説明

Fターム[2H147BC05]の内容

光集積回路 (45,729) | 導波路長手方向の周期構造 (344) | 導波路型格子、ホログラム (167)

Fターム[2H147BC05]の下位に属するFターム

Fターム[2H147BC05]に分類される特許

101 - 120 / 139


ピクセル領域を特徴づける少なくとも2つのカラーチャネルにそれぞれ相当する少なくとも2つのサブピクセル位置によってそれぞれ規定される複数のピクセル領域を有するパッシブディスプレイパネルに照明光をパッシブディスプレイパネルに与えるためのバックライト集成体であって、バックライト集成体は複数の導波路を含み、それらは1つ以上の基板において形成されかつ/または埋め込まれ、各ピクセル領域が少なくとも2つの導波路によって照明されるような方法で照明光を各サブピクセル位置に与えるように配置され、前記少なくとも2つの導波路の各導波路はそれぞれのカラーチャネルによって前記ピクセル領域の1つのサブピクセル位置を照明するように配置される。 (もっと読む)


本発明は、生体分子を検出するためのバイオセンサとして用いられる、薄い透明ポリマー導波路でコーティングされた透明ポリマー基板で作られた、エバネッセント場を誘起する光センサに関する。透明ポリマー導波路の屈折率nは1.4から1.79で、前記透明ポリマー導波路は、結合回折格子凹部構造を有することで、光波と結合する。前記透明ポリマー導波路の下側面は透明ポリマー基板と接触する。前記透明ポリマー基板の屈折率nは1.29から1.69である。前記透明ポリマー基板の外側上部表面すなわち光センサの外側上部表面は、少なくとも1の特定化学物質を検出するための特定結合化合物を有する。
(もっと読む)


適用分野:光学。電子光学材料から構成され、あるいはさらなる層に埋め込まれたブラッグ位相格子(3)を備える光学素子。ブラッグ位相格子(3)は、光の伝搬に沿って周期的に適用された導波路(2)表面の一連の凸部(6)および凹部(7)として設計され、補償材料(8)の層および電気絶縁(9)材料の層で覆われている。位相格子(3)に、空間的に一様でない非周期の外部電界を生成する手段が備えられている。
(もっと読む)


【課題】構造深さの小さい平坦なレリーフ構造を精密にかつ再現性よく製造できる無機回折素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板を、エッチングすべきでない領域を保護し、エッチング剤に対して耐性を有しかつ形成しようとするレリーフ構造に相応するマスクで被覆し、続いて、目的とするレリーフ構造をエッチング法によって基板内のマスクによって被覆されない領域に形成し、さらに、必要であれば、マスクを除去することを有し、この際、異なるエッチング挙動を有する2つの異なる材料間の、エッチング止めとして用いられる、境界領域を、基板表面からの所定の距離での所定のエッチング深さが目的とする構造深さと一致するように、マスクを塗布する前に、基板に形成するエッチングによるガラス製の無機回折素子の製造方法において、該境界領域を形成するために、エッチング止め被膜及びレリーフ構造の構造深さに相当する厚みを有するような構造を有する構造化被膜を有する基板が形成されることを特徴とする、製造方法。 (もっと読む)


【課題】厚膜形成性、硬化性、等に優れた重合体を作製可能とする新規なアルキルベンゼン誘導体、ならびにそれを用いた光導波路の提供。
【解決手段】オキセタン環を有すビス(ヒドロキシフェニル)アルキルベンゼン誘導体。
(もっと読む)


【課題】厚膜形成性,硬化性,耐熱性等に優れた重合体を作製可能とする新規なトリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】新規なトリスオキセタンエーテル化合物である。フェノール類を、セシウム塩によりセシウムフェノラート化し、スルホン酸エステルと反応させて、上記トリスオキセタンエーテル化合物を製造する。さらに、基板1と、その基板1上に形成されたクラッド層2とを備え、上記クラッド層2中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部3が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層2およびコア部3の少なくとも一方が、上記トリスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 (もっと読む)


【課題】厚膜形成性,硬化性,耐熱性等に優れた重合体を作製可能とする新規なオキセタン化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】オキセタン環を有するトリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリ(アルキルベンゼン)誘導体である。該化合物はフェノール類を、セシウム塩によりセシウムフェノラート化し、スルホン酸エステルと反応させて、上記特殊な誘導体を製造する。さらに、基板と、その基板上に形成されたクラッド層とを備え、上記クラッド層中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層およびコア部の少なくとも一方が、上記特殊な誘導体を含有する樹脂組成物によって形成されている。 (もっと読む)


【課題】 再生時の記録情報の再現性を向上させることが可能な光メモリを提供する。
【解決手段】 光メモリ10は、光導波路17が複数個積層されて構成されている。この光導波路17は、樹脂製のコア層13と、このコア層13の上下に積層された樹脂製のクラッド層14とからなり、コア層13とクラッド層14との一方の界面には、情報再生用の凹凸部が形成されている。また、コア層13及びクラッド層14は、紫外線硬化樹脂で形成されている。また、コア層13に用いられる紫外線硬化樹脂は、硬化収縮率が6%以下にされている。このため、紫外線を照射して硬化させた時に、コア層に発生する膜厚変動が抑制されるので、記録情報再生時のBERを低くすることができ、記録情報の再現性が向上する。 (もっと読む)


【課題】 再生時の記録情報の再現性を向上させることが可能な光メモリを提供する。
【解決手段】 光メモリ10は、光導波路17が複数個積層されて構成されている。この光導波路17は、樹脂製のコア層13と、このコア層13の上下に積層された樹脂製のクラッド層14とからなり、コア層13とクラッド層14との一方の界面には、情報再生用の凹凸部が形成されている。また、コア層13には、紫外線硬化樹脂であるコア材が用いられ、クラッド層14には、樹脂製硬化樹脂であるクラッド材が用いられている。また、コア層13の膜厚変動量が100nm以下にされており、記録情報再生時のBERを低くすることができ、記録情報の再現性が向上する。 (もっと読む)


【課題】 種々の目的に使用できる新規なバンドル構造体を提供する。
【解決手段】 基板1からなる型と基板4の間に紫外線硬化型樹脂5を挟み、基板4を通して紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂5を硬化させる(d)。樹脂の厚みおよびXYの位置決め機構を有する装置を用いて成形(ナノプリント)を行うことで、樹脂層の厚み、位置を精密にコントロールしながら成形し、紫外線照射することで硬化させる。型の凹部のアスペクト比を10以上にしておくと、樹脂の硬化後、基板1からなる型を剥離させたとき、その剥離の際に、紫外線硬化型樹脂5の柱状部の先端が互いにくっついてバンドル構造6が形成される。(e)。 (もっと読む)


【課題】従来よりも構成部品数を増加させることなく、小型であり、およびレンズを有さない構造とする。
【解決手段】 チャネル型導波路14と、チャネル型導波路と光結合可能に配置された平面導波路16と、チャネル型導波路に対して、平面導波路を挟んで備えられ、光を、波長選択された波長選択光として、チャネル型導波路へと帰還させる反射型回折格子18と、を備える。格子面28は、入射角が大きくなるにつれて、光の光路長が長くなるように設けられている。チャネル型導波路と平面導波路の屈折率差を変更することで入射角を変更する構成とされている。 (もっと読む)


【課題】透明性を維持したままCTEを低減して温度サイクル性等の信頼性が向上した、光伝送に用いられる光導波路の形成や受発光素子用封止材として好適に用いられるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、カチオン重合開始剤、水酸基を有するエポキシ化ポリブタジエン、無機フィラーを含有する。無機フィラーは、樹脂硬化物との屈折率差が0.01以下で且つ平均粒子径0.5μm以下である。水酸基を有するエポキシ化ポリブタジエンはカチオン硬化系における連鎖移動効果を有し、重合速度を著しく高めることができる上に、硬化物の吸湿性や耐熱性を悪化させにくくなり、更に、透明性を維持できる。また、無機フィラーにより硬化物の透明性を阻害することなく線膨張係数を低減できる。このエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂フィルム1、光導波路、光・電気混載配線基板の作製や、電子デバイスにおける封止材として好適に使用できる。 (もっと読む)


【課題】多層ホログラム情報記録媒体などの記録素子を構成する多層光導波路を効率的かつ高収率に作製することができ、しかも出来上がった製品における反りや収縮を低く抑えることのできる平面型光導波路作製用樹脂シートを提供する。
【解決手段】硬化することによって平面型光導波路のクラッド層もしくはコア層を構成することのできる接着性樹脂層が剥離フィルム上に形成されてなり、硬化収縮率が5%未満である樹脂シートを平面型光導波路作製用樹脂シートとして用いる。 (もっと読む)


【課題】多層光導波路を効率的かつ高収率に作製することができる平面型光導波路作製用接着性樹脂シートを提供する。
【解決手段】硬化することによって平面型光導波路のクラッド層もしくはコア層を構成することのできる接着性樹脂層が剥離フィルム上に形成されてなるシートか、クラッド層およびコア層を構成する互いに屈折率が異なる2層の接着性樹脂層が剥離フィルム上に形成されてなるシートを、平面型光導波路作製用樹脂シートとして、用いる。この平面型光導波路作成用樹脂シートを用いて、多層平面型光導波路および高記録密度を持つ光記録素子を効率的かつ高収率に作製する。 (もっと読む)


光学検出器を製造する方法において、光学導波器が形成された基板であって、マイクロエレクトロニック回路を製造するための表面を有する基板を用意するステップと、上記基板にマイクロエレクトロニック回路を製造するステップであって、上記製造が複数の逐次プロセス段階を含むようなステップと、上記複数の逐次プロセス段階の選択された1つが行われた後であって、且つ上記複数のプロセス段階の上記選択された1つの後の、次のプロセス段階が開始する前に、上記光学導波器内に光学検出器を製造するステップと、上記導波器内に上記光学検出器を製造した後に、上記マイクロエレクトロニック回路を製造するための上記複数の逐次プロセス段階を完了するステップと、を備えた方法。 (もっと読む)


【課題】 樹脂膜の表面を乱れなく平坦にすることが可能な樹脂膜形成方法、及び光メモリの製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板21上にフイルム15aを接着させた後、コア層用の塗布ヘッド42aをガラス基板21の中央に移動させる。塗布ステージ41を回転させた状態で、塗布ヘッド42aによって、フイルム15a上にコア材を滴下して塗布膜13aを形成する。その後、ガラス基板21を塗布ステージ41上に固定したままの状態で、紫外線照射装置43によって、塗布膜13aに紫外線を照射する。この時、紫外線照射装置43に対して、塗布ステージ41を左右に往復移動させながら紫外線を照射する。これにより、塗布膜13aに対して均一に紫外線が照射されて、塗布膜13が硬化してコア層13が形成される。 (もっと読む)


【課題】基地局側の光送信器の製作費用を低減し、またインストール空間を節約して低費用の波長分割多重方式の受身型の光加入者網の基地局側の光送信器及びその製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、平面導波路上に波長分割多重化器が集積される波長分割多重化部と、該波長分割多重化部の各出力導波路と接続される導波路上に、少なくとも格子周期が3周期以上に広い高次周期の反射格子が形成された高次周期格子部と、複数個の半導体光素子から構成される半導体光素子部が実装され、前記半導体光素子部の出力が光導波路を介して前記高次周期格子部の各導波路と接続され、外部共振器レーザを構成する半導体光素子プラットホーム部を含み、前記波長分割多重化部、高次周期格子部及び前記半導体光素子プラットホーム部は、同一チップ上に平面光導波路ハイブリッド実装され、前記波長分割多重化部の波長分割多重化器の一側出力導波路に光出力用の光ファイバが付着される。 (もっと読む)


【課題】光ファイバに容易に結合できる光共振器を提供する。
【解決手段】光共振器は、微小円筒と、光源光ファイバ200からの光を微小円筒に光学的に結合し、且つ、微小円筒の表面上に形成されて微小円筒に沿う光伝搬を低速化する螺旋状共振導波管とを含む。結合素子206、例えば、回折格子が、共振導波管構造と協働可能であり、所望の位相整合を満足するよう構成される。その上に形成された螺旋状共振導波管204を有する第二微小円筒204aを、第一微小円筒202a上に形成された螺旋状共振導波管202との結合のために、それに隣接して位置付けする。 (もっと読む)


本発明は、光ファイバーの感光性を増大させることに関する。本発明の一態様は、光ファイバーの屈折率変化を引き起こすべく低い全水素含有率を有するガス混合物から光ファイバー中に水素またはジュウテリウムを迅速に拡散させるための方法を含む。得られる感光性ファイバーは、ブラッググレーティングやブラッググレーティングに基づくデバイスなどの光デバイスの作製に使用可能である。
(もっと読む)


【課題】 コア層とクラッド層との界面の平坦性を高め、記録情報の再現性を向上させる。
【解決手段】 コア層13aの上に、紫外線硬化樹脂を塗布してクラッド層14を形成した後、情報用凹凸部16に対応した凹凸パターンを有する樹脂スタンパ23を表面に貼り合せた状態で紫外線照射を行い、クラッド層14を硬化させる。クラッド層14が硬化した後、樹脂スタンパ23を剥離すると、クラッド層14に情報用凹凸部16が転写される。次いで、クラッド層14の上に、紫外線硬化樹脂を塗布してコア層13を形成した後、樹脂フイルムなどの平滑な面を有する平滑基体22をコア層13の表面に貼り付け、この状態で紫外線照射を行い、コア層13を硬化させる。コア層13が硬化した後、平滑基体22を剥離すると、コア層13の表面が平坦化される。この後、上記方法によってコア層13の上にクラッド層14を形成する。 (もっと読む)


101 - 120 / 139