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Fターム[2H097GA01]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 密着露光 (806) | 真空密着 (148)

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【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、1度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 (もっと読む)


【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】導体パターン3が形成された絶縁基板2上にソルダレジスト4aを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム5を介しソルダレジスト4aを紫外線で露光する工程において、ソルダレジスト4aの全面を露光する第1の露光工程と露光用マスクフィルム5を剥離したのち選択的に露光する第2の露光工程を用いてソルダレジストを形成する。 (もっと読む)


【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供する。
【解決手段】マスクパターンが描画されたマスクフィルムと、その下方に選択的に積層接着された光拡散フィルムとからなる露光用マスクフィルムを用いてプリント配線板を製造し、露光用マスクフィルムを介しソルダレジストを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジストを形成する。 (もっと読む)


【課題】フィルムを連続露光する際のアライメントマークの形成が容易であり、フィルムの蛇行を精度良く補正して、安定的に露光できるフィルム露光装置及びフィルム露光方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材20の幅方向の両側のフィルム基材送給用領域の少なくとも一方に側部露光材料膜を形成し、アライメントマーク形成部14により、露光光を照射してアライメントマーク2aを形成し、このアライメントマーク2aを使用して、フィルム蛇行を検出してマスク12の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】ネガフィルムと感光性樹脂構成体との密着不良を抑制し、所望の印刷パターンを有する印刷版を製造する。
【解決手段】排気手段11を具備する露光機10に、支持体2上に感光性樹脂組成物層3を有する感光性樹脂構成体1を載置し、その後、前記感光性樹脂組成物層3形成側の面の周端部と前記排気手段11とを、フィルム(X)を配置して接続する工程と、
前記フィルム(X)上にネガフィルム12を配置する工程と、
前記排気手段11から排気を行う工程と、
前記感光性樹脂組成物層3に、前記ネガフィルム12を介して活性光線を照射し、露光部と未露光部を形成する工程と、
前記未露光部を除去する工程と、
を、有する印刷版の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する1つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 露光マスクから基板を素早くかつ確実に剥離させる。
【解決手段】 露光ステージ1と上枠2の双方に、突出動作して基板10の一端を露光マスク11から引き剥がす方向に押圧するプッシャ12を設け、プッシャ12に基板10と露光マスク11の間に対して気体を噴出するノズル21を形成した。プッシャ12は基板10の端部を押圧する部位に設置され、ノズル21は剥離対象の基板10の中央に向けて気体を噴出するよう形成され、ノズル21から噴出させる気体は、静電気除去作用を有するイオン化された気体とした。 (もっと読む)


【課題】マスクとワークの位置合せを行っているときに、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたマスク2を保持するマスクステージ3と、ワーク4を載置するワークステージ5とを備え、マスクステージ3又はワークステージ5の周辺部に、環状のシール部材6を取り付け、ワークステージ5に載置されたワーク4をマスク2と接触させ、マスク2とマスクステージ3とワーク4とワークステージ5とシール部材6により形成される空間を減圧した状態で、露光光をマスク2を介してワーク4に照射するコンタクト露光装置において、シール部材6に、シール部材6の先端部62の環状方向全体を上下移動させる移動機構9が取り付けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板21の端に、ガラス基板21の表面21a,21bに対して垂直な切り欠き22を設ける。次に、アライメントマーク33,34が切り欠き22に合致するように第1マスク31をガラス基板21に位置合わせして配置し、ガラス基板21のオモテ面21aに第1マスクパターン32に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。そして、ガラス基板21を裏返し、ウラ面21bを上方に露呈させ、アライメントマーク43,44が切り欠き22に合致するように第2マスク32をガラス基板21に位置合わせして配置し、ガラス基板21のウラ面21bに第2マスクパターン42に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 (もっと読む)


【課題】 基板に塗布されたレジストが異常に反応しない露光装置を提供する。
【解決手段】 基板の露光方法は、露光用マスクに表示されたパターンを感光材が塗布された基板に転写する。この方法は、基板(SW)とマスク(20)を近接又は接触させ、基板及びマスクの外周で基板及びマスクとに接する側壁(37)を形成し、密閉空間を形成させる工程(S14)と、密閉空間のガスを排気する工程(S15)と、ガスが排気された密閉空間に不活性ガスを所定の期間投入する工程(S16)と、不活性ガスの投入を停止させる工程後にマスクのパターンを基板に転写する転写工程(S20)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】フォトマスクの交換を容易にする。
【解決手段】露光装置は、露光ステーションと作業ステーションとの間を往復移動する支持台を備える。支持台は、フォトマスク4の中央部を支持可能な中央支持領域21と、フォトマスク4の周縁部を支持可能な周縁支持領域22とを備えている。支持台は、作業ステーションにてフォトマスク4を中央支持領域21および周縁支持領域22上に受け取り、フォトマスク4を露光ステーションまで運ぶ。周縁支持領域22は、フォトマスク4が露光位置へ動かされたときに、フォトマスク支持機構の一部9との干渉を避けるための凹所25を備えている。 (もっと読む)


【課題】パターニング精度を向上することが可能な感光性物質の露光方法を提供する。
【解決手段】この露光方法は、基板1の上面に設けた感光性樹脂2に、当該感光性樹脂2の上方に配したマスク部材を介して光を照射することで、感光性樹脂2に露光部分と未露光部分とからなる特定の露光パターンを形成するものである。そして、感光性樹脂2の未露光となるべき部分に臨ませて、光を吸収する光吸収体4Aを設け、その状態で感光性樹脂2に光を照射することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安価且つ短時間で、高精細なマスクパターンを光透過性円筒基材の外周面に形成させる露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性円筒基材の外周面に少なくとも1層の感光層を有する感光体の露光装置であって、マスクパターンフィルムの挿入口と、前記マスクパターンフィルムを前記感光体に押し付け且つ前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体の外周面の一部を覆い、前記感光体と共に前記マスクパターンフィルムを挟持しながら搬送させるための光透過性搬送手段とを、少なくとも有する露光装置。 (もっと読む)


【課題】 保護テープ基材の内部異物、凝集粒子やオリゴマーの発生が極めて少ないフォトマスク保護テープ用ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 下記式(1)および(2)を同時に満たす量のチタン化合物およびリン化合物を含み、アンチモン元素の含有量が10ppm以下であり、実質的に粒子を含まない二軸配向ポリエステルフィルムの両面に帯電防止層を有し、当該帯電防止層表面の表面固有抵抗がいずれも1.0×1013Ω/□以下であることを特徴とする液状レジストフォトマスク保護テープ用二軸配向ポリエステルフィルム。
1≦WTI≦20 …(1)
1≦W≦300 …(2)
(上記式中、WTIはポリエステルフィルム中のチタン元素含有量(ppm)、Wはポリエステルフィルム中のリン元素含有量(ppm)を示す) (もっと読む)


【課題】第1の露光部内のステージ上で発生した塵芥によるワークの移送経路上における汚染を防止し、各露光部内においてマスクを清浄に保ったままワークの各面に対する露光を行うことができる露光装置を、提供する。
【解決手段】第1露光部2内に備えられたクリーニングユニット12は、そのステージ8の上面及びマスク10の表面を除塵する。反転部3内に備えられたクリーニングユニット13は、反転装置9による反転後のワークWの第2面を除塵する。第2露光部4内に備えられたクリーニングユニット12は、そのステージ8の上面及びマスク10の表面を除塵する。 (もっと読む)


【課題】皺、残留気泡のないマスクパターンフィルム圧着機の提供。
【解決手段】バキュームローラー12と作業台20を具えると共に、該バキュームローラーは、軸部と真空吸着ローラー作動面を具え、作業台上の被加工物に垂直に移動可能であり、作業台は真空吸着する被加工物載置面21を具えて、水平方向に移動可能に設置される。
マスクパターンフィルム圧着工程は、マスクパターンフィルムを該被加工物載置面に吸着してセットし、バキュームローラーのローラー作動面下方に送ると共にローラーを下降させて該ローラー作動面に該フィルムを吸着し、次いで作業台を復帰させて粘着フィルムを該被加工物載置面に吸着してセットし、同様に該ローラー作動面に該フィルムを粘着させ、再度該被加工物載置面に被加工基板を吸着セットして、該ローラー作動面によりこれら3者を圧着固定する。 (もっと読む)


【課題】 面倒な調整や制御を行わずに同一の露光条件で基板の表裏を露光できる両面露光装置を提供する。
【解決手段】 光源ランプ10から出た光は楕円ミラー11によって集光され、反射ミラー12で折り返された後、フライアイレンズ13部分で焦点を結び、分光ミラー20により反射光と透過光に分光され、光源シャッター21により光量を制御され、コリメーションミラー3で反射され、平行光となり、フォトマスク51、フォトマスク52を透過して基板50の表側と裏側へ照射される。 (もっと読む)


【課題】密着誤差を最小限に抑制しつつ、密着面略中心の真空引きを効果的に行い密着不良を防止した、真空密着露光方法を提供すること。
【解決手段】ワークを載置したテーブルの端縁部に装備されたパッキンにより、前記パッキンを前記テーブルに配設したマスクに密着させる工程、初期設定圧力値まで真空引きを行い、前記マスクを凸状にたわませて前記マスクの略中心から前記ワークに密着させる工程、更に真空引きを行うと共に前記マスクの端縁部を保持するマスクホルダーを上昇させ、マスクのたわみを増大させつつ前記マスクの端縁部に向かって更に前記ワークに密着させる工程、及び前記マスクが前記ワークの略端縁部まで密着したことに応じて、マスクホルダーの上昇を停止させる工程を含む真空密着方法による。 (もっと読む)


【課題】凸部が感光性樹脂層で構成されている印刷用凸版からの溶出物を低減するための後露光工程を、適切かつ簡便におこなうための感光性樹脂版用露光装置、及び該装置により製版された印刷用凸版、該印刷用凸版を用いて製造された有機EL素子を提供する。
【解決手段】耐圧性の密閉容器の内部に、波長が200〜300nmに光強度のピークを持つ光源及び300〜400nmに光強度のピークを持つ光源を有し、かつ、前記密閉容器内部を減圧にするための真空ポンプと、不活性ガス供給手段と、前記密閉容器内部を不活性ガスに置換する手段と、を少なくとも有することを特徴とする感光性樹脂版用露光装置である。 (もっと読む)


【課題】 精度が高く、露光時間も短縮できる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光テーブル1を上昇させ、フィルムマスク2と基板90を接触させ、密閉空間40を形成し、減圧ポンプ60により減圧し、フィルムマスク2と基板90の1次密着を行う。次に導入孔52から1kpa以上20kpa以下の範囲の加圧空気を導入し、フィルムマスク2とガラス30の間に加圧空間25を形成し、フィルムマスク2と基板90を更に密着させ、2次密着を行う。1次密着で、フィルムマスク2と基板90は既に密着した状態であるため、導入孔52からの空気の導入量は微少で良く、加圧による膨出量も微少であり、短時間で導入が完了し、フィルムマスク2の膨張による変形などの弊害がない。 (もっと読む)


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