【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、基板によらずに光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、光ファイバを固定するための溝を有するファイバガイド用コアパターンが形成された光ファイバガイド部材と、第１下部クラッド層上に光信号伝達用コアパターンが形成され、該光信号伝達用コアパターン上に上部クラッド層が形成された光導波路とが並設された光ファイバコネクタであって、前記光ファイバガイド部材が接着剤導入スリットを有し、かつ前記光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバガイド部材と前記光導波路が並設されてなる光ファイバコネクタである。 （もっと読む）

【課題】コアパタンの視認性を向上させた光導波路及び光電気複合基板の製造方法と、それらにより得られる光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】本発明は、略直方体形状の発色性のクラッド層１０、及び該発色性のクラッド層１０の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層３０からなる略直方体形状部材を形成する第１の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層４０を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする光導波路１及び光電気複合基板の製造方法、並びに、その方法によって製造されてなる光導波路１及び光電気複合基板である。 （もっと読む）

【課題】基板のうち光導波路を形成していない部分に素子実装を行うことが可能な光導波路の製造方法、光電気複合基板の製造方法、かかる製造方法によって製造される光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】下部クラッドパターン２０１及びコアパターン３０１を有する光導波路５を、基板１の表面の一部に積層形成する光導波路５の製造方法であって、基板の上面に下部クラッド層形成用樹脂を積層して下部クラッド層２を形成した後、基板の表面の一部が露出するように下部クラッド層をパターン化して下部クラッドパターン２０１とする第１の工程（（ｃ）〜（ｄ））と、下部クラッドパターン上及び基板１上にコア層形成用樹脂を積層してコア層３を形成した後、コア層をパターン化して下部クラッドパターン上のみにコアパターン３０１を形成する第２の工程（（ｅ）〜（ｆ））とを順に有する。 （もっと読む）

【課題】光導波路を切断して外形加工を行なう際に、アライメントマークの視認性の向上による切断位置の精度が向上してなる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０表面にアンダークラッド層１，コア２，アライメントマーク２ａを形成する。つぎに、上記アライメントマーク２ａが露呈するようにフォトマスクを用いて、上記コア２を被覆するようオーバークラッド層３を形成し、上記基板１０を剥離して光導波路体を作製した後、上記アンダークラッド層１の裏面側からアライメントマーク２ａを基準として切断位置を位置決めし、上記アンダークラッド層１およびオーバークラッド層３を切断することにより光導波路を作製する。 （もっと読む）

【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易な光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された光ファイバガイド部材１０と、光導波路２０とが並設された光ファイバコネクタであって、前記光ファイバガイド部材の２つのコア間が光ファイバを固定するための溝を形成し、該溝の幅が固定される光ファイバの直径以上であり、前記基板表面からファイバガイド用コアパターン上面までの高さが該光ファイバの半径以上であり、基板表面からファイバガイド用コアパターン上の第１の上部クラッド層の表面までの高さが該光ファイバの直径以上であり、かつ該光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバガイド部材と前記光導波路が並設されてなる光ファイバコネクタである。 （もっと読む）

【課題】厚さを低減できると共に金属層よりなるミラー部を保護できるミラー付き光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】下部クラッド層２、コアパターン３、及び上部クラッド層４を有する光導波路８と、光導波路８に設けられた光路変換用の切り欠き部５と、切り欠き部５に存在する光路変換用のミラー６とを有するミラー付き光導波路９の製造方法であって、光導波路８に切り欠き部５を形成する工程Ａ₁、切り欠き部５にミラー６を形成する工程Ｂ₁、感光性の樹脂層７によって切り欠き部５を充填する工程Ｃ₁、及び感光性の樹脂層７をパターン化し、切り欠き部５以外の感光性の樹脂層７の少なくとも一部を除去する工程Ｄ₁を有するミラー付き光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】使用する光信号の波長制約が少なく、かつ光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、光ファイバの位置ずれ・ピッチずれがしにくく、光学素子の実装が容易であり、かつ基板の大きさの制限を受けずに光路変換ミラーを備えられる光ファイバ配線板及び光ファイバ電気配線複合基板を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ配線板は、光ファイバを固定するための溝を有する光ファイバガイド部材と、クラッド層及びコアパターンを有する光導波路とが、該溝に固定された光ファイバと光信号を送受可能な位置に並設されてなる光ファイバコネクタと、前記溝に固定された光ファイバとが、第１基板上に具備されてなる。 （もっと読む）

【課題】複数の光導波路と光ファイバのような複数の光学素子とをそれぞれ接続する際の位置合わせのトレランスが確保できる光導波路基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光素子のような光ファイバ５が接続される光導波路基板１０は、基板２０の上面２２ａの上方に形成された、光ファイバ５に光学的に接続する光導波路であるコア層３２と、基板２０の上面２２ａの上方に形成されたガイド部４０と、を備える。ガイド部４０の壁部４４及び下部ガイド層としての第２下部クラッド層４２は、光ファイバ５の端部６の位置がコア層３２の端部３５の位置に合うように各光ファイバ５の端部６を案内するためのガイド溝部４５を形成する。ガイド溝部４５の底面４１は、光ファイバ５が挿入方向Ｘに進むに従って光ファイバ５の端部６がコア層３２の端部３５に光学的に接続できるように、一対の側面４３の間に形成された傾斜面４６を含む。 （もっと読む）

【課題】ミラーによって光信号を小さい光損失にて光路変換することができるミラー付き光導波路等を提供する。
【解決手段】ミラー付き光導波路９は、主に、基板１と、下部クラッド層２と、コアパターン３と、コアパターン３に間隔をおいて形成された１対の傾斜面４ａ，５ａと、傾斜面４ａ，５ａに形成された金属層よりなる１対のミラー６ａ，７ａと、コアパターン３上の上部クラッド層８とを有する。１対の傾斜面４ａ，５ａの間の部分は、途切れることなく連なる連続部３ａとなっている。第１図（ｂ）の矢印Ａのとおり、一方のミラー６ａで光路変換された光信号は、コアパターン３の連続部３ａ内を一度も出光することなく進行して他方のミラー７ａまで到達し、かつこの他方のミラー７ａが光信号を通過することなく確実に光路変換させるため、光損失が小さい。 （もっと読む）

【課題】小型化を図ったとしても、光ファイバーの先端部の接続強度が確保されて信頼性が高い光電変換モジュールを提供する。
【解決手段】光電変換モジュール(24)は、透光性及び可撓性を有する回路基板(26)の一方の面に実装されたＩＣチップ(34)及び光電変換素子(32)と、回路基板(26)の他方の面に設けられた樹脂層(40)に形成された保持溝(42)内に配置された先端部を有する光ファイバー(23)と、保持溝(42)を覆う補強部材(46)と、光ファイバー(23)の先端と光電変換素子(32)とを回路基板(26)を通して光学的に結合する光学要素とを備える。保持溝(42)は、ＩＣチップ(34)及び光電変換素子(32)の配列方向でみて、ＩＣチップ(34)側に位置する樹脂層(40)の端に開口端を有し、光ファイバー(23)の先端部の少なくとも一部は、ＩＣチップ(34)に沿って延びている。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線のビーム９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の焦点を層９１０の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム９３０を層９１０の面方向に沿って相対的に移動（面内移動）させつつ、ビーム９３０を照射する。これにより、焦点近傍とそれ以外の領域での積算光量の差に基づき、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク９３５を介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が徐々に変化するように、開口９３５１の形状が異なる複数枚のマスク９３５を順次介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に対して活性放射線のビーム９３０を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、ビーム９３０の移動経路の中心線近傍から離れるにつれて活性放射線の積算光量が連続的に減少するように、ビーム９３０の横断面形状およびビーム９３０中の強度分布の少なくとも一方を設定する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、パターニングされた下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、該レジスト用コアパターンと配線パターン、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、該配線パターンが、下部クラッド層のパターン形状の開口部に設けられ、かつ、積層方向において基材とレジスト用コアパターンとに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】コアパターン層の平坦性に優れ、光伝搬損失を低損失化すると共に、光伝搬損失のばらつきが少ない光導波路を有する光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１下部クラッド層、そこに埋め込まれた配線パターン、コアパターン及び上部クラッド層を有する光電気複合基板の製造方法であって、（Ａ）支持体上に第１下部クラッド層を形成し、パターニングする工程と、（Ｂ）第１下部クラッド層のパターン形状の開口部に配線パターンを形成する工程と、（Ｃ）第１下部クラッド層上にコアパターンを形成する工程と、（Ｄ）コアパターンを覆うように上部クラッド層を形成する工程と、（Ｅ）支持体を除去して配線パターンを露出させる工程とを有する光電気複合基板の製造方法、並びに該方法によって製造された光電気複合基板。 （もっと読む）

【課題】透明性、リフロー耐熱性、及び熱安定性に優れ、高精度な厚膜形成とアルカリ現像が可能であり、しかも生産性の高い光導波路形成用樹脂フィルムに特に有用な光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及び透明性、リフロー耐熱性、熱安定性、環境信頼性に優れた光導波路を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するポリマー、（Ｂ）（メタ）アクリレート、（Ｃ）光ラジカル重合開始剤、及び（Ｄ）フェノール系酸化防止剤を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルム、及び下部クラッド層、コア部、上部クラッド層の少なくとも１つを該光導波路形成用樹脂組成物、又は該光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路である。 （もっと読む）

【課題】成形型を用いてオーバークラッド層を形成する場合に、その成形型を位置決めする際に利用するアライメントマークを、ＣＣＤカメラ等の認識装置により容易に認識できるようにする光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０上に形成したアンダークラッド層１の上面に、コア２とアライメントマークとをフォトリソグラフィ法により突出形成し、そのアライメントマークを目印として位置決めされる成形型を用いてオーバークラッド層を形成する光導波路の製法において、上記アライメントマークの形成に、フォトマスク２０として、アライメントマーク形成用の開口パターン２３が、開口部２３ａと、この開口部２３ａの周囲の、開口率が１０％を上回り８０％を下回る範囲内に設定された透光量減少領域２３ｂとからなるものを用い、アライメントマークの周側面を傾斜面に形成する。 （もっと読む）

【課題】如何なる偏光状態も縮退させるために所望の偏光を与える光学微小光共振器を提供する。
【解決手段】光学微小光共振器は、微小円筒４２及び微小円筒上の共振導波管４８として形成され、光源導波管５０からの光を微小円筒上に光学的に結合するための円周リッジ４１のような複数の離間した共振素子とを有する。共振素子は、所望の偏光を与え、且つ、偏光状態を縮退させる間隔、高さ、及び、角度を有する。共振導波管を覆って塗膜４０ａ，４１ａも形成可能であり、塗膜は共振導波管と協働可能であり、如何なる偏光状態も縮退させる屈折率である。 （もっと読む）

【課題】光学特性を向上させ、製造に要する期間の短縮及びコストの低減を図ると共に、クロストークノイズ等の発生を抑制すること。
【解決手段】２層光導波路１０は、第１の面１２ａ及びこれと反対側の第２の面１２ｂを有するコア層１２と、このコア層の第１の面１２ａに積層されたクラッド層１８とを有する。コア層１２の第１の面１２ａ側の少なくとも２箇所に、コア層１２内を伝搬する光信号を第２の面１２ｂ側に指向させるミラー構造が設けられている。このミラー構造は、コア層１２の第１の面１２ａ側から形成された傾斜面１４及び該傾斜面上に形成された金属膜１６を含む。 （もっと読む）