【課題】位置決め対象物を一台の駆動装置により互いに直交する二方向、例えば、水平方向と垂直方向とのそれぞれに移動させて位置決めすることができる位置決め装置を提供すること。
【解決手段】基台１１に設けられたレール１２の上にそれぞれ摺動可能に立設された第１のスライド部材２１と第２のスライド部材２２、但し、第１のスライド部材には、レールとの係合により第１のスライド部材を一時的に固定することのできる第１の仮固定機構３１が設けられており、また第２のスライド部材には、斜面２２ｃが設けられている；第１のスライド部材の側面２１ｂと第２のスライド部材の斜面２２ｃとにより摺動可能に係合支持された楔状の位置決め対象物支持部材２３、但し、対象物支持部材２３には、上記係合支持を一時的に固定することのできる第２の仮固定機構３２が設けられている；そして、第２のスライド部材のレール上での摺動を駆動する駆動部材４１を含む位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。
【解決手段】照明装置６１から、基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの画像を認識する際よりも基板１に塗布されたフォトレジストを透過しにくい波長の照明光をマスク２のアライメントマーク２ａ及び基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａへ照射しながら、焦点位置移動機構により各画像取得装置５１の焦点をマスク２の下面に合わせ、画像処理装置５０により各画像取得装置５１が出力した画像信号を処理して、マスク２のアライメントマーク２ａの画像認識を行う。 （もっと読む）

【課題】基板又はマスクとセンサとの間隔の変動が生じたり、光路の光軸ずれが生じても、基板とマスクとのアライメントを高精度でとることができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】基板１上のアライメントマーク５ａ、５ｂと、マスク２上のアライメントマーク６ａ、６ｂとを、長波長光の透過領域３１と短波長光の透過領域３２とを有するフィルタを通して、カメラのセンサにて検出する。長波長光は焦点距離が長く、短波長光は焦点距離が短いので、アライメントマーク５ａ、５ｂの反射光の中の長波長光と、アライメントマーク６ａ、６ｂの反射光の中の短波長光とは、同時にカメラのセンサに結像し、同時に観察できる。そして、アライメントマーク５ａ、５ｂの中点と、アライメントマーク６ａ、６ｂの中点とが一致するように、基板１とマスク２とのアライメントをとる。 （もっと読む）

【課題】センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】制御装置２１は、前回のプリアライメント時に検出された基板ステージ１６と基板Ｗとのズレ量Ｅ１、Ｅ２に基づいて算出した補正値をプリアライメント制御レシピＲ１に書き込むと共に、露光装置１３における前回の基板ＷとマスクＭとのアライメント調整時に検出された基板ＷとマスクＭとのズレ量ｅ１、ｅ２に基づいて算出した補正値を露光制御レシピＲ２に書き込む。そして、次回のプリアライメント及び露光の際、プリアライメント制御レシピＲ１及び露光制御レシピＲ２に基づいてプリアライメント装置１２及び露光装置１３を制御する。 （もっと読む）

【課題】 高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板の上に凹部または凸部を有するアライメントマークを含む第１のパターンを形成する工程と、第１のパターンの上に平坦化層を形成する工程と、アライメントマークの上部に形成された平坦化層を除去する工程と、アライメントマークの上部が除去された平坦化層の上に、被加工層を形成する工程と、アライメントマークの位置を被加工層の上部から光を用いて光学的に検出し、位置あわせを行う工程と、位置合わせに基づき被加工層をパターニングしてパターンを形成する工程と、を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】システム全体の生産性を低下させず、各リソグラフィー装置の維持管理コストを削減し、特性及び精度を均一にする。
【解決手段】少なくとも２台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置に対して基板若しくは原版を搬送する搬送ユニットと、リソグラフィー装置と搬送ユニットとの動作を制御する制御モジュールとを備えるリソグラフィーシステムであって、少なくとも２台のリソグラフィー装置のいずれかが調整処理を実施する場合、制御モジュールは、調整処理を実施する際の基準となる基準部材を少なくとも２台のリソグラフィー装置で共用し、搬送ユニットにより、基準部材をリソグラフィー装置に対して搬送させる（ステップＳ５０９）。 （もっと読む）

【課題】 描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベースプレート２４の主走査方向の位置情報を検出するための移動位置検出手段７０と、主走査方向に移動するベースプレート２４が所定の位置を通過したことを検出するための通過検出手段４０が配設されている。通過検出手段４０で検出される通過位置情報と、通過検出手段４０でベースプレート２４が特定の位置を通過したことが検出された時に移動位置検出手段７０で検出される測定位置情報とから、移動位置検出手段７０の検出に係る位置情報の遅れを補正するための補正量を算出し、補正量と測定位置情報とからベースプレート２４の修正位置情報を算出し、修正位置情報に基づいて描画手段３０の描画タイミングの動作を制御し、高精度にパターンを描画することができる。 （もっと読む）

【課題】量産ウェーハの露光に必要なアライメントストラテジーの数にかかわらず、スキャナ当たり単一のスキャナ安定性モジュールを運用できるシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のスキャン機能を制御する方法が開示される。第１のアライメントストラテジーが使用される。モニタウェーハが露光され、スキャン機能に関するベースライン制御パラメータが決定される。ベースライン制御パラメータは、モニタウェーハから周期的に取り出される。ベースライン制御パラメータからパラメータドリフトが決定される。この決定に基づいて修正措置が講じられる。第１のアライメントストラテジーとは異なる第２のアライメントストラテジーが用いられていたならば使用されていたはずの修正に実質的に近くなるように、修正措置が変更される。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において光源を小型化した装置および光源を提供する。
【解決手段】 パターン描画装置１は、複数の描画ユニット４を備え、これらが有する光源部３０をパッケージＬＥＤ３１１を用いて小型化する。パッケージＬＥＤ３１１の発光部であるＬＥＤベアチップ３１５を同じ姿勢で、かつ等間隔に配置するためにアライメントシート３１９を用いることで、複数のパッケージＬＥＤ３１１を高精度かつ容易に電極基板３１３に一括実装することができる。これにより、安価であるパッケージＬＥＤ３１１を利用することができ、コストの削減ができるとともに、光源を小型化したパターン描画装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１マスク（Ｍ１）を保持して第１の向き（＋Ｙ方向）に移動する第１ステージ（ＭＳ１）、及び第２マスク（Ｍ２）を保持して第２の向き（−Ｙ方向）に移動する第２ステージ（ＭＳ２）を有するステージ機構と、第１マスク上に第１照明領域（ＩＲ１）を形成する第１照明系（ＩＬ１）、及び第２マスク上に第２照明領域（ＩＲ２）を形成する第２照明系（ＩＬ２）を有する照明光学系と、第１照明領域内のパターンの倒立像を第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系（Ｇ１，Ｇ３）、及び第２照明領域内のパターンの正立像を第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系（Ｇ２，Ｇ３）を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスク描画装置内でレチクル中心に対するパターン中心のズレを測定し、レチクル原版位置を修正することができ、レチクルの精度と収率の向上を図ることができる基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供する。
【解決手段】それぞれアクチュエータを内蔵し基板を押し当てることによって基板の位置決めを行う複数の位置決め手段（位置決めピン）と、アクチュエータを制御して、基板の位置決めする制御ユニットと、を備えることを特徴とする基板位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】レンズアレイのレンズの位置決めを正確に行なうことを可能とする技術を提供する。
【解決手段】レンズＬＳと、レンズが配設された面からレンズＬＳより低い第１の高さｈ1を有する第１の凸部ＰＪ1、ＰＪ1と、レンズＬＳが配設された面から第１の高さｈ1と異なる第２の高さｈ2を有する第２の凸部ＰＪ2、ＰＪ2とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに対する着色画素の位置ズレを算出するバーニアで、顕微鏡の焦点深度に影響されず、測定用マークのフリンジ部に影響されず精度よく、安定して位置ズレを算出するバーニア、及び露光位置の測定方法を提供する。
【解決手段】１）バーニアＶ２は、第一測定用マークＭ１１と第二測定用マークＭ１２で構成され、２）第一測定用マークは、遮光部Ｓと第一開口部Ｋａ−Ａと第二開口部Ｋａ−Ｂからなり、第二測定用マークは、遮光部上に形成されており、３）第二測定用マークの重心Ｄは、第一開口部の重心Ａと第二開口部の重心Ｂを結ぶ直線を底辺とする二等辺三角形又は直角二等辺三角形の頂点Ｃに位置すること。バーニアから一定距離離れた位置に、測定に用いる顕微鏡を移動させるためのターゲットマークＴＭを備えていること。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム描画装置にステージ２の位置を測定するために設けるレーザー測長計５_１，５_２の光軸位置を、光軸が荷電粒子ビームのビーム中心に交差するように能率良く行い得られるようにする。
【解決手段】ステージ２に、所定位置のポイント６４ａを示すマーカー部６４と、ポイント６４ａを通るＸ、Ｙの各方向の線上に各レーザー測長計５_１，５_２のレーザー光の光軸が位置したときにレーザー光が入射される各ターゲット部６６_１，６６_２とを形成した調整治具６を固定する。ポイント６４ａがビーム中心に合致するようにステージ２を位置調整した後、各レーザー測長計５_１，５_２のレーザー光が各ターゲット部６６_１，６６_２に入射されるように、各レーザー測長計５_１，５_２の光軸位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計の計測値と環境パラメータとに基づいてステージと光照射部との相対位置を制御しつつ、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止し、かつ、パターン描画装置の処理速度の低下も防止できるパターン描画装置および位置制御方法を提供する。
【解決手段】パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。これにより、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止することができる。また、位置ずれの発生を防止するために環境パラメータの計測頻度を高める必要はないので、パターン描画装置の生産速度の低下を招くこともない。 （もっと読む）

【課題】基板の生産ラインの直行率を良好にする。
【解決手段】全てのマーク４２ａ〜ｄより少ない個数のマーク４２が検出された場合（１１６でＮ）に、検出されたマーク４２の位置に基づいて、全てのマーク４２ａ〜ｄが検出されるように基板Ｐとカメラ１８ａ、１８ｂとの位置関係を補正するための補正量を演算し（１３６）、演算された補正量に基づいて、カメラ１８ａ、１８ｂによって全てのマークが検出されるように、基板Ｐとカメラ１８ａ、１８ｂとの位置関係を補正する（１３８）。 （もっと読む）

【課題】面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも第1の基板搬送手段１０と、第２の基板搬送手段２０と、基板受け取りステージ３０と、アライメント手段と、基板待機部４０と、露光部５０と、基板搬出部６０と、制御手段７０と、を具備している露光装置である。 （もっと読む）

【課題】装置を大型化することなく、マスクのプリアライメントが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクＭを保持するマスク保持部７１と、マスクＭを交換すべく、マスクＭを搬入又は搬出するための受け渡し位置ＷＰと、マスク保持部７１の下面と対向する交換位置ＣＰとの間を移動可能なマスクトレー部１２１を有するマスクチェンジャー１２０と、受け渡し位置ＷＰの上方に設けられ、マスクトレー部１２１に載置されたマスクＭのプリアライメントを行うマスクプリアライメント駆動部１４２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】互いに連結されるメインベッドとサブベッドへの位置検出装置の組付け・調整作業が容易で、製造工程を簡素化して、コスト低減を図ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、ベッド１３に対する基板ステージ１５の位置を検出する位置検出装置５０を備える。位置検出装置５０は、ベッド１３に対する位置情報を有し、基板ステージ１５の移動方向に沿ってメインベッド１１及びサブベッド１２毎に配置される複数のリニアスケール５１，５２と、基板ステージ１５の移動方向に離間して基板ステージ１５に固定され、リニアスケール５１，５２の位置情報をそれぞれ検出可能な第１及び第２のセンサヘッド５３，５４と、を備え、第１及び第２のセンサヘッド５３，５４の少なくとも一方によってベッド１３に対する基板ステージ１５の位置を常時検出する。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置を測定するための干渉計等の位置測定装置を用いることなく、基板を的確な位置に位置づけることができる投影露光装置及び投影露光方法を提供する。
【解決手段】基準基板に形成された基準基板基準マークの位置に基づいて、載置台の位置の誤差を補正するための載置台位置補正データを演算し、載置台位置補正データと、露光基板に形成された露光基板基準マークの位置とに基づいて、露光基板基準マークの位置の線形成分の誤差を補正するための線形誤差補正データを、最小二乗法を用いて演算する。 （もっと読む）