形成することは大変困難である。そこで、所望の大きさに切断して硬化処理を施したガラス板を露光対象としての基板とし、その基板を個別に露光装置を用いてタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２９２９０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、所望の大きさに切断して硬化処理を施したガラス板を、１つ１つ露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行うことは、作業効率の大幅な低下を招いてしまうことから、改善することが望ましい。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことのできる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置であって、前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置であって、前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることを特徴とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の露光装置であって、さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の露光装置を用いる露光方法であって、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、該照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含むことを特徴とする。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項４に記載の露光装置を用いる露光方法であって、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、該各照明位置において、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせるために、前記マスクおよび前記基板に対して前記マスクブラインドを移動させる複数の分割照明位置を設定し、前記照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含み、前記露光工程は、前記照明系が存在する前記照明位置において、前記分割照明位置のうちの１つに存在する前記マスクブラインドを経た前記照明系からの露光光により前記基板を露光する第１工程と、前記分割照明位置のうちの前記第１工程が行われていない１つに前記マスクブラインドを移動させる第２工程と、を設定した全ての前記分割照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の露光装置によれば、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことができる。
【００１４】
上記した構成に加えて、前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることとすると、照明系からの照明可能領域での照明により、基板を露光することができる。
【００１５】
上記した構成に加えて、さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることとすると、露光対象とする単一の基板とマスクとのアライメントを行ってから、その基板を露光するので、当該基板を適切に露光することができる。
【００１６】
上記した構成に加えて、さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることとすると、照明可能領域内に複数の基板が取り付けられた取付板を用いることにより、さらに効率よく露光処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０における主に照明系１の構成を模式的に示す説明図である。
【図２】露光装置１０における主に露光ステージ１９の周辺の構成を模式的に示す説明図である。
【図３】マスクステージ１８に設けられるマスクの例を示す説明図であり、（ａ）はマスク１８ａを模式的に示し、（ｂ）はマスク１８ｂを模式的に示している。
【図４】４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２と、照明可能領域Ｌａと、を模式的に示す説明図である。
【図５】２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２と、照明可能領域Ｌａと、を模式的に示す説明図である。
【図６】露光装置１０における露光処理の際の動作を説明するための図２と同様の説明図であり、（ａ）は取付板２２が載置される様子を示し、（ｂ）はアライメント観察機構２３を用いて調整（アライメント）を行う様子を示し、（ｃ）は１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示し、（ｄ）は（ｃ）とは異なる１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示している。
【図７】露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。
【図８】露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。
【図９】露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。
【図１０】露光装置１０における第１照明位置の照明可能領域Ｌａ内の露光処理において、分割照明領域Ｄａの設定とその位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は分割照明領域Ｄａが設定される前であって基板２１Ｂ−１のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｂ）は基板２１Ｂ−１に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示し、（ｃ）は基板２１Ｂ−２のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｄ）は基板２１Ｂ−２に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示している。
【図１１】露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。
【図１２】２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２と、その取付板２２に対して設定された各照明位置の設定および各照明位置における各分割照明位置の設定と、それに伴う効果と、を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本願発明に係る露光装置の発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
【実施例】
【００１９】
先ず、本願発明に係る露光装置１０の概略的な構成について説明する。図１は、本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０における主に照明系１の構成を模式的に示す説明図である。図２は、露光装置１０における主に露光ステージ１９の周辺の構成を模式的に示す説明図である。なお、理解容易のために、図１では、アライメント観察機構２３の構成を省略して示し、図２では、照明系１の構成を省略して示している。
【００２０】
露光装置１０は、マスクと基板（露光対象）とを僅かな隙間を空けて配置し、１対１の関係（倍率）で基板にパターンを形成するいわゆるプロキシミティ露光を行うものである（図２参照）。この露光装置１０は、図１に示すように、光軸方向に沿って出射側から順に、光源１１と、コールドミラー１２と、露光シャッタ１３と、紫外線バンドパスフィルタ１４と、インテグレータレンズ１５と、コリメータミラー１６と、マスクブラインド１７と、マスクステージ１８と、露光ステージ１９と、を有する。この露光装置１０（照明系１）は、露光光として紫外線を用いている。
【００２１】
光源１１は、露光に用いる露光光としての紫外線の照射のために設けられており、本実施例では、水銀ランプ１１ａが楕円反射鏡（楕円鏡）１１ｂの第１焦点位置に配置されて構成されている。この光源１１（その水銀ランプ１１ａ）は、後述する制御部２４による制御下で点灯および消灯される。光源１１では、水銀ランプ１１ａから出射された出射光を、楕円反射鏡１１ｂに反射してコールドミラー１２へと進行させる。
【００２２】
コールドミラー１２は、入射した光のうち、赤外領域の熱線を透過させるとともに他の波長帯域の光を反射するものであり、入射した光から赤外領域の熱線を分離することができる。このため、光源１１からの出射光は、コールドミラー１２により赤外領域の熱線が分離されて、露光シャッタ１３もしくは紫外線バンドパスフィルタ１４へと進行する。
【００２３】
その露光シャッタ１３は、コールドミラー１２により反射された出射光の透過および遮断の切り替えを可能とすべく、コールドミラー１２から紫外線バンドパスフィルタ１４へと向かう光路（後述する照明光路）上に出し入れ自在とされている。この露光シャッタ１３は、光路上から退避されると後述するように基板２１（図２、図６（ｃ）、図６（ｄ）等参照）の露光を可能とし、光路上に位置されると後述する基板２１の露光を停止させる。この露光シャッタ１３は、後述する制御部２４による制御下で後述する照明光路に対して出し入れされる。
【００２４】
紫外線バンドパスフィルタ１４は、入射した光のうち紫外線のみの透過を許すものであり、本実施例では、波長３６５ｎｍの水銀のスペクトル線であるｉ線の透過を許すｉ線バンドパスフィルタにより構成されている。このため、コールドミラー１２により反射された出射光は、紫外線バンドパスフィルタ１４により紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光（実際には、ｉ線の波長帯域の近傍の強度が高い光）とされて、インテグレータレンズ１５へと進行する。なお、ｉ線以外にも、ｈ線、ｉ線とｈ線の組み合わせ、またはその間の波長を利用することができる。
【００２５】
インテグレータレンズ１５は、入射した光の照度ムラを打ち消して照射面において周辺部まで均一で明るい照度分布とする。このため、紫外線バンドパスフィルタ１４を経て紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光とされた入射光は、インテグレータレンズ１５により均一な照度分布とされてコリメータミラー１６へと進行する。なお、このインテグレータレンズ１５と紫外線バンドパスフィルタ１４とは、配置を逆転させても同様の作用を得ることができる。
【００２６】
コリメータミラー１６は、入射した光を平行光（光束）として反射する。このため、インテグレータレンズ１５を経て均一な照度分布とされた出射光は、コリメータミラー１６により反射されることにより、平行光とされてマスクブラインド１７およびマスクステージ１８へと進行する。このコリメータミラー１６は、インテグレータレンズ１５との協働により、平行光とした出射光が、マスクブラインド１７における最も大きくした状態の後述する透過開口１７ａ（図６（ｃ）、（ｄ）参照）を、過不足なく照射することができるように、光学的な設定が為されている。ここでいう過不足なく照射するとは、透過開口１７ａの内方を余すことなく照射することができるとともに、透過開口１７ａの周縁部（マスクブラインド１７）により蹴られる領域（当該周縁部を照射する領域）が可能な限り小さくされていることをいう。
【００２７】
マスクステージ１８は、所望のパターンが形成されたマスク１８ａを、コリメータミラー１６により反射された出射光の光路上に位置させて保持する。このマスク１８ａでは、本実施例では、後述する４個の基板２１Ａ（図４参照）に対応する４個のパターンＰｃＡが形成されている（図３（ａ）参照）。また、マスクステージ１８では、図示は略すが、マスク１８ａの取り外しが可能とされており、マスク１８ａとは異なる所望のパターンが形成されたマスクへの交換が可能とされている。この他のマスクとして、本実施例では、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）を用意している。このマスク１８ｂでは、本実施例では、後述する２８個の基板２１Ｂ（図５参照）に対応する２８個のパターンＰｃＢが形成されている（図３（ｂ）参照）。これらのマスク１８ａおよびマスク１８ｂを含む交換対象とされる各マスクでは、各パターン（ＰｃＡ、ＰｃＢ参照）において、アライメントマークＰａが形成されている（図３参照）。このパターンＰｃＡおよびパターンＰｃＢは、図示は略すが、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）とされている。
【００２８】
マスクステージ１８は、本実施例では、交換対象とされる各マスク（１８ａ等）を鉛直方向の上側に載置させた状態で保持することが可能とされている。これにより、マスクステージ１８では、各マスク（１８ａ等）の交換作業を容易なものとすることができるとともに、その各マスク（１８ａ等）を保持するための構成を容易なものとすることができる。また、マスクステージ１８は、保持した各マスク（１８ａ等）の鉛直方向の下側であって、各マスク（１８ａ等）を保持する構成の内方に、露光ステージ１９を受け入れることが可能とされている。これは、後述するように、露光ステージ１９の載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１）を、プロキシミティ露光を行う観点から、マスク（１８ａ等）に対して所定の位置とする必要があることによる。
【００２９】
本実施例では、マスク１８ａおよびマスク１８ｂを含む交換対象とされる各マスクが、後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ（図２参照）を全面に渡って覆うことが可能な大きさ寸法とされている。また、交換対象とされる各マスクでは、その全領域を効率よく利用すべくパターン（図３のＰｃＡ、ＰｃＢ参照）の個数およびその配置が設定されている。この各パターンの個数および配置の設定は、後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ（図２参照）に載置される取付板２２において、取り付けられる基板２１の個数およびその配置に対応するものとされている。換言すると、各パターンの個数および配置は、取付板２２の全領域を効率よく利用すべく個数およびその配置が設定されて取り付けられる複数の基板２１に対応するものとされている。このため、コリメータミラー１６により反射された出射光は、マスク１８ａを透過することにより、マスク１８ａに形成されたパターン（パターンＰｃＡ）の形状に応じたものとされて露光ステージ１９（基板２１の表面）へと進行する。この交換対象とされる各マスクにおけるパターンの個数および配置の情報は、制御部２４の記憶部（図示せず）に格納されている。
【００３０】
このマスクステージ１８とコリメータミラー１６との間に、マスクブラインド１７が設けられている。このマスクブラインド１７は、コリメータミラー１６により反射されてマスク１８ａに向かう出射光の照明光路上に進退自在とすべくマスクステージ１８に設けられている。マスクブラインド１７は、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）のマスクパターンに応じて適宜光路上に進出されて、透過を許す領域（以下では、透過開口１７ａ（図６（ｃ）、（ｄ）参照）ともいう）が可変とされている。このため、マスクブラインド１７は、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）のマスクパターン（パターンＰｃＡ等）のうち所望の領域（後述する照明可能領域Ｌａもしくは分割照明領域Ｄａ）のみのマスクパターン像を、露光ステージ１９に載置された後述する基板２１上に形成させることができる（図４および図５参照）。マスクブラインド１７では、マスクブラインド駆動機構２６により、マスクステージ１８に設けられたマスク（１８ａ等）に対して、その平面に沿う方向（後述するＸ−Ｙ平面に沿う方向）への移動が行われる。また、マスクブラインド１７では、マスクブラインド駆動機構２６により、マスク（１８ａ等）に対する位置に拘らず、透過開口１７ａの大きさ寸法および形状の調整が行われる。このマスクブラインド駆動機構２６は、後述する制御部２４による制御下で駆動される。このことから、露光装置１０では、マスクブラインド１７およびマスクステージ１８が、マスク（１８ａ等）に対して、後述する照明系１からの露光光により照明される領域（後述する照明可能領域Ｌａもしくは分割照明領域Ｄａ）を設定するマスクステージ機構２として機能する。
【００３１】
このマスクブラインド１７は、透過開口１７ａを最も大きくした状態において、コリメータミラー１６を経た出射光の進行方向に直交する断面形状を、マスクステージ１８に設けられるマスク（１８ａ等）（後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ）の全領域を複数に分割した大きさ寸法に相当させるものとされている。なお、ここでいう全領域を複数に分割した大きさ寸法とは、その全領域を０および１を除く自然数で除算したものに限定されるものではなく、２つ以上の当該大きさ寸法により一部重複することを含んで全領域を行き渡らせることができるものであればよい。
【００３２】
マスクブラインド１７は、本実施例では、コリメータミラー１６を経た出射光が最も大きくされた透過開口１７ａを通過すると、その断面形状が、マスクステージ１８に設けられるマスク（１８ａ等）（後述する露光ステージ１９の載置面１９ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当する矩形状とされる（図４および図５の符号Ｌａ参照）。以下では、透過開口１７ａを通過した出射光により照明される領域を照明可能領域Ｌａ（図４および図５等参照）という。
【００３３】
このことから、露光装置１０では、光源１１から、コールドミラー１２、露光シャッタ１３、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を経る光路が、マスク１８ａを露光光としての紫外線（ｉ線）で照明するための照明系（照明光学系）１として機能する。この照明系１は、最大で、マスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａ（複数（この例では４つ）に分割した領域）を、紫外線（ｉ線）で照明することができる。
【００３４】
照明系１は、照明系移動機構２５により、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対して、その平面に沿う方向（後述するＸ−Ｙ平面に沿う方向）への移動が可能とされている。すなわち、照明系移動機構２５は、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対して、照明系１を後述するＸ軸方向およびＹ軸方向へと適宜移動させることができる。この照明系移動機構２５は、後述する制御部２４による制御下で駆動される。この照明系１は、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して移動されることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能とされている。なお、この照明系１の移動は、手動により行うものであってもよい。
【００３５】
このため、露光装置１０では、照明系１によるマスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのパターンＰｃＡの像（以下、マスクパターン像ともいう）を、照明可能領域Ｌａで露光ステージ１９に載置された後述する基板２１の表面に形成する（図４および図５等参照）。このとき、照明系１では、コリメータミラー１６により反射された出射光が平行光とされていることから、マスク１８ａのパターンＰｃＡに対して、１対１の比率で後述する基板２１の表面にマスクパターン像を形成する。以下では、この照明系１の照明により、マスク１８ａ（そのパターンＰｃＡ）のマスクパターン像を形成する光路を露光光路とし、その光軸方向をＺ軸方向とする。また、露光光路の光軸方向（Ｚ軸方向）に直交する面をＸ−Ｙ平面とする。
【００３６】
露光ステージ１９には、図２に示すように、マスクパターンの露光のために複数の基板２１が取り付けられた取付板２２が、載置面１９ａに載置される。この露光ステージ１９は、載置面１９ａをＸ軸方向に移動させることができるとともに、載置面１９ａをＹ軸方向に移動させることができ、かつその載置面１９ａをＺ軸方向に移動させることが可能とされている。また、露光ステージ１９は、載置面１９ａをＺ軸回りに回転させることができるとともに、載置面１９ａのＺ軸方向に対する傾斜を調整することが可能とされている。このため、露光ステージ１９は、載置面１９ａに載置される各基板２１の表面をマスクステージ１８に保持されたマスク１８ａに近接させて取付板２２を保持することができ、保持した取付板２２（各基板２１）を露光光路に直交する面に沿って移動させることができ、保持した取付板２２（各基板２１）を露光光路に直交する面上で回転させることができ、保持した取付板２２（各基板２１）の露光光路に対する傾斜を調整することができる。このことから、露光ステージ１９は、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する基板２１の姿勢の調整を行うことができる。
【００３７】
この露光ステージ１９における取付板２２の移動は、本実施例では、後述する制御部２４により露光ステージ１９の内方に設けられたステージ駆動機構２７が制御されることで行われる。なお、露光ステージ１９における取付板２２の移動は、手動により行うものであってもよい。本実施例では、取付板２２は、そこに取り付けられた各基板２１に対してプリアライメントされた状態で露光ステージ１９上に載置される。このプリアライメントとは、各基板２１を照明系１における基準位置とするものであり、各基板２１に対するマスクパターンの露光位置に要求される位置精度を満たすものではない。
【００３８】
その各基板２１は、本実施例では、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板に、紫外線（ｉ線）に対して光反応するフォトレジスト等の感光材料が塗布または張り付けられて形成されている。このため、各基板２１は、紫外線（ｉ線）の照射により露光可能とされている。その各ガラス板は、図示は略すが、携帯型電子機器のタッチパネルの保護ガラスとしての形状に成形された後、硬化処理が施されて形成されている。各基板２１は、少なくとも、照明系１による照明可能領域Ｌａよりも小さな大きさ寸法のものが用いられる。換言すると、照明系１による照明可能領域Ｌａは、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されている。
【００３９】
本実施例では、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）が対応され照明可能領域Ｌａに近い大きさ寸法とされた基板２１Ａ（図４参照）と、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）が対応され基板２１Ａよりも小さい大きさ寸法とされた基板２１Ｂ（図５参照）と、が露光対象として設定されている。この各基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）は、図示は略すが、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）を形成するために、露光される。各基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）には、それぞれ複数のアライメントマークＡｍ（図４および図５参照）が設けられている。この各基板２１は、取付板２２を介して露光ステージ１９に保持される。
【００４０】
その取付板２２は、平坦な板状を呈し、露光ステージ１９の載置面１９ａよりも小さな大きさ寸法とされている。取付板２２は、載置面１９ａに載置された状態で露光ステージ１９により保持可能とされている。この露光ステージ１９による取付板２２の保持は、吸着によるものであってもよく、保持爪によるものであってもよい。この取付板２２では、各基板２１に対応するマスク（１８ａ等）に形成されたパターンに適合されて、各基板２１が取り付けられる。換言すると、取付板２２では、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）における各パターンの個数に等しい個数の基板２１が、その各パターンの配置に適合されて取り付けられる。取付板２２では、本実施例では、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）に対応されて、４個の基板２１Ａが取付板２２に取り付けられ（図４参照）、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）に対応されて、２８個の基板２１Ｂが取付板２２に取り付けられる（図５参照）。この各基板２１の取り付けは、露光ステージ１９の載置面１９ａ上への取付板２２の載置、および載置面１９ａ上における後述するアライメントのための取付板２２の移動の際、位置ずれを起こすことなく取り付けられていれば、接着材を用いるものであっても、補助器具による固定であっても、凹所に嵌め込むものであってもよい。本実施例では、取付板２２では、複数の基板２１（２１Ａ、２１Ｂ）が接着材により取り付けられている。
【００４１】
さらに、本実施例では、取付板２２には、複数の基板２１が取り付けられる領域と干渉しない（重ならない）位置に、複数のアライメントマークＢａ（図４および図５参照）が設けられている。このアライメントマークＢａは、後述するように、取付板２２に取り付けられた各基板２１のアライメントマークＡｍとの相対的な位置関係に基づいて、取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の特定のために用いられる。このアライメントマークＢａは、本実施例では、取付板２２における４隅に設けられている。
【００４２】
この露光装置１０では、照明系１において、光源１１から出射された出射光が、コールドミラー１２、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５、コリメータミラー１６およびマスクブラインド１７を経て、マスクステージ１８へと到達することにより、マスクステージ１８に保持されたマスク１８ａの照明可能領域Ｌａを紫外線（ｉ線）で一様に照射する。すると、露光装置１０では、露光ステージ１９の載置面１９ａ（そこに載置された各基板２１）上に、照明可能領域Ｌａで紫外線（ｉ線）によるマスクパターン像が適切に形成される。また、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させて、照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせることにより、載置面１９ａ（そこに載置されたすべての基板２１）に対して紫外線（ｉ線）によるマスクパターン像が適切に形成される。このとき、露光装置１０では、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）に対して移動させる必要がないことから、所謂ノンステップステージ機構として機能する。
【００４３】
このことから、露光装置１０では、移動された照明系１の位置（照明可能領域Ｌａ）において、マスクパターン像と各基板２１とが適切な位置となるように、取付板２２の位置を設定することにより、各基板２１にマスクパターン像を適切に露光することができる。このマスクパターン像に対する各基板２１の位置、すなわちマスク１８ａに対する各基板２１の光学的な位置は、露光ステージ１９が保持する取付板２２を適宜移動させることにより、調整する（アライメントする）ことができる。このため、露光装置１０では、露光ステージ１９が、マスク（１８ａ等）に対して、各基板２１が取り付けられた取付板２２の位置を調整する位置調整機構３として機能する。この露光装置１０では、この調整（アライメント）のために、アライメント観察機構２３（図２等参照）が設けられている。
【００４４】
このアライメント観察機構２３は、照明系１のコリメータミラー１６と、マスクステージ１８（マスク１８ａ）と、の間で照明光路に対して進退可能に設けられている。アライメント観察機構２３は、マスクパターン像におけるアライメントマークＰａ（図３参照）と、観察対象とする基板２１のアライメントマークＡｍ（図４および図５参照）と、をＺ軸方向（露光光路における光軸方向）で観察することが可能とされている。このアライメント観察機構２３は、図示は略すが、Ｚ軸方向に沿う撮影光軸を有し、マスク１８ａおよびそれを経た観察対象とした基板２１の画像を取得可能な撮像装置を備えている。アライメント観察機構２３は、取得した観察画像を制御部２４（図１参照）に出力することができる。
【００４５】
制御部２４は、露光装置１０の動作を統括的に制御する。この制御部２４は、図示は略すが、照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ａ）との間の照明光路上の任意の位置にアライメント観察機構２３を存在させることができるとともに、その照明光路上からアライメント観察機構２３を退避させることができる。また、制御部２４は、図示は略すが、アライメント観察機構２３から出力された観察画像を適宜表示部に表示させることができるとともに、当該画像を画像解析することにより、マスクパターン像におけるアライメントマークＰａ（その中心位置（図３参照））と、観察対象とした基板２１のアライメントマークＡｍ（その中心位置（図４および図５参照））と、の位置ずれ量（調整代）を取得することが可能とされている。制御部２４は、アライメント観察機構２３を経て取得した位置ずれ量（調整代）に基づいて、露光ステージ１９に保持された取付板２２を移動させることにより、マスクパターン像と観察対象とした基板２１とを適切な位置関係とする調整（アライメント）を行う。
【００４６】
また、制御部２４は、上述したように、照明系移動機構２５、マスクブラインド駆動機構２６およびステージ駆動機構２７の駆動を制御することができる。このため、制御部２４は、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）に対するＸ−Ｙ平面に沿う方向での照明系１の位置を調整することができ、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する照明可能領域Ｌａの位置を調整することができ、マスクステージ１８に保持されたマスク（１８ａ等）に対する後述する分割照明領域Ｄａの設定およびその位置を調整することができ、マスクパターン像に対する各基板２１の位置（マスク１８ａに対する各基板２１の光学的な位置）を調整することができる。
【００４７】
さらに、制御部２４は、本実施例では、露光ステージ１９の載置面１９ａに載置される取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の情報を取得することが可能とされている。この情報は、例えば、図示は略すが、複数の基板２１が取り付けられた取付板２２の画像を取得し、その画像を画像解析することにより、取付板２２の各アライメントマークＢａと、各基板２１の各アライメントマークＡｍ（図４および図５参照）と、の位置ずれ量（調整代）を取得することにより、取得することができる。この情報を取得する位置情報取得機構は、取得した情報を制御部２４に送信することを可能とするものであれば、露光装置１０の一部として設けるものであってもよく、露光装置１０とは別体として設けるものであってもよい。このため、制御部２４は、本実施例では、図示を略す位置情報取得機構からの取付板２２上における各基板２１の各アライメントマークＡｍの位置の情報に基づいて、マスクステージ１８（マスク１８ａ）に対して露光ステージ１９（載置面１９ａ）を移動させる（位置を調整する）ことにより、取付板２２に取り付けられた複数の基板２１のうち、任意の基板２１のアライメントマークＡｍと、それに対応するマスクパターンにおけるアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３が観察対象とすることができる位置関係とすること（位置調整）ができる。
【００４８】
次に、実施例１の露光装置１０において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）を用いた露光処理について説明する。図６は、露光装置１０における露光処理の際の動作を説明するための図２と同様の説明図であり、（ａ）は取付板２２が載置される様子を示し、（ｂ）はアライメント観察機構２３を用いて調整（アライメント）を行う様子を示し、（ｃ）は１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示し、（ｄ）は（ｃ）とは異なる１個の基板２１Ａの露光を行う様子を示している。図７は、露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。図８は、露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。以下、この露光処理の際の制御部２４における制御処理の一例である図８のフローチャートの各ステップについて、図６および図７を用いて説明する。
【００４９】
この図８のフローチャートでは、基板２１Ａ（図４参照）を露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８にはマスク１８ａ（図３（ａ）参照）を設けている。このため、載置する取付板２２では、マスク１８ａにおける４個のパターンＰｃＡの並びに対応させて、４個の基板２１Ａが取り付けられている（図４および図７参照）。この載置される取付板２２上における４個の基板２１Ａの各アライメントマークＡｍの位置の情報は、上述した位置情報取得機構（図示せず）により取得されて、制御部２４に送信される。制御部２４は、この情報を自らの記憶部（図示せず）に格納するとともに、後述するステップＳ３を実行する前に、この情報に基づいて最初に露光を行うアライメント観察機構２３が基板２１ＡのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置となるように露光ステージ１９により当該基板２１Ａを移動させてその位置を調整する。このとき、制御部２４は、予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターンＰｃＡ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、最初に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンＰｃＡのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置に、アライメント観察機構２３を移動させる。本実施例では、図４を正面視して左上の基板２１ＡのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置（照明系１（照明可能領域Ｌａ）における第１照明位置）にアライメント観察機構２３を移動させる。
【００５０】
また、制御部２４では、照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせる、すなわちマスク１８ａに設けられた複数（この例では４個）のパターンＰｃＡを余すことなく照明することを可能とするために、マスク１８ａに対して照明系１を移動させる複数（この例では４箇所）の照明位置を設定する。この複数の照明位置は、できる限り少ない数ですべてのパターンＰｃＡを照明することができる、すなわちより効率よく照明可能領域Ｌａをマスク１８ａの全領域に行き渡らせることができるように設定する。本実施例では、図７の（ａ）に示す位置を第１照明位置とし、（ｂ）に示す位置を第２照明位置とし、（ｃ）に示す位置を第３照明位置とし、（ｄ）に示す位置を第４照明位置としている。さらに、後述するように、露光処理が開始される際、照明可能領域Ｌａ（照明系１）の上述した照明位置の番号をカウントするカウント値ｎは１とされている。
【００５１】
ステップＳ１では、載置面１９ａに載置された取付板２２を露光ステージ１９で保持して、ステップＳ２へ進む。このステップＳ１では、図示を略す搬送機構により取付板２２が載置面１９ａに載置されると、その取付板２２を露光ステージ１９で保持する（図６（ａ）参照）。このとき、取付板２２は、載置面１９ａ上において、プリアライメントされた状態で載置される。
【００５２】
ステップＳ２では、ステップＳ１での取付板２２の保持に続き、載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１Ａ）をマスク１８ａに対して所定の位置として、ステップＳ３へ進む。このステップＳ２では、露光ステージ１９をＺ軸方向でマスク１８ａに近接する方向へと移動することにより、取付板２２をマスク１８ａに対する所定の位置とする（図６（ｂ）参照）。この所定の位置とは、プロキシミティ露光を行う観点から、照明系１によるマスク１８ａの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのマスクパターン像を１対１の関係（倍率）で基板２１Ａの表面に適切に形成することができることを言う。この状態において、本実施例では、照明系１は、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対するＸ−Ｙ平面に沿う方向で見た位置が、図７を正面視して取付板２２上における左上の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる第１照明位置とされている（図７（ａ）参照）。
【００５３】
ステップＳ３では、ステップＳ２での取付板２２をマスク１８ａに対して所定の位置とすること、あるいは、ステップＳ７での照明系１の第ｎ照明位置への移動に続き、アライメント情報を取得して、ステップＳ４へ進む。このステップＳ３では、第ｎ照明位置とした照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ａ）との間の照明光路上において、その照明可能領域Ｌａに存在する基板２１ＡのアライメントマークＡｍとマスクパターンのアライメントマークＰａとを観察対象とすることができる位置に露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３とを相対的に移動（位置調整）させて（図６（ｂ）参照）、そのアライメント観察機構２３からアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）を取得する（図４および図７参照）。この観察対象とすることができる位置とは、照明系１が第１照明位置である場合（ｎ＝１である場合）、図４および図７（ａ）に示すように、左上の基板２１ＡのアライメントマークＡｍと、そこに対応する左上のパターンＰｃＡのアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３での観察画像内に捕捉することを言う。このとき、本実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報と、予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターンＰｃＡ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報と、に基づいて、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３との相対的な移動（位置調整）を行う。
【００５４】
ステップＳ４では、ステップＳ３でのアライメント情報の取得に続き、そのアライメント情報に基づいてアライメントを行い、ステップＳ５へ進む。このステップＳ４では、アライメント観察機構２３を経て取得した位置ずれ量（調整代）に基づいて、露光ステージ１９に保持された取付板２２を移動させることにより、マスクパターン像と観察対象とした基板２１Ａとを適切な位置関係とする調整いわゆるアライメントを行う。この調整（アライメント）では、載置面１９ａ（取付板２２）をＸ軸方向およびＹ軸方向へと移動させたり、載置面１９ａ（取付板２２）をＺ軸方向周りに回転させたり、載置面１９ａ（取付板２２）のＺ軸方向に対する傾斜を調整したりすることにより、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａのマスクステージ１８（マスク１８ａ）および照明系１に対する位置関係を適切なものとする。このため、ステップＳ３およびステップＳ４は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａのマスクステージ１８のマスク１８ａ（照明系１）に対する位置を調整する調整工程となる。なお、ステップＳ４では、アライメント観察機構２３を照明光路上から退避させる。この際、本実施例では、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｎ＋１）照明位置での照明系１の照明光路上に存在する基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へと、アライメント観察機構２３を移動させる。このアライメント観察機構２３の移動は、次にステップＳ３へと戻ってくるまでの間に、それらの動作（主に後述する露光工程（ステップＳ５））に並行して行う。
【００５５】
ステップＳ５では、ステップＳ４でのアライメントの実行に続き、露光を行い、ステップＳ６へ進む。このステップＳ５では、ステップＳ４でアライメントされた状態を維持し、照明系１によるマスク１８ａにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、そのマスク１８ａのパターンＰｃＡのマスクパターン像を、照明可能領域Ｌａで露光ステージ１９に載置された基板２１Ａの表面に形成する（図６（ｃ）参照）。すると、照明可能領域Ｌａにある基板２１Ａの表面（図７参照）には、マスク１８ａのパターンＰｃＡのマスクパターン像に倣うパターンが形成される。このため、ステップＳ５は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する基板２１Ａを露光する露光工程となる。
【００５６】
ステップＳ６では、ステップＳ５での露光の実行に続き、ｎ＝４であるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合はステップＳ８へ進み、Ｎｏの場合は、照明位置の番号をカウントするカウント値ｎを、ｎ＝ｎ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ７へ進む。このステップＳ６では、カウント値ｎが４である、すなわち照明可能領域Ｌａ（照明系１）の照明位置が第４照明位置であるか否かを判断している。ここで、本実施例の露光装置１０では、上述したように、照明可能領域Ｌａが露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当するものとされていることから、照明位置が第４照明位置であるということは、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域に対する露光が終了したことを意味する。このため、ステップＳ６では、載置面１９ａに載置された取付板２２（４個の基板２１Ａ）に対する露光が終了した否かを判断していることとなる。
【００５７】
ステップＳ７では、ステップＳ６でのｎ＝４ではないとの判断に続き、照明系１を第ｎ照明位置へと移動させて、ステップＳ３に戻る。このステップＳ７では、照明系移動機構２５（図１および図２参照）を制御することにより、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第ｎ照明位置へと移動させる（図６（ｄ）参照）。ここで、ステップＳ７へと進んできた場合、ステップＳ６においてカウント値ｎが１を加算した値に書き換えられていることから、ステップＳ６における照明位置とは異なる照明位置（次の照明位置）へと照明系１を移動させることとなる。すなわち、照明系１が第１照明位置（図７（ａ）参照）である場合（ステップＳ６においてｎ＝１である場合）、図７（ｂ）に示すように、図７を正面視して取付板２２上における左上の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる状態（図７（ａ）参照）から、同じく左下の基板２１Ａを照明可能領域Ｌａの内方に位置させる状態（第２照明位置（図７（ｂ）参照））へと、照明系１を移動させる。このため、ステップＳ７は、照明系１を、設定した照明位置のうち露光工程が行われていない１つに移動する移動工程となる。
【００５８】
ステップＳ８では、ステップＳ６でのｎ＝４であるとの判断に続き、カウント値ｎを初期値（１）として、このフローチャートを終了する。この後、載置面１９ａに載置された取付板２２が、図示を略す搬送機構により載置面１９ａ上から他の箇所へと搬送される。
【００５９】
このように、露光装置１０では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）が、プリアライメントされた状態で載置面１９ａに載置されると（図６（ａ）参照）、ステップＳ１→ステップＳ２へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする（図７（ａ）参照）。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第２照明位置へと移動させて（図７（ｂ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第３照明位置へと移動させて（図７（ｃ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ７へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第４照明位置へと移動させて（図７（ｄ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａを露光対象とする。その後、ステップＳ３→ステップＳ４→ステップＳ５へと進んで、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の基板２１Ａに対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ６→ステップＳ８へと進むことで、取付板２２に取り付けられた４個の基板２１Ａの適切な露光が終了する。
【００６０】
このため、露光装置１０では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２（図４参照）と、マスク１８ａ（図３（ａ）参照）と、を用いることで、取付板２２を載置面１９ａ上に載置する作業を１度行うだけで、４個の基板２１Ａを適切に露光することができる。このとき、露光装置１０では、基本的に、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させるのみである。このため、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させる照明系ステップ機構（アライメント顕微鏡ステップ機構）と、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ａ）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させることのないノンステップステージ機構（アライメントのための調整を除く）と、を採用した構成とされている。
【００６１】
なお、上記した本実施例の露光処理（図８のフローチャート）では、アライメントを実行するステップＳ４において、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｎ＋１）照明位置での照明系１の照明光路上に存在する基板２１Ａに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へと、アライメント観察機構２３を移動させていることから、ステップＳ３において、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、マスクパターン（そのアライメントマークＰａ）（アライメント観察機構２３）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させて位置調整を行うだけとすることができるので、より効率よく露光処理を行うことができる。
【００６２】
次に、実施例１の露光装置１０において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いた露光処理について説明する。この露光処理は、後述する分割照明領域Ｄａ（第ｍ分割照明位置）に関する制御を除くと、基本的には、上述した露光処理（図８のフローチャート）と同様である。図９は、露光装置１０における露光処理において、取付板２２（載置面１９ａ）において照明可能領域Ｌａ（照明系１）の位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は第１照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｂ）は第２照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｃ）は第３照明位置の照明可能領域Ｌａを示し、（ｄ）は第４照明位置の照明可能領域Ｌａを示している。図１０は、露光装置１０における第１照明位置の照明可能領域Ｌａ内の露光処理において、分割照明領域Ｄａの設定とその位置が変化される様子を説明するための説明図であり、（ａ）は分割照明領域Ｄａが設定される前であって基板２１Ｂ−１のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｂ）は基板２１Ｂ−１に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示し、（ｃ）は基板２１Ｂ−２のアライメントが行なわれる様子を示し、（ｄ）は基板２１Ｂ−２に適合させて分割照明領域Ｄａが設定された様子を示している。図１１は、露光装置１０の動作を統括的に制御する制御部２４において、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いた露光処理の内容の一例を示すフローチャートである。以下、この露光処理の際の制御部２４における制御処理の一例である図１１のフローチャートの各ステップについて、図９および図１０を用いて説明する。また、以下では、取付板２２に取り付けられた２８個の基板２１Ｂに対して、理解容易のために、図５を正面視して左上から横へ向けて順に付けた番号を用いる場合もある。
【００６３】
この図１１のフローチャートでは、基板２１Ｂ（図５参照）を露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８にはマスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）を設けている。このため、載置する取付板２２では、マスク１８ｂにおける２８個のパターンＰｃＢの並びに対応させて、２８個の基板２１Ｂが取り付けられている（図５および図９参照）。この載置される取付板２２上における２８個の基板２１Ｂの各アライメントマークＡｍの位置の情報は、上述した位置情報取得機構（図示せず）により取得されて、制御部２４に送信されている。制御部２４は、この情報を自らの記憶部（図示せず）に格納するとともに、この情報に基づいて、後述するステップＳ１４を実行する前に、最初に露光を行う基板２１ＢのアライメントマークＡｍをアライメント観察機構２３で観察対象とすることができる位置となるように露光ステージ１９により当該基板２１Ｂの位置を調整する。このとき、制御部２４は、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、最初に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置に、アライメント観察機構２３を移動させる。本実施例では、図４を正面視して左上の基板２１ＢのアライメントマークＡｍを観察対象とすることができる位置（照明系１（照明可能領域Ｌａ）における第１照明位置の第１分割照明位置）にアライメント観察機構２３を移動させる。
【００６４】
また、制御部２４では、後述する分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせる、すなわち各照明可能領域Ｌａ内においてマスク１８ｂに設けられた複数（この例では８個または６個）のパターンＰｃＢを余すことなく照明することを可能とするために、マスク１８ｂおよび基板２１Ｂに対してマスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）の位置を調整する複数の分割照明位置を設定する。この複数の分割照明位置は、できる限り少ない数ですべてのパターンＰｃＢを照明することができる、すなわちより効率よく分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることができるように設定する。本実施例では、第１照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ１の順に基板２１Ｂに適合する８箇所の分割照明位置を設定し（図９（ａ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ２の順に基板２１Ｂに適合する８箇所の分割照明位置を設定し（図９（ｂ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ３の順に基板２１Ｂに適合する６箇所の分割照明位置を設定し（図９（ｃ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａでは、矢印Ａ４の順に基板２１Ｂに適合する６箇所の分割照明位置を設定する（図９（ｄ）参照）。さらに、後述するように、露光処理が開始される際、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内において上述した分割照明位置の番号（露光を行う回数）をカウントするカウント値ｍは１とされている。
【００６５】
ステップＳ１１では、載置面１９ａに載置された取付板２２を露光ステージ１９で保持して、ステップＳ１２へ進む。このステップＳ１１は、図８のフローチャートにおけるステップＳ１と同様である。
【００６６】
ステップＳ１２では、ステップＳ１１での取付板２２の保持に続き、載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１Ｂ）をマスク１８ｂに対して所定の位置として、ステップＳ１３へ進む。このステップＳ１２は、図８のフローチャートにおけるステップＳ２と同様である。
【００６７】
ステップＳ１３では、ステップＳ１２での取付板２２をマスク１８ｂに対して所定の位置とすること、あるいは、ステップＳ２０での照明系１の第ｎ照明位置への移動に続き、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において露光を行う回数の最大値ｋを設定して、ステップＳ１４へ進む。このステップＳ１３では、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において露光を行う回数、すなわち第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内に存在する基板２１Ｂの個数を最大値ｋとして設定する。本実施例では、照明系１が第１照明位置である場合（ｎ＝１である場合）、図５および図９（ａ）に示すように、基板２１Ｂ−１から基板２１Ｂ−４と、基板２１Ｂ−８から基板２１Ｂ−１１と、の合計８個が照明可能領域Ｌａ内に存在されていることから、最大値ｋ＝８とする。これは、照明系１が第２照明位置（ｎ＝２）である場合も同様である。また、照明系１が第４照明位置である場合（ｎ＝４である場合）、図９（ｄ）に示すように、基板２１Ｂ−４から基板２１Ｂ−７と、基板２１Ｂ−１１から基板２１Ｂ−１４と、の合計８個が照明可能領域Ｌａ内に存在されているが、基板２１Ｂ−４と基板２１Ｂ−１１とは第１照明位置の際に照明可能領域Ｌａ内に存在されていたことから、これらを差し引いて合計６個が照明可能領域Ｌａ内に存在するものとし、最大値ｋ＝６とする。これは、照明系１が第３照明位置（ｎ＝３）である場合も同様である。
【００６８】
ステップＳ１４では、ステップＳ１３での最大値ｋの設定、あるいは、ステップＳ１８でのｍ＝ｋではないとの判断に続き、第ｍ分割照明位置に存在する基板２１Ｂのアライメント情報を取得して、ステップＳ１５へ進む。このステップＳ１４では、第ｎ照明位置とされた照明系１のコリメータミラー１６とマスクステージ１８（マスク１８ｂ）との間の照明光路上において、その照明可能領域Ｌａの中の第ｍ分割照明位置に存在する基板２１ＢのアライメントマークＡｍとマスクパターンのアライメントマークＰａとを観察対象とすることができる位置に露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３とを相対的に移動（位置調整）させて、そのアライメント観察機構２３からアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）を取得する。この観察対象とすることができる位置とは、照明系１が第１照明位置であって（ｎ＝１である）、その照明可能領域Ｌａの中の第１分割照明位置を露光する（最初に露光を行う（ｍ＝１である））場合、図１０（ａ）に示すように、基板２１Ｂ−１のアライメントマークＡｍと、そこに対応する左上のパターンＰｃＢのアライメントマークＰａと、をアライメント観察機構２３での観察画像内に捕捉することを言う。このとき、本実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報と、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報と、に基づいて、露光ステージ１９（その載置面１９ａ）とアライメント観察機構２３との相対的な移動（位置調整）を行う。
【００６９】
ステップＳ１５では、ステップＳ１４でのアライメント情報の取得に続き、そのアライメント情報に基づいてアライメントを行い、ステップＳ１６へ進む。このステップＳ１５は、図８のフローチャートにおけるステップＳ４と同様である。また、ステップＳ１５では、第（ｍ＋１）分割照明位置に存在する基板２１Ｂを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させる。この際、本実施例では、予め保存されているマスク１８ｂにおけるマスクパターンＰｃＢ（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置、すなわち第（ｍ＋１）分割照明位置に存在する基板２１Ｂに対応するマスクパターンＰｃＢのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させる。このアライメント観察機構２３の移動は、本実施例では、次にステップＳ１４へと戻ってくるまでの間に、それらの動作（主に後述する第１工程（ステップＳ１７））に並行して行う。本実施例では、第１分割照明位置の露光のためのアライメントを行う（ｍ＝１である）場合、上述したように第２分割照明位置を基板２１Ｂ−２に対応するものとしていることから（図９の矢印Ａ１参照）、基板２１Ｂ−２に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３とを移動させる（図１０（ａ）に二点差線で示すアライメント観察機構２３および矢印参照）。このため、ステップＳ１４およびステップＳ１５は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在するいずれかの基板２１Ｂのマスクステージ１８のマスク１８ａ（照明系１）に対する位置を調整する調整工程となる。
【００７０】
ステップＳ１６では、ステップＳ１５でのアライメントの実行に続き、分割照明領域Ｄａを第ｍ分割照明位置に適合させて、ステップＳ１７へ進む。このステップＳ１６では、コリメータミラー１６により反射された出射光を、第ｍ分割照明位置に存在するパターンＰｃＢおよび基板２１Ｂのみに到達させるように（図１０（ｂ）参照）、コリメータミラー１６とマスク１８ｂとの間の照明光路上にマスクブラインド１７を進出させて、その透過開口１７ａの大きさを調整する。この調整により照明される領域を分割照明領域Ｄａとする。このため、ステップＳ１６では、マスクブラインド１７を調整して、その透過開口１７ａを通過した出射光が、第ｍ分割照明位置のみを照明するものとして分割照明領域Ｄａを設定し、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおける第ｍ分割照明位置のみの露光を可能とする。このため、ステップＳ１６は、分割照明位置のうちの後述する第１工程（ステップＳ１７）が行われていない１つにマスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）の位置を調整する第２工程となる。
【００７１】
ステップＳ１７では、ステップＳ１６での分割照明領域Ｄａを第ｍ分割照明位置に適合させることに続き、露光を行い、ステップＳ１８へ進む。このステップＳ１７は、図８のフローチャートにおけるステップＳ４と同様である。すなわち、ステップＳ１７では、照明系１によるマスク１８ｂにおける照明可能領域Ｌａでの紫外線（ｉ線）の照明により、マスクブラインド１７を経ることで分割照明領域Ｄａのみで、マスク１８ｂのパターンＰｃＢのマスクパターン像を露光ステージ１９に載置された基板２１Ｂの表面に形成する（図１０（ｂ）参照）。すると、照明可能領域Ｌａの第ｍ分割照明位置にある基板２１Ｂの表面には、マスク１８ｂのパターンＰｃＢに適合するマスクパターン像に倣うパターンが形成される。このため、ステップＳ１７は、照明系１が存在する第ｎ照明位置において、第ｍ分割照明位置に存在する（その位置に調整された）マスクブラインド１７（その透過開口１７ａ）を経た照明系１からの露光光により基板２１Ｂを露光する第１工程となる。
【００７２】
ステップＳ１８では、ステップＳ１７での露光の実行に続き、ｍ＝ｋであるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合は、カウント値ｍを初期値（１）としてステップＳ１９へ進み、Ｎｏの場合は、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内において分割照明位置の番号（露光を行う回数）をカウントするカウント値ｍを、ｍ＝ｍ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ１４に戻る。このステップＳ１８では、カウント値ｍがｋである、すなわち第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおいて露光を行った回数が最大値となったか否かを判断している。ここで、本実施例の露光装置１０では、上述したように、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内に存在する基板２１Ｂの個数を最大値ｋとして設定していることから（ステップＳ１３）、露光を行った回数が最大値であるということは、第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂに対する露光が終了したことを意味するので、ステップＳ１８は第ｎ照明位置での照明可能領域Ｌａにおける露光が終了した否かを判断していることとなる。このため、ステップＳ１４からステップＳ１８は、第ｎ照明位置とされた照明可能領域Ｌａに存在する各基板２１Ｂを露光する露光工程となる。
【００７３】
ステップＳ１９では、ステップＳ１８でのｍ＝ｋであるとの判断に続き、ｎ＝４であるか否かを判断し、Ｙｅｓの場合はステップＳ２１へ進み、Ｎｏの場合は、照明位置の番号をカウントするカウント値ｎを、ｎ＝ｎ＋１の式により書き換え（１を加算した値に書き換え）て、ステップＳ２０へ進む。このステップＳ１９は、図８のフローチャートにおけるステップＳ６と同様であり、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ｂ）の全領域に対する露光が終了したかを判断している。
【００７４】
ステップＳ２０では、ステップＳ１９でのｎ＝４ではないとの判断に続き、照明系１を第ｎ照明位置へと移動させて、ステップＳ１３に戻る。このステップＳ２０は、図８のフローチャートにおけるステップＳ７と同様であり、照明系移動機構２５（図１および図２参照）を制御することにより、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第ｎ照明位置へと移動させる。このため、ステップＳ２０は、照明系１を、設定した照明位置のうち露光工程が行われていない１つに移動する移動工程となる。
【００７５】
ステップＳ２１では、ステップＳ１９でのｎ＝４であるとの判断に続き、カウント値ｎを初期値（１）として、このフローチャートを終了する。この後、載置面１９ａに載置された取付板２２が、図示を略す搬送機構により載置面１９ａ上から他の箇所へと搬送される。
【００７６】
このように、露光装置１０では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）が、プリアライメントされた状態で載置面１９ａに載置されると、ステップＳ１１→ステップＳ１２へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂのうち、第１分割照明位置に存在する基板２１Ｂ−１を露光対象とする（図７（ａ）参照）。その後、ステップＳ１３→ステップＳ１４→ステップＳ１５→ステップＳ１６→ステップＳ１７へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第１分割照明位置を分割照明領域Ｄａとして、その中にある基板２１Ｂ−１に対してアライメントを行なってから露光を行う。その後、ステップＳ１８→ステップＳ１４へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第２分割照明位置に存在する基板２１Ｂ−２を露光対象とし、ステップＳ１５→ステップＳ１６→ステップＳ１７へと進んで、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の第２分割照明位置を分割照明領域Ｄａとして、その中にある基板２１Ｂ−２に対してアライメントを行なってから露光を行う。このことを、図９（ａ）に示す矢印Ａ１の順に繰り返し行うことにより、第１照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１から２１Ｂ−４、および２１Ｂ−８から２１Ｂ−１１の８個）の適切な露光が終了する。
【００７７】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第２照明位置へと移動させて（図９（ｂ）参照）、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第２照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｂ）に示す矢印Ａ２の順に繰り返し行うことにより、第２照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１５から２１Ｂ−１８、および２１Ｂ−２２から２１Ｂ−２５の８個）の適切な露光が終了する。
【００７８】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第３照明位置へと移動させて（図９（ｃ）参照）、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第３照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置等と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｃ）に示す矢印Ａ３の順に繰り返し行うことにより、第３照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−１９から２１Ｂ−２１、および２１Ｂ−２６から２１Ｂ−２８の６個）の適切な露光が終了する。
【００７９】
その後、ステップＳ１９→ステップＳ２０へと進んで、マスクステージ１８および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って第４照明位置へと移動させて（図９（ｄ）参照）、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各基板２１Ｂの露光工程を開始する。この第４照明位置での照明可能領域Ｌａにおいても、第１照明位置等と同様に、ステップＳ１３からステップＳ１８の露光工程を、図９（ｄ）に示す矢印Ａ４の順に繰り返し行うことにより、第４照明位置での照明可能領域Ｌａ内の全ての基板２１Ｂ（本実施例では２１Ｂ−５から２１Ｂ−７、および２１Ｂ−１２から２１Ｂ−１４の６個）の適切な露光が終了する。その後、ステップＳ１９→ステップＳ２１へと進むことで、取付板２２に取り付けられた２８個の基板２１Ｂの適切な露光が終了する。
【００８０】
このため、露光装置１０では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）と、マスク１８ｂ（図３（ｂ）参照）と、を用いることで、取付板２２を載置面１９ａ上に載置する作業を１度行うだけで、２８個の基板２１Ｂを適切に露光することができる。このとき、露光装置１０では、基本的に、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させるのみである。このため、露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、その平面に沿う方向（Ｘ−Ｙ平面に沿う方向）に照明系１を移動させる照明系ステップ機構（アライメント顕微鏡ステップ機構）と、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク１８ｂ）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させることのないノンステップステージ機構（アライメントのための調整を除く）と、を採用した構成とされている。
【００８１】
なお、上記した本実施例の露光処理（図１１のフローチャート）では、アライメントを実行するステップＳ１５において、上述した予め保存されているマスク１８ａにおけるマスクパターン（そのアライメントマークＰａ）の位置情報に基づいて、次に露光を行う基板２１Ｂに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させていることから、ステップＳ１４において、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、マスクパターン（そのアライメントマークＰａ）（アライメント観察機構２３）に対して露光ステージ１９（その載置面１９ａ）を移動させて位置調整を行うだけとすることができるので、より効率よく露光処理を行うことができる。
【００８２】
次に、プロキシミティ露光を行う際の技術の課題について説明する。プロキシミティ露光では、マスクのマスクパターンと１対１の関係（倍率）で基板上にマスクパターン像を形成するものであることから、大きなマスクを用いることにより、一度に大きな範囲で基板を露光することができる。このため、プロキシミティ露光を行う露光装置では、複数の回路部品に対応する大きさ寸法の基板と、その基板に適合する大きさ寸法であって複数の回路部品のためのパターンが設けられたマスクと、を用いることにより、基板に複数の回路部品に対応するパターンを形成し、その基板を単一の回路部品に対応する大きさに切断することにより、作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することが考えられている。
【００８３】
ここで、近年、携帯型電子機器のタッチパネルにおいて表面の保護に用いられる硬質のガラス板に、タッチセンサ用（タッチセンサパネル用）のパターン（プリント配線）を形成することにより、タッチパネルの機能を備えさせることが考えられている。このガラス板に、プロキシミティ露光を用いてパターンを形成する場合、上述したガラス板を露光対象としての基板とすることとなる。このようなガラス板は、硬化処理が施されることにより、表面の保護に用いることのできる所望の硬度とされる。この硬化処理後のガラス板は、非常に硬いものであることから、硬化処理後に切断することは困難である。このことから、硬化処理後のガラス板を露光対象としての基板とすると、上述したように作業効率を高めつつ複数の回路部品を形成することはできなくなってしまう。そこで、硬化処理前のガラス板に、複数の回路部品に対応するパターンを形成することが考えられる。しかしながら、上記した硬化処理を行うと、その性質上形成したパターンを傷めてしまうことから、その硬化処理前にパターンを形成することは大変困難である。
【００８４】
このため、硬化処理前のガラス板を所望の大きさに切断し、それらに硬化処理を施してから、その硬化処理後のガラス板を露光対象としての基板とし、当該ガラス板を個別に露光装置に配することにより、各ガラス板にタッチセンサ用のパターン（プリント配線）を形成することとなる。このように、所望の大きさに切断して硬化処理を施した１つのガラス板を、露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行い、その後パターンを形成したガラス板を露光位置から退避させ、次のガラス板を露光装置における露光位置へと導いて露光処理を行う、ということを繰り返すことは、作業効率の大幅な低下を招いてしまう。
【００８５】
これに対し、本発明に係る露光装置１０では、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して照明系１を移動させることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、複数の基板２１が取り付けられた取付板２２と、それに対応するマスク（１８ａ等）と、を用いることにより、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って移動させて、それぞれの基板２１が取り付けられた位置を照明可能領域Ｌａとすることで、すべての基板２１の露光を行うことができるので、１度載置面１９ａ上に取付板２２を載置するだけで、複数の基板２１を露光することができる。このため、各基板２１に対して、１つ１つ載置面１９ａ上に載置する作業を行う必要がないことから、複数の基板２１の露光に要する時間を短縮することができ、作業効率を高めることができる。
【００８６】
また、露光装置１０では、取付板２２に複数の基板２１を取り付けることで当該各基板２１の露光を行うものであることから、所望の大きさに切断してから硬化処理を施した複数のガラス板を取付板２２に取り付けることで、それら複数のガラス板を露光対象としての基板２１とすることができ、作業効率を高めつつ複数のガラス板にパターンを形成することができる。
【００８７】
さらに、露光装置１０では、マスク（１８ａ等）および載置面１９ａに対して照明系１を移動させることにより、照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）および載置面１９ａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、できる限り少ない数ですべてのパターン（ＰｃＡ等）を照明することができるように複数の照明位置を設定することより、より効率よく照明可能領域Ｌａをマスク（１８ａ等）の全領域に行き渡らせることができ、すべての基板２１の露光をより効率よく行うことができる。
【００８８】
露光装置１０では、照明系１による照明可能領域Ｌａを、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定していることから、マスク（１８ａ等）に設けられた複数のパターン（ＰｃＡ等）を余すことなく照明することを可能とする複数の照明位置を、より効率よく設定することができる。このため、さらに作業効率を高めることができる。
【００８９】
露光装置１０では、照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って各照明位置へと移動させた後、その照明位置に存在する基板２１のアライメントマークＡｍとマスク（１８ａ等）のアライメントマークＰａとに基づいてアライメントを行うことから、作業効率を高めつつ複数の基板２１を適切に露光することができる。換言すると、露光装置１０では、その露光対象とする単一の基板２１（２１Ａ）とマスク（１８ａ等）とのアライメントを行ってから、その基板２１の露光工程を実行するので、当該基板２１を適切に露光することができる。
【００９０】
露光装置１０では、照明系１を各照明位置に移動させることにより、複数の基板２１を露光するものであることから、マスク（１８ａ等）（マスクステージ１８）や複数の基板２１（取付板２２）を移動させる必要がないので、簡易な構成としつつ複数の基板２１をより適切に露光することができる。これは、マスクステージ１８が、保持したマスク（１８ａ等）の鉛直方向の下側であって各マスク（１８ａ等）を保持する構成の内方に、露光ステージ１９を受け入れ可能な構成とされていることと、その構成により露光ステージ１９の載置面１９ａに載置された取付板２２（そこに取り付けられた各基板２１）を、プロキシミティ露光を行う観点から、マスク（１８ａ等）に対して所定の位置とすることが容易であることによる。また、照明系１は、マスクステージ１８や露光ステージ１９に比較して、簡易で小さな構成とすることができるとともに、露光工程において要求される設定位置の精度が低いことにもよる。
【００９１】
露光装置１０では、照明系１が存在する各照明位置に存在する基板２１（そのアライメントマークＡｍ）およびそれに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３を移動させることにより、すべての基板２１のアライメント情報を取得することができるので、複数の基板２１の適切な露光を可能としつつ作業効率を高めることができる。
【００９２】
露光装置１０では、照明系１（その光源１１（水銀ランプ１１ａ））を照明可能領域Ｌａのみを適切に照射することのできる出力に設定すればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を適切に照射することのできる出力に設定する構成と比較して、照明系１の出力を抑制することができる。
【００９３】
露光装置１０では、照明系１を照明可能領域Ｌａのみを適切に照射することのできる出力に設定すればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を適切に照射することのできる出力と同等の出力に設定することにより、各照明位置での露光に要する時間を短縮することができる。
【００９４】
露光装置１０では、照明系１を照明可能領域Ｌａのみを照射することのできる構成とすればよいことから、露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を照射する構成と比較して、照明系１の構成を簡易で小さなものとすることができる。
【００９５】
露光装置１０では、照明系１の出力を抑制することができるとともに、照明系１の構成を簡易で小さなものとすることができることから、照明系１の移動を容易なものとすることができるとともに、照明系１の移動のための照明系移動機構２５を簡易で小さなものとすることができる。
【００９６】
露光装置１０では、１つの照明位置での照明系１の照明光路上の露光を行う際、アライメント観察機構２３を次の照明位置での照明系１の照明光路上へと移動させることから、より作業効率を高めることができる。特に、上記した実施例では、１つの照明位置でのアライメントおよび露光を行う間に（その動作に並行して）、次に露光を行う基板２１（２１Ａ）に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させることから、より作業効率を高めることができる。加えて、上記した実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、アライメント観察機構２３が観察対象とすることのできる位置へと次に露光を行う基板２１（２１Ａ）の調整を行うものであることから、アライメント観察機構２３によるアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）の取得を確実なものとすることができるので、より作業効率を高めることができる。
【００９７】
露光装置１０では、各照明位置においてマスクブラインド１７がマスク（１８ａ等）に対する分割照明領域Ｄａの設定およびその位置の調整が可能であることから、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１（２１Ｂ）が取り付けられた取付板２２を用いることにより、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内において、各基板２１（２１Ｂ（そのための各パターンＰｃＢ））が存在する分割照明位置毎に露光工程を行うことができるので、１度載置面１９ａ上に取付板２２を載置するだけで、さらに多くの基板２１（２１Ｂ）を適切に露光することができる。このため、さらに多くの基板２１に対して、１つ１つ載置面１９ａ上に載置する作業を行う必要がないことから、多くの基板２１の露光に要する時間を短縮することができ、作業効率をより高めることができる。
【００９８】
露光装置１０では、取付板２２に単一の照明可能領域Ｌａ内に相当する箇所に複数の基板２１（２１Ｂ）を取り付けることで当該各基板２１（２１Ｂ）の露光を行うものであることから、所望の大きさに切断してから硬化処理を施した複数のガラス板を取付板２２に取り付けることで、それら複数のガラス板を露光対象としての基板２１（２１Ｂ）とすることができ、さらに作業効率を高めつつ複数のガラス板にパターンを形成することができる。
【００９９】
露光装置１０では、各照明位置においてマスクブラインド１７を調整することにより、分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることが可能であることから、できる限り少ない数ですべてのパターン（ＰｃＢ）を照明することができるように複数の分割照明位置を設定することより、より効率よく分割照明領域Ｄａを照明可能領域Ｌａの全領域に行き渡らせることができ、すべての基板２１（２１Ｂ）の露光をより効率よく行うことができる。
【０１００】
露光装置１０では、マスクブラインド１７により調整される分割照明領域Ｄａを、コリメータミラー１６により反射された出射光が第ｍ分割照明位置に存在するパターンＰｃＢおよび基板２１Ｂのみに到達するように設定していることから、マスク（１８ｂ等）に設けられた複数のパターン（ＰｃＢ等）を余すことなく照明することを可能とする複数の分割照明位置を、より効率よく設定することができる。このため、さらに作業効率を高めることができる。
【０１０１】
露光装置１０では、各照明位置に照明系１をＸ−Ｙ平面に沿って移動させた後、各照明位置での照明可能領域Ｌａ内の各分割照明位置において、そこに存在する基板２１（２１Ｂ）のアライメントマークＡｍとマスク（１８ｂ等）のアライメントマークＰａとに基づいてアライメントを行うことから、作業効率を高めつつさらに多くの基板２１を適切に露光することができる。換言すると、露光装置１０では、その露光対象とする単一の基板２１（２１Ｂ）とマスク（１８ｂ等）とのアライメントを行ってから、その基板２１の露光工程を実行するので、当該基板２１を適切に露光することができる。
【０１０２】
露光装置１０では、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる場合、光学系１を移動させることなくマスクブラインド１７により分割照明領域Ｄａの設定を調整することで各照明位置での照明可能領域Ｌａ内における分割照明位置毎の露光を行うことから、より容易に分割照明位置を変移させることができ、作業効率を高めることができる。
【０１０３】
露光装置１０では、照明系１が存在する各照明位置のうち各分割照明位置に存在する基板２１（２１Ｂ）（そのアライメントマークＡｍ）およびそれに対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置にアライメント観察機構２３を移動させることにより、すべての基板２１（２１Ｂ）のアライメント情報を取得することができるので、複数の基板２１（２１Ｂ）の適切な露光を可能としつつ作業効率を高めることができる。
【０１０４】
露光装置１０では、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる場合、１つの分割照明位置の露光を行う際、アライメント観察機構２３を次の分割照明位置へと移動させることから、より作業効率を高めることができる。特に、上記した実施例では、１つの分割照明位置でのアライメントおよび露光を行う間に（その動作に並行して）、次に露光を行う基板２１（２１Ｂ）に対応するマスクパターンのアライメントマークＰａを観察対象とすることができる位置へとアライメント観察機構２３を移動させることから、より作業効率を高めることができる。加えて、上記した実施例では、上述した位置情報取得機構（図示せず）からの情報に基づいて、アライメント観察機構２３が観察対象とすることのできる位置へと次に露光を行う基板２１（２１Ｂ）の調整を行うものであることから、アライメント観察機構２３によるアライメントマークＡｍとアライメントマークＰａとの位置ずれ量（調整代）の取得を確実なものとすることができるので、より作業効率を高めることができる。
【０１０５】
したがって、本発明に係る露光装置１０では、パターンを形成した後の切断処理が困難な基板２１を露光対象としても、効率よく露光処理を行うことができる。
【０１０６】
［変形例］
次に、照明可能領域Ｌａ内に複数の基板２１が取り付けられた取付板２２を用いる際の各照明位置の設定と、各照明位置における各分割照明位置の設定と、が異なる変形例について、図１２を用いて説明する。図１２は、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２と、その取付板２２に対して設定された各照明位置の設定および各照明位置における各分割照明位置の設定と、それに伴う効果と、を説明するための説明図である。
【０１０７】
この変形例は、光学系１およびアライメント観察機構２３の移動をより効率の良いものとする観点から、各照明位置およびそれらでの各分割照明位置を設定するものの一例である。この変形例では、図１２に示すように、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いるものとする。なお、この変形例は、各照明位置およびそれらでの各分割照明位置の設定が異なることを除くと、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２（図５参照）を用いた場合と同様であることから、上記した図１１のフローチャートにより露光処理を行うことができる。
【０１０８】
この変形例では、基板２１Ｃを露光対象としており、露光装置１０のマスクステージ１８には基板２１Ｃに対応して２４個のパターンが設けられたマスク（図示せず）を設けている。このため、載置する取付板２２では、当該マスクにおける２４個のパターン（図示せず）の並びに対応させて、２４個の基板２１Ｃが取り付けられている。この変形例では、照明可能領域Ｌａ´が露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク）の全領域を略１２個に分割した大きさ寸法に相当するものとされており、後述する行方向で並列された２つの基板２１Ｃを一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されている。また、分割照明領域Ｄａ´は、各基板２１Ｃのみにコリメータミラー１６により反射された出射光を到達させる大きさ寸法に設定されている。
【０１０９】
この変形例では、複数の照明位置およびそれらにおける複数の分割照明位置を、図１２に示す矢印Ａ５で示す順に設定している。すわなち、図１２を正面視して、各基板２１Ｃが横方向に並ぶ方向を行（行方向）とし、かつ縦方向に並ぶ方向を列（列方向）とすると、第１照明位置は、１行目における１列目および２列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第１照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における１列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における２列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第２照明位置は、１行目における３列目および４列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとし、その第２照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における３列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における４列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第３照明位置は、１行目における５列目および６列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとし、その第３照明位置において、第１分割照明位置は、１行目における５列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、１行目における６列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。同様に、第４照明位置は、２行目における５列目および６列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第４照明位置において、第１分割照明位置は、２行目における６列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、２行目における５列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。以下の設定は、同様に矢印Ａ５で示す順に設定しており、最後となる第１２照明位置は、４行目における１列目および２列目に存在する２個の基板２１Ｃを覆うことのできる照明可能領域Ｌａ´を形成するものとしている。また、その第１２照明位置において、第１分割照明位置は、４行目における２列目に存在する１個の基板２１Ｃを、第２分割照明位置は、４行目における１列目に存在する１個の基板２１Ｃを覆うことのできる分割照明領域Ｄａ´を形成するものとしている。
【０１１０】
この変形例では、２４個の基板２１Ｃが取り付けられた取付板２２を用いるとともに、上記した設定としていることから、最大値ｋの設定（ステップＳ１３）の際に最大値ｋ＝２とするとともに、載置面１９ａに載置された取付板２２に対する露光が終了した否かの判断（ステップＳ１９）の際にカウント値ｎ＝２４であるか否かを判断するものとすることにより、図１１のフローチャートと同様の工程により、２４個の基板２１Ｃを適切に露光することができることとなる。
【０１１１】
この変形例では、複数の照明位置およびそれらにおける複数の分割照明位置を、矢印Ａ５で示す順、取付板２２（それが載置された載置面１９ａおよび対応するマスク）上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定していることから、２４個の基板２１Ｃにおいて、露光対象とした基板２１Ｃに対して隣接する基板２１Ｃを次の露光対象とすることができるとともに、全体で見ると取付板２２上において極めて短い経路で（極めて効率よく）全ての基板２１Ｃを露光対象とすることができる。
【０１１２】
詳細には、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へと照明系１を移動させることで、１２箇所の照明位置での各照明可能領域Ｌａ´により、マスク、載置面１９ａおよび取付板２２の全領域に露光光を行き渡らせることができる。このとき、照明系１では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って移動すれば良いことから、照明位置（照明可能領域Ｌａ´）を１２箇所に形成するために必要な移動量を極めて短いものとすることができる。
【０１１３】
また、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へとアライメント観察機構２３を移動させることにより、２４個の基板２１Ｃの全てを観察対象とすることができる。このとき、アライメント観察機構２３では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って移動すれば良いことから、２４個の基板２１Ｃの全てを観察対象とするために必要な移動量を極めて短いものとすることができる。
【０１１４】
さらに、この変形例の露光装置１０では、マスクステージ１８（そこに設けられたマスク）および露光ステージ１９（その載置面１９ａ）に対して、矢印Ａ５で示す方向（一筆書きの経路）へとマスクブラインド１７における透過開口１７ａの位置（大きさ）を調整することで、２４箇所の分割照明位置（各照明位置において２箇所づつ）での各分割照明領域Ｄａ´により、マスク、載置面１９ａおよび取付板２２の全領域に行き渡らせることができる。このとき、マスクブラインド１７では、取付板２２（マスク）上において所謂一筆書きの経路に沿って透過開口１７ａの位置を移動すれば良いことから、分割照明位置（分割照明領域Ｄａ´）を２４箇所に形成するために必要な調整量を極めて小さいものとすることができる。
【０１１５】
これらのことから、この変形例の露光装置１０では、照明系１の移動、アライメント観察機構２３の移動およびマスクブラインド１７の調整をより効率よく行うことができるので、より作業効率を高めることができる。
【０１１６】
なお、上記した実施例（変形例を含む）では、本発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０について説明したが、マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置であって、前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能である露光装置であればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１１７】
また、上記した実施例では、照明可能領域Ｌａが露光ステージ１９の載置面１９ａ（マスク１８ａ）の全領域を略４つに分割した大きさ寸法に相当するものとされていたが、少なくとも露光対象とする基板２１を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１１８】
さらに、上記した実施例では、４個の基板２１Ａが取り付けられた取付板２２を用いる例を示していたが、この個数は照明可能領域Ｌａとともに適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。例えば、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いる場合、照明可能領域Ｌａを基板２１Ｂの大きさ寸法に相当するものとして、載置面１９ａに載置された取付板２２に対する露光が終了した否かの判断（ステップＳ６）の際にカウント値ｎ＝２８であるか否かを判断するものとすることにより、図８のフローチャートと同様の工程により、２８個の基板２１Ｂを適切に露光することができることとなる。
【０１１９】
上記した実施例では、図７および図９に示すように第１照明位置から第４照明位置が設定されていたが、効率良く次の照明位置へと移動することを可能とするものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。このとき、変形例のように、光学系１およびアライメント観察機構２３の移動をより効率の良いものとする観点から、取付板２２上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定する、換言すると、複数の基板２１（２１Ｃ）において、露光対象とした基板２１（２１Ｃ）に対して隣接する基板２１（２１Ｃ）を次の露光対象とするとともに、全体で見て取付板２２上において極めて短い経路で全ての基板２１（２１Ｃ）を露光対象とすることを可能とするように、各照明位置を設定することが望ましい。
【０１２０】
上記した実施例では、２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２を用いる例を示していたが、この個数は適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２１】
上記した実施例では、図９に矢印（Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４）で示すように第１照明位置から第４照明位置における分割照明位置に対する露光工程の順序が設定されていたが、効率良く次の分割照明位置へと移行することを可能とするものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。このとき、変形例のように、アライメント観察機構２３の移動およびマスクブラインド１７の調整をより効率の良いものとする観点から、取付板２２上において所謂一筆書きの経路に沿う順に設定する、換言すると、複数の基板２１（２１Ｃ）において、露光対象とした基板２１（２１Ｃ）に対して隣接する基板２１（２１Ｃ）を次の露光対象とするとともに、全体で見て取付板２２上において極めて短い経路で全ての基板２１（２１Ｃ）を露光対象とすることを可能とするように、各分割照明位置を設定することが望ましい。
【０１２２】
上記した実施例では、各照明可能領域Ｌａにおいて複数の基板が設けられた例（２８個の基板２１Ｂが取り付けられた取付板２２）に対して、各照明可能領域Ｌａで分割照明位置を設定する構成としていたが、照明可能領域Ｌａを露光対象とする基板の大きさ寸法に適合する大きさに変更するとともに照明位置の設定を変更して、露光工程と移動工程とを交互に行う回数を変更する構成としてもよい。このような照明可能領域Ｌａの変更は、例えば、インテグレータレンズ１５もしくはインテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を変更することにより、行うことができる。インテグレータレンズ１５もしくはインテグレータレンズ１５およびコリメータミラー１６を変更する構成としては、複数のインテグレータレンズ１５、もしくは複数のインテグレータレンズ１５とコリメータミラー１６との組み合わせを設けるとともに、それらを照明光軸に対して交換可能とすることにより実現することができる。また、照明可能領域Ｌａの変更は、照明光路におけるインテグレータレンズ１５とコリメータミラー１６との間に、ズーム光学系を設ける構成としても実現することができる。
【０１２３】
上記した実施例では、露光光として紫外線（ｉ線）の波長帯域の光を用いていたが、異なる波長帯域の光であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２４】
上記した実施例では、基板２１のアライメントマークＡｍとマスク（１８ｂ等）のアライメントマークＰａとが２つずつ設けられていたが、マスク（１８ｂ等）に対する基板２１の位置を適切なものとすることができるものであって、それぞれが少なくとも１つ以上設けられていればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２５】
上記した実施例では、露光工程を実行する前にアライメント情報を取得する構成とされていたが、アライメント観察機構２３を照明光路上から退避させる際、次の照明位置もしくは分割照明位置へと移動させていることから、露光工程を実行している間にアライメント情報を取得する構成であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。このような構成の場合、より作業効率を高めることができる。
【０１２６】
上記した実施例では、本願発明の構成をプロキシミティタイプの露光装置に適用した例について説明したが、コンタクトタイプ（密着露光タイプ）の露光装置に適用してもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１２７】
以上、本発明の露光装置を実施例に基づき説明してきたが、具体的な構成については実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。
【符号の説明】
【０１２８】
１ 照明系
１０ 露光装置
１７ マスクブラインド
１８ａ、１８ｂ マスク
１９ 露光ステージ
２１、２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ 基板
２２ 取付板
Ｄａ 分割照明領域
Ｌａ 照明可能領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置であって、
前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、
前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、
前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、
前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の露光装置であって、
さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、
該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の露光装置を用いる露光方法であって、
前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、
該照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、
前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
請求項４に記載の露光装置を用いる露光方法であって、
前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、
該各照明位置において、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせるために、前記マスクおよび前記基板に対して前記マスクブラインドを移動させる複数の分割照明位置を設定し、
前記照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、
前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含み、
前記露光工程は、前記照明系が存在する前記照明位置において、前記分割照明位置のうちの１つに存在する前記マスクブラインドを経た前記照明系からの露光光により前記基板を露光する第１工程と、
前記分割照明位置のうちの前記第１工程が行われていない１つに前記マスクブラインドを移動させる第２工程と、を設定した全ての前記分割照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１】
マスクを経た照明系からの露光光により基板を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置であって、
前記照明系では、前記マスクを照明することのできる照明可能領域が、該マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、
前記照明系は、前記マスクに対して移動することにより、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記照明可能領域は、少なくとも露光対象とする前記基板を一度で照明することのできる大きさ寸法に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
さらに、前記マスクに対する前記基板の姿勢の調整を可能とすべく該基板が取り付けられる取付板を移動可能に保持する露光ステージを備え、
前記照明系は、前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して複数回移動され、
前記露光ステージは、前記照明系が移動される毎に、前記照明可能領域内に存在する前記基板の前記マスクに対する姿勢を調整すべく前記取付板を移動させることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の露光装置であって、
さらに、前記照明系からの露光光の一部のみの前記マスクへの到達を許すマスクブラインドを備え、
該マスクブラインドは、前記照明可能領域を複数に分割した大きさ寸法の分割照明領域を形成可能であるとともに、前記マスクおよび前記基板に対して移動することにより、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせることが可能であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の露光装置を用いる露光方法であって、
前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、
該照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、
前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
請求項４に記載の露光装置を用いる露光方法であって、
前記照明可能領域を前記マスクの全領域に行き渡らせるために、前記マスクに対して前記照明系を移動させる複数の照明位置を設定し、
該各照明位置において、前記分割照明領域を前記照明可能領域の全領域に行き渡らせるために、前記マスクおよび前記基板に対して前記マスクブラインドを移動させる複数の分割照明位置を設定し、
前記照明位置のうちの１つに存在する前記照明系からの露光光により前記基板を露光する露光工程と、
前記照明位置のうちの前記露光工程が行われていない１つに前記照明系を移動させる移動工程と、を設定した全ての前記照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを含み、
前記露光工程は、前記照明系が存在する前記照明位置において、前記分割照明位置のうちの１つに存在する前記マスクブラインドを経た前記照明系からの露光光により前記基板を露光する第１工程と、
前記分割照明位置のうちの前記第１工程が行われていない１つに前記マスクブラインドを移動させる第２工程と、を設定した全ての前記分割照明位置での露光が終わるまで交互に行うことを有することを特徴とする露光方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１３−１５７６１（Ｐ２０１３−１５７６１Ａ）
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５００４５（Ｐ２０１１−１５００４５）
【出願日】平成２３年７月６日（２０１１．７．６）
【出願人】（０００２２０３４３）株式会社トプコン (904)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月６日（２０１１．７．６）
【出願人】（０００２２０３４３）株式会社トプコン (904)
【Ｆターム（参考）】
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