【課題】クラッドによるＸ線の閉じ込め効果を高めることで、高い伝搬効率で位相の揃ったＸ線を導波することが可能なＸ線導波路を提供する。
【解決手段】波長が１ｐｍ以上１００ｎｍ以下のＸ線１５を導波させるためのコア１０とクラッド１１、１２を有するＸ線導波路において、コア１０は、Ｘ線１５の導波方向に垂直な方向において屈折率実部が異なる複数の物質を含む周期構造を有し、コア１０とクラッド１２間に平坦化層１３が設けられており、平坦化層１３とクラッド１２の界面における全反射臨界角は、コア１０の周期性に起因するブラッグ角よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】典型的な２次元フォトニック結晶構造を有する光共振器において、Ｑ値等の性能が十分高い構造を実現する。
【解決手段】光共振器１００は、所定の穴径で一列に一定周期で並んだ結晶穴５を持つ１次元のフォトニック結晶２を利用する。フォトニック結晶部材の厚さを所定の範囲に設定する。光波回路・電子回路において層間分離膜や封止膜としての役割を果たす低屈折率のシリコン酸化膜３，４を使用して１次元フォトニック結晶共振器を埋め込み、必要十分なＱ値を確保できる。前記層間分離膜または封止膜を利用して、フォトニック結晶と光波回路または電子回路とを集積化する。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶の中でより複雑な構造を持つ結晶周期が２次元または３次元の構造に対し、１次元フォトニック結晶は構造が単純で加工が容易である優位点を持つ。しかし、電気駆動を容易にするためにサイドスラブを導入した場合に、高い共振器性能と単純な加工工程とを両立する最適の光共振器の構成は未だ示されていなかった。
【解決手段】本発明に係る光共振器は、内部に低屈折率の材料からなる円柱または多角柱構造を周期的に配置した高屈折率の材料からなる棒状構造の１次元フォトニック結晶（棒状構造体）と、棒状構造体を取り巻く低屈折率の媒体と、高屈折率の材料からなり棒状構造体よりも厚さが薄いサイドスラブとから構成される。円柱または多角柱構造が１次元フォトニック結晶を貫かずに途中で終端され、円柱または多角柱構造の底面高さがサイドスラブの上面高さと製造誤差の範囲で一致している。 （もっと読む）

【課題】製造上の制限に縛られることなくフォトニック結晶層への光閉じ込め係数を向上させることが可能となるフォトニック結晶面発光レーザを提供する。
【解決手段】活性層と、活性層の面に平行な方向に共振モードを有するフォトニック結晶層とを含み構成された導波路を備え、波長λで発振するフォトニック結晶面発光レーザであって、
前記導波路は、活性層の面に平行な方向に導波する波長λの光に対して高次の横モードを示す高次導波モードを少なくとも１つ有し、
前記活性層と前記フォトニック結晶層の間に、隣接する層より屈折率の低い低屈折率層が配置された構成を備え、
前記高次導波モードの光強度分布のピークのうち少なくとも１つを、前記フォトニック結晶層と前記低屈折率層との間に位置させる。 （もっと読む）

【課題】高度に配向制御された同心円状のミクロ相分離構造を有する高分子フォトニック結晶を備える光学素子を簡便で安価な方法で作製可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学素子の製造方法は、互いに対向する板状部材１０の主面１０ａ及び板状部材２０の主面２０ａの間に、高分子ブロック共重合体と、光重合開始剤と、当該高分子ブロック共重合体及び光重合開始剤を可溶な光重合性モノマーとを含有するポリマー溶液を介在させた状態で、主面１０ａ及び主面２０ａに垂直な回転軸Ａ２を中心として板状部材１０及び板状部材２０を相互に逆方向に回転させる配向性付与工程と、配向性付与工程の後、ポリマー溶液に光を照射することにより光重合性モノマーを重合させて、高分子ブロック共重合体のミクロ相分離構造が回転軸Ａ２を中心として同心円状に配向した高分子フォトニック結晶を得る光重合工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線の伝搬損失が少なく、導波モードが位相制御され、酸化による劣化が少なく、作成が容易なＸ線導波路を提供する。
【解決手段】 Ｘ線導波路は、物質の屈折率実部が１以下となる波長帯域のＸ線を導波させるためのコア１０３と、コア１０３にＸ線を閉じ込めるためのクラッド１０１，１０２と、を備える。コア１０３は、屈折率実部が異なる複数の物質を含む１次元周期構造を有する。複数の物質は、有機物または気体または真空と、無機物と、を含む。コア１０３とクラッド１０１，１０２は、コア１０３とクラッド１０１，１０２の界面での全反射臨界角が１次元周期構造の周期性に起因するブラッグ角よりも大きくなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】２ＤＰＣ光共振器を用いた光源装置に関して、高い光取り出し効率を有するとともに集積化に適し、光出力の偏波方向を所望の方向に制御することが可能な、光源装置を提供すること。
【解決手段】デバイス基板と、該デバイス基板上にウエハ接合用接着材料を介して形成された、コアに発光体が導入された２次元フォトニック結晶光共振器、水素化アモルファスシリコン光導波路及び該水素化アモルファスシリコン光導波路を伝搬する光を反射するための反射ミラーとを含む光源装置であって、該２次元フォトニック結晶光共振器が、少なくとも１つの鏡映面を有し、該水素化アモルファスシリコン光導波路が、２次元フォトニック結晶光共振器近傍において、少なくとも１つの鏡映面を有するとともに、２次元フォトニック結晶光共振器、水素化アモルファスシリコン光導波路が、互いの鏡映面が重なり合うように配置されていることを特徴とする光源装置。 （もっと読む）

【課題】
主に量子井戸または量子ドットを用いた光導波路型半導体光源の構造を簡単化し、デバイス表面の微細構造による光波制御を可能とすること。
【解決手段】
基板２０と、前記基板上に形成される下部クラッド層３０と、前記下部クラッド層上に形成され該下部クラッド層の屈折率より高い屈折率を有する活性層４０と、前記活性層上に形成され、前記活性層の屈折率より低い屈折率を有し前記下部クラッド層の層厚に比して薄厚の狭窄層５０と、前記狭窄層上に形成される光制御層６０とを具備し、前記狭窄層中の前記光制御層に対応する箇所の周囲が導通を起こさせない性質を有するように構成される。 （もっと読む）

【課題】従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】光入射部及び／又は光出力部を側面に有する導光板１３２を準備し、導光板１３２の側面に樹脂層１３３を形成するステップと、上面に所定のパターンを有するモールド１３０Ａを準備した後、導光板１３２の側面の樹脂層１３３に対してモールド１３０Ａを押し当てることにより、導光板１３２の側面に周期構造体のパターンを転写するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶を用いた波長板の持つ設計の自由度が高く、耐熱性および耐光性に優れた特長を生かしつつ、製造歩留りを向上させた波長板を得る。
【解決手段】透明基板上に矩形形状からＶ字状の周期凹凸構造を製作する（Ｓ１）。透明基板上にＳｉおよびＴａターゲットを用い、スパッタリングとプラズマによるエッチングを組み合わせて、周期凹凸構造と同一形状の交互に多層膜４のフォトニック結晶を製作する（Ｓ２）。製作したフォトニック液晶波長板の位相差を測定し、調整が必要か否か判定し（Ｓ３）、調整要の場合（Ｓ３のＹｅｓ）、フォトニック液晶波長板のオリエンタルフラットを基準に回転ステージの回転角を測定し基準調整値（Δθｃ）を決定する（Ｓ４）。組み込む光学系の基準に対して、基準調整値を補正値とし、フォトニック結晶波長板を回転調整して切り出し、高精度の位相差の波長板を得る（Ｓ５）。これにより、製造歩留りを向上できる。 （もっと読む）

【課題】伝播光と近接場光とのカップリング効率を向上するとともに集積化に有利な光導波路を提供する。
【解決手段】伝播光導波部と、フォトニック結晶を含む結合部と、表面プラズモン導波部とを有し、前記伝播光導波部、結合部および表面プラズモン導波部が、導波方向に沿って１つの平面内に配置されている光導波路。 （もっと読む）

【課題】２ＤＰＣスラブ構造に代表される薄膜スラブ構造に適した、信頼性の高い電極製造方法を提供する。
【解決手段】光デバイスのコア層となるべき部位を有する第１の基板と光デバイスを集積させるための第２の基板を用意し、第２の基板上の一部に第１の電極配線を形成し、第１及び第２の基板の少なくとも一方の基板上面にＳＯＤを塗布し、第１の基板のコア層となるべき部位が形成された側と第２の基板の第１の電極配線が形成された側とを接合し、接合した基板を加熱し、コア層となるべき部位を残して第１の基板を除去し、コア層となるべき部位に所望の加工を施してコア層とし、コア層上に低屈折率絶縁膜を形成し、コア層上の低屈折率絶縁膜上の一部に第２の電極配線を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、２ＤＰＣスラブ構造に代表される薄膜スラブ構造に対して、信頼性の高い電極製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】光デバイスのコア層となるべき部位を有する第１の基板と光デバイスを集積させるための第２の基板を用意し、コア層上の一部に第１の電極を形成し、第１及び第２の基板の少なくとも一方の基板上面にＳＯＤを塗布し、第１の基板の第１の電極が形成された側と第２の基板とを接合し、接合した第１の基板と第２の基板とを加熱し、コア層及び第１の電極を残して第１の基板を除去し、コア層上の一部に第２の電極を形成し、コア層にエッチングにより複数の溝又は貫通孔を有する構造を形成し、エッチングにより第１の電極の一部を露出し、第１及び第２の電極に接続する電極配線を形成する、光デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構造を用いて、導波路の終端反射を大幅に低減できるフォトニック結晶導波路を提供する。
【解決手段】フォトニック結晶導波路は、格子Ｂが周期的に配列したフォトニック結晶ＰＣと、フォトニック結晶ＰＣ内に線欠陥を導入して構成される導波路１０と、フォトニック結晶ＰＣの界面１１から導波路１０の光軸方向に沿って突出した放射性ガイド２１等で構成され、該光軸方向に垂直な方向に配列した格子数は、導波路１０内部と比べて放射性ガイド２１の方が少なくなるように設計される。 （もっと読む）

【課題】動作の効率が良好なフォトニック結晶を提供する。
【解決手段】屈折率が異なる少なくとも２種の材料を含み、これらの材料が周期的構造を与えるフォトニック結晶。該フォトニック結晶の少なくとも一部に非線形光学材料を含む。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｉの可視光に対する吸収を抑え、Ｓｉ膜とＳｉＯ_２膜とが交互に積層された構造により、可視光に対し高い反射率を有するフォトニック結晶を提供する。
【解決手段】 Ｓｉ膜３とＳｉＯ_２膜２とのペアを複数周期積層した積層構造を有するフォトニック結晶１において、Ｓｉ膜３は、波長４８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の可視光領域における消衰係数が、バルクＳｉ単結晶の消衰係数よりも小さくされる。 （もっと読む）

【課題】 「フォトニックバンドギャップ結晶のパスバンド用反射防止膜」である。
【解決手段】 ストップバンドでの強い反射を保ちつつも、（交互に配置された高屈折率材料と低屈折率材料を有する）フォトニックバンドギャップ（ＰＢＧ）結晶のパスバンドを通過する光の透過率は、最大化される。反射防止膜（ＡＲＣ）は、ＰＢＧ結晶を被覆するために用いられ、ＡＲＣの材料は、ｎ＝（ｎ_ａｉｒ×ｎ_{ｈｉｇｈ−ｉｎｄｅｘ ｍａｔｅｒｉａｌ}）^１／２の屈折率を有し、λ_ｃを中心波長とした場合に、λ_ｃ／８程度の厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】 短時間で製造でき、大面積化が可能で、他の光学素子等との複合が容易な新規な構造を有する光学素子を提供する。
【解決手段】 基板１にレジスト２を塗布し、マスク３を通して露光を行う（ａ）。露光を行った後、現像を行う（ｂ）。このようにして作製されたものをレジスト原盤５と呼ぶ。
透明な光学材料からなる基板６を用意し、レジスト原盤５と基板６の間に紫外線硬化型樹脂４を挟み、基板６を通して紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂４を硬化させる（ｃ）。この際、真空に引きながらナノプリントを行う。これにより、紫外線硬化型樹脂４の柱状部分の中央部に、気泡が入った部分が発生する。 （もっと読む）

【課題】 反射損失の低減が十分に図られるフォトニック結晶導波路を提供する。
【解決手段】 フォトニック結晶導波路１０は、２つの第１の導波路領域２３ａ，２３ｂと１つの第２の導波路領域２４とによって構成される。第１の導波路２３ａ，２３ｂおよび第２の導波路２４には、それぞれ所定の開口径を有する複数の空孔２が形成され、第１の導波路２３ａにおける空孔２ａ〜２ｇは、信号光の進行方向に向かって開口径が徐々に小さくなるように形成され、第１の導波路２３ｂにおける空孔２ｇ〜２ａは、信号光の進行方向に向かって開口径が徐々に大きくなるように形成されている。空孔が形成されない欠陥を信号光の進行方向に沿って線状に配置させることによって、線欠陥導波路６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】構成が簡単であるため容易に作製することができ、小型化が可能な、垂直結合に適した導波路素子を提供する。
【解決手段】１方向に屈折率周期性を有する積層体であり、屈折率周期方向に対して垂直である底面と、底面に対して傾斜している入射側傾斜面２ａおよび出射側傾斜面２ｂとを有する、コアであるフォトニック結晶２と、入射部３と、出射部４とを備えた導波路素子であって、入射部３がフォトニック結晶２の底面に光を入射させ、フォトニック結晶２中に入射された光５が、入射側傾斜面２ａで反射して、フォトニック結晶２中にブリルアンゾーン境界上のバンドによる伝播光８が生じ、伝播光８が出射側傾斜面２ｂで反射して、フォトニック結晶２の底面から光６が出射され、フォトニック結晶２から出射された光が出射部４に導かれる。 （もっと読む）