【課題】焦点位置の位置合わせの不要な光学情報伝達素子を提供する。
【解決手段】光学情報伝達素子１０１は光学情報を入力面から出力面に伝達する。光学情報伝達素子１０１は光学異方性を有する部材により形成される。入力面と出力面とを結ぶ少なくとも一つの直線が、光学異方性を有する部材の等周波曲面の原点を通る任意の断面による曲線において位相速度が最大となる方向に揃えられる。 （もっと読む）

【課題】高密度波長多重通信システムの光ファイバ伝送路にインライン型としても設置可能で、複数の波長チャネルを一括して補償し、各波長チャネルの分散補償残差をより小さくすることが可能な小型の光分散補償素子及びその設計方法を提供する。
【解決手段】該光分散補償素子の群遅延スペクトルは、該システムにおいて光信号の伝送を意図する波長である複数の波長チャネルのそれぞれにおいて所定のチャネル帯域幅の範囲で分散補償を意図する群遅延時間を有する複数の分散補償波長チャネル帯域Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆに分割され、前記複数の分散補償波長チャネル帯域は、チャネル帯域幅がそれぞれ異なり、かつ、前記複数の分散補償波長チャネル帯域は、ｐｓ／ｎｍを単位として表した分散補償量と、ｎｍを単位として表したチャネル帯域幅との積が、略同一である。 （もっと読む）

【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、コア層１３を有する。コア層１３は、少なくとも２つのクラッド部１５と、２つのクラッド部１５に隣接して設けられ、クラッド部１５の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部１５に向かって低くなっており、光を伝送するコア部１４とを備え、シリコーン系ポリマーと、このシリコーン系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部１４とし、他方をクラッド部１５としてなる。 （もっと読む）

【課題】ギャップ部を有する光導波路を、低損失で外部の光伝送体（光ファイバ等）に接続することができる光導波路素子を提供する。
【解決手段】光を導波する高屈折率領域６と、高屈折率領域６より屈折率が低いギャップ部５とを有するコア部４を備えた光導波路素子１０。ギャップ部５は、光の導波方向に沿って形成され、高屈折率領域６を幅方向に２つの部分領域６ａ、６ｂに分離する。コア部４は、導波方向の先端１２ａに向かって部分領域６ａ、６ｂの幅が狭くなる主テーパ部１２を有する。 （もっと読む）

【課題】加工ばらつきを低減できるようにし、加工ばらつきに起因する過剰損失の値のばらつきを小さくして、歩留まりの向上を図る。
【解決手段】基板２０上に３本以上の光導波路が形成され、それら光導波路は端部が集合連結されて光回路の分岐部もしくは交叉部が構成されている光導波路素子において、光導波路コアの端部が集合連結している連結部２４の光導波路コア厚を、連結部２４以外の光導波路コア厚より薄くし、各光導波路のコア厚を連結部２４において最小となるように各光導波路に沿って連続的に変化させる。連結部２４を薄くした分、シングルモードを保つ最大幅は広くなり、よって連結部２４の光導波路コア幅を従来に比し、広くすることができ、加工が容易となる。 （もっと読む）

【課題】用いる材料の制限を緩和して、導波路における複屈折の制御がより簡便に行えるようにする。
【解決手段】コア１０２が、低屈折率コア層１２１および低屈折率コア層１２３と、低屈折率コア層１２１および低屈折率コア層１２３に挟まれて配置され、低屈折率コア層１２１および低屈折率コア層１２３より屈折率の高い高屈折率コア層１２２とから構成されている。コア１０２は、低屈折率コア層１２１，高屈折率コア層１２２，および低屈折率コア層１２３が、この順に積層されて構成されている。 （もっと読む）

【課題】膜の密度に分布を有し、屈折率分布を有する螺旋型ポリアセチレンの膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】主鎖が螺旋構造を有する螺旋型ポリアセチレンの膜の製造方法であって、主鎖の螺旋構造が右巻きの螺旋型ポリアセチレンと、主鎖の螺旋構造が左巻きの螺旋型ポリアセチレンとを混合した後、成膜して屈折率分布を有する螺旋型ポリアセチレンの膜を得る工程を有する螺旋型ポリアセチレンの膜の製造方法。上記の螺旋型ポリアセチレンの膜の製造方法により得られた屈折率分布を有する螺旋型ポリアセチレンの膜。 （もっと読む）

【課題】波長特性が広帯域で可変である波長可変光フィルタ、および広帯域でレーザ光の波長が可変である波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】コア部を有するマルチモード干渉型導波路部と、前記マルチモード干渉型導波路部の長さ方向の一端に設けられた第１光入出力部と、前記マルチモード干渉型導波路部の他の一端に設けられた第２光入出力部とを有し、前記マルチモード干渉型導波路部は前記第１光入出力部から入力し第２光入出力部から出力する光に対して損失波長特性を有する光フィルタ部と、前記マルチモード干渉型導波路部のコア部の側部に設けられた、該コア部よりも屈折率または等価屈折率が低い側部クラッド部と、前記側部クラッド部の屈折率または等価屈折率を変化させる屈折率調整機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電圧を印加することにより屈折率が可変な半導体コア領域と屈折率が可変ではないコア領域との接続部において、屈折率が可変な半導体コア領域から屈折率が可変ではないコア領域を経由した不要なリーク電流を低減することが可能な光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子ＷＧ１のコア１は、第１導電型の第１半導体コア領域３２と、第１半導体コア領域３２とギャップ部４０を挟んで対向配置された第２導電型の第２半導体コア領域３３と、第１半導体コア領域３２と光の導波方向において隣接する第２導電型又は無極性の第３半導体コア領域２２と、第２半導体コア領域３３と光の導波方向において隣接し、第３半導体コア領域２２とギャップ部４０を挟んで対向配置された第１導電型又は無極性の第４半導体コア領域２３と、を部分領域として含み、第１半導体コア領域３２と第２半導体コア領域３３とに電極が接続されている。 （もっと読む）

光導波路のコアが、凸部と凹部とを交互に有するグレーティング構造を有し、前記凹部におけるコアの幅が不均一である基板型光導波路デバイスの製造方法であって、高屈折率材料層を形成する高屈折率材料層形成工程と、前記高屈折率材料層の上に、フォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、位相シフト型のフォトマスクを用いて、遮光領域を前記フォトレジスト層上に形成する第１の露光工程と、バイナリ型のフォトマスクを用いて、遮光領域を前記フォトレジスト層上に形成する第２の露光工程と、前記フォトレジスト層を現像する現像工程と、前記現像工程により得られたフォトレジストパターンを用いて前記高屈折率材料層をエッチングするエッチング工程と、を有する基板型光導波路デバイスの製造方法。
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光学素子は、全反射により光子の方向を変えて伝播させる方向変換部を構成する第１の多層領域を備える。各多層領域は、第１の実屈折率ｎ₁及び第１の吸収係数β₁を有する高屈折率材料層と、第２の実屈折率ｎ₂及び第２の吸収係数β₂を有する低屈折率材料層と、上記高屈折率材料層と上記低屈折率材料層との間に配設され、第３の実屈折率ｎ₃及び第３の吸収係数β₃をｎ₁＞ｎ₃＞ｎ₂の関係で有するグレーディング層を備えたグレーディング領域とを含む。
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【課題】 高圧縮率で高効率のモード変換を行うことができ、且つ小型で作製も容易な光結合デバイスを提供する。
【解決手段】 光ファイバや空間中を伝播する光信号を光導波路デバイスに結合させる光結合デバイスであって、基板１０上に一方向に沿って設けられ、一端側に対し他端側の幅が絞り込まれた下部導波層２０と、基板１０上に一方向に沿って設けられ、下部導波層２０の他端と接続された光導波路４０と、下部導波層２０上に一方向に沿って設けられ、一端を下部導波層２０の一端と揃えて形成され、一端側に対し他端側の幅が絞り込まれ、且つ一方向に沿った側面の該方向に対する傾斜角が一端側で大きく他端側で小さい上部導波層３０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高効率で、素子サイズが小さく高密度集積が可能で安価に大量生産でき、形成の制御性に優れ、電子デバイスとの融合性に優れた光量子状態制御素子を提供する。
【解決手段】光量子状態制御素子は、光伝播方向と垂直な断面が矩形である光導入用の第一コア３１と、第一コア３１と間隙を隔てて配置された光干渉共鳴部を構成する第二コア３３と、第二コア３３と間隙を隔てて配置された光干渉共鳴部を構成する第三コア３４と、第三コア３４と間隙を隔てて配置され、光伝播方向と垂直な断面が矩形である、第三コア３４からの光導出用の第四コア３２と、第一コア３１、第二コア３３、第三コア３４および第四コア３２を覆うクラッドとを備える。第二コア３３と第三コア３４とは、共鳴波長に対してウィスパーリングギャラリーモード条件を満たし、かつ円の直径が異なる。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能なシリコン細線光導波路で構成した光波長フィルタを、作製が容易な構造で挿入損失を小さくできるようにする。
【解決手段】入力導波路１０１入力した光を偏波分離素子１０２で光Ａおよび光Ｂに分離し、光Ａの偏波面を偏波回転素子１０５で９０°回転させ、光Ｂおよび偏波面が回転した光Ａを、ろ波素子１０７に各々対向する方向から入射してろ波し、ろ波素子１０７を出力した光Ｂの偏波面を偏波回転素子１０９で９０°回転させ、光Ａおよび偏波面が回転した光Ｂを偏波合成素子１１４で合波する。 （もっと読む）

【課題】加工ばらつきを低減できるようにし、加工ばらつきに起因する過剰損失の値のばらつきを小さくして、歩留まりの向上を図る。
【解決手段】基板２０上に３本以上の光導波路が形成され、それら光導波路は端部が集合連結されて光回路の分岐部もしくは交叉部が構成されている光導波路素子において、光導波路コア２１〜２３の端部が集合連結している連結部２４の光導波路コア厚を、連結部２４以外の光導波路コア厚より薄くする。薄くした分、シングルモードを保つ最大幅は広くなり、よって連結部２４の光導波路コア幅を従来に比し、広くすることができ、加工が容易となる。 （もっと読む）

【課題】光損失が低いポリマ導波路を有する光電複合基板を提供する。
【解決手段】コア１とクラッド２からなるポリマ導波路３を基板４に設けて形成される光電複合基板に関する。ポリマ導波路３のコア１は、コア１の一端から光を入射させると共にコア１の他端から光を出射させた際に、出射した光の強度分布が、コア１の中央部で強度が高く、クラッド２との界面の少なくとも一部で強度が低くなるように形成されている。コア１内を伝搬される光のうち、クラッド２との界面付近を通過する光の量が少なくなり、コア１の表面に荒れがあっても、コア１とクラッド２の界面で散乱してクラッド２へと逃げる光の量が少なくなって、光損失を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】座屈による光学特性の劣化を抑制することのできる光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板と、シリコン基板と一体的に形成され、シリコン基板の上面に立設されたシリコン酸化物からなる少なくとも１つの柱構造体とを備え、柱構造体に光を透過させるようにした光学素子であって、柱構造体の形状を、柱構造体の長手方向の両端部を結んでなる仮想直線に対して少なくとも一方に凸の連続した曲線形状とした。 （もっと読む）

【課題】基板間距離が異なる導波路層間の結合を低損失に、製造トレランス広く作製できるように、チャンネル数に損失が依存しない低損失な三次元的な立体交差の導波路回路を実現する。
【解決手段】三次元交差導波路のアドポートである第２の導波路（７０３）は、テーパー構造の第１のコア（４０１）を第３のコア（４０５）内に内包した２重コア構造と、テーパー構造の第２のコア（４０３）を第３のコア上に積層した２重コア構造とを、第１と第２のコアのそれぞれのテーパーの先端が離れて対向するように配置し、かつテーパーの先端間を第３のコアで接続している。第１のコアの導波路を伝搬した光のモードフィールドが断熱的に変換されて、中間層となる第３のコアを介して、第２のコアの導波路に伝搬する。第２の導波路のコアはパススルーポートである第１の導波路（７０１）のコアの上層で交差する。この構成により過剰損失（交差損失）が顕著に低減する。 （もっと読む）

【課題】所定の屈折率の補填材を用いて光路変換手段を形成することにより、反射面の劣化や強度低下のない信頼性の高い光回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光回路基板１００では、光路変換手段１３０が第１の反射面１３１と第２の反射面１３２の２つの反射面を有するよう形成されている。反射面を２つ有するように光路変換手段１３０を形成することで、コア１２１の光軸を２回に分けて変換させるようにしている。光路変換手段１３０は、光導波路１２０と異なる屈折率を有する補填材１３３を用いて形成しており、第１の反射面１３１及び第２の反射面１３２は、光導波路１２０と補填材１３３との界面で形成されている。 （もっと読む）

本発明は集積化光通信装置であって、第III族―第Ｖ族半導体で組み立てられかつ１のエピタキシャル成長の連続稼動で成長した多導波鉛直集積化構造で実行可能なものを記述し、該装置は、前記共通受動的導波路を共通または双方向に伝播する光信号の複数の鉛直方向に集積化された受動的または能動的波長指定導波路への鉛直かつ横方向の分岐を可能にし、したがって、前記波長指定導波路が異なる波長で作動して一体的に前記同一の基体に集積化されかつ共用された受動的導波路に接続される。本発明の典型的な実施の形態において、２つの能動的波長指定導波路、その各々はレーザまたは光検出器、が鉛直方向に集積化されて両方の作動波長によって共用される入力／出力光ポートと前記共通受動的導波路が接続されて、単一のファイバ、２波長受光器（両方の波長指定導波路は導波光検出器）または送信器（両方の波長指定導波路は端部放射半導体注入レーザ）またはトランシーバ（１の波長指定導波路は導波光検出器及び他の端部放射半導体注入レーザ）を形成する。先行技術に対して都合が良いことには、前記提案された鉛直方向の分岐及び横方向の経路の設定は削減した設置面積を可能にする一方、大いに設計の柔軟性および／または装置の動作を改善する。
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