【課題】 単一モードかつ導波方向に垂直な面内において単峰性の電場強度分布を有するモードで導波可能で、かつ所望の周波数帯域で導波することができる３次元フォトニック結晶を利用した導波路を得ること。
【解決手段】 ３次元フォトニック結晶の複数の線状欠陥部により形成される導波路であって、複数の線状欠陥部は、柱状構造の屈折率以上の屈折率を有する媒質により、柱状構造が延びる方向に対して垂直方向に形成された第１の線状欠陥部と、第１の線状欠陥部と同じ方向に延びる柱状構造の一部を変形した第２の線状欠陥部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】TE偏波、TM偏波の双方を分波及び合波することができる２次元フォトニック結晶波長合分波器を提供する。
【解決手段】この波長合分波器は、TE偏波に対してフォトニックバンドギャップを有する２次元フォトニック結晶１１に互いに離間して配置された第１導波路１２１及び第２導波路１２２の間に、共振波長λrが同じ第１共振器１３１及び第２共振器１３２を配置する。第１導波路１２１上の第１共振器１３１と第２共振器１３２の間に、TM偏波をTE偏波に変換する第１偏波変換器１５１を設けると共に、第２導波路１２２上の第１共振器１３１と第２共振器１３２の間に、TE偏波をTM偏波に変換する第２偏波変換器１５２を設ける。第１導波路１２１内の波長λrの光のうちTE偏波は第１共振器１３１から第２導波路１２２に導入され、TM偏波は第１偏波変換器１５１によりTE偏波に変換されたうえで第２共振器１３１から第２導波路１２２に導入される。 （もっと読む）

【課題】電気的信号及び光信号を同時に伝送できる光印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による光印刷回路基板は、上部クラッド層（２９）と、上部クラッド層（２９）の内部に位置し、両端にそれぞれ第１反射面（２１）及び第２反射面（２３）を有しながら、光信号を導波するコア層（１９）と、一面は上部クラッド層（２９）と接し、他面には回路パターン（２７）と、第１反射面（２１）及び第２反射面（２３）にそれぞれ対応する光接続バンプ（１７）とが形成されている下部クラッド層（１５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 複数の光束を感光材中で干渉させて干渉縞を生じさせることで３次元フォトニック結晶を製造するいわゆるホログラフィックリソグラフィー法において、簡易な構成の光学系を用いて短時間で大型のフォトニック結晶を製造する手段及びそれに使用する製造装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る３次元フォトニック結晶の製造方法は、３次元周期で光の屈折率が変化する３次元フォトニック結晶の製造方法において、照射された光強度に応じて屈折率が変化する感光材３に対し、相異なる３方向から２光束干渉露光を行うことにより、所定厚みの壁状の潜像１６が複数並設されてなる潜像群１７，１８，１９を３方向に向かってそれぞれ形成し、３つの潜像群１７，１８，１９が重なり合う部分とそれ以外の部分とで屈折率に差を生じさせることにより、感光材３に３次元周期の屈折率変化を形成するものである。 （もっと読む）

【課題】分岐型光ファイバ束の代わりに用いることを可能とし、しかも、より小型化を図るとともに製造を容易にしてコスト低減を図る。
【解決手段】導光装置１０は、シート状光学部材１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂで構成される。全てのシート状光学部材１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂの第１の側端面１１Ｒ１，１１Ｇ１，１１Ｂ１が連なって第１の連合面１０Ａを形成するように、全てのシート状光学部材１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂの第１の側端面１１Ｒ１，１１Ｇ１，１１Ｂ１の付近の部分が積層される。第１のグループの全てのシート状光学部材１１Ｒの第２の側端面１１Ｒ２の付近の部分が積層される。第１のグループの全てのシート状光学部材１１Ｒの第２の側端面１１Ｒ２の付近の部分は、異なるグループのシート状光学部材１１Ｇ，１１Ｂとは積層されない。シート状光学部材１１Ｇ，１１Ｂも、シート状光学部材１１Ｇと同様である。 （もっと読む）

ＭＺ構造体の各アームに光学的に連結される複数の共振器をそれぞれ備える１対の縦続接続マッハツェンダーＭＺ構造体を備える、超狭帯域の特性を示す通過帯域フィルタ。
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【課題】光基板において、その曲げ半径を小さくできると共に、高密度な光配線回路を構成することができるようにする。
【解決手段】線状のコア５が、該コア５よりも屈折率の低い接着剤７によって基板３の表面３ａに固着され、前記基板３の表面３ａに配された前記接着剤７が、少なくとも前記コア５の長手方向にわたって前記コア５の周囲に形成されていることを特徴とする光基板１を提供する。また、前記接着剤７の屈折率が、前記コア５の屈折率の９０．００％以上、かつ、１００％未満であることを特徴とする光基板１を提供する。 （もっと読む）

【課題】既知のテラヘルツ波に対し透明な材料にフォトニック結晶構造を持たせ、その構造を制御することで必要な特性を持った光導波路を提供する。
【解決手段】本発明に係る光導波路は、テラヘルツ領域の遠赤外光を伝播する光導波路において、前記光導波路において、含フッ素非晶質重合体を構成要素とする光導波路である。好ましくは２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素モノマーを環化重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体である。特に好ましくは前記含フッ素非晶質重合体が、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）及びペルフルオロ（４−メトキシ−１，３−ジオキソール）からなる群から選ばれる少なくとも１種を重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体である光導波路である。 （もっと読む）

【課題】スラブ型２次元フォトニック結晶に設けられている光導波路構造において、優れたフォトニック結晶特性を発現すると共に、その波長依存性を小さくして広帯域な波長域で使用可能な光機能デバイスを提供する。
【解決手段】少なくとも光導波路１から見てn番目（ｎは１、２、３、４または５）の格子列Ｔｎに含まれる誘電体柱Ｈｎの平面形状が等辺多角形または真円形である。光導波路１から見てn番目の格子列Ｔｎに含まれる誘電体柱Ｈｎの径ｒn（ｎ＝２、３、４または５）のうち少なくとも一つが基本径ｒ０と異なっている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、均一性の高い大表面積の3次元フォトニック結晶の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明の3次元フォトニック結晶の製造方法は、微粒子を構成単位とする3次元フォトニック結晶の製造方法であって、窪みを有するテンプレート基板（Q）に、微粒子スラリーを供給して、窪みの形状に従った微粒子集積体を有する層（A）を形成し、さらに層（A）の上部に連続的な微粒子集積体層（A'）を形成することを特徴とする。
テンプレート基板（Q）に形成される窪みは、表面が（100）面又は（110面）であるシリコン基板を異方性エッチングすることにより作製される（111）面を表面に持つV字窪みであることが好ましく、その窪みの間隔が、0又は構成単位である微粒子の直径の整数倍であればさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】動作の効率が良好なフォトニック結晶を提供する。
【解決手段】屈折率が異なる少なくとも２種の材料を含み、これらの材料が周期的構造を与えるフォトニック結晶。該フォトニック結晶の少なくとも一部に非線形光学材料を含む。 （もっと読む）

【課題】サブミクロン光導波路に設けられ、反射可能な波長範囲を広くし、かつ、反射率を高くする。
【解決手段】サブミクロン光導波路１６の光入出力端面１６ａに接続され、反射領域２０と遷移領域１６とに区分され、反射領域及び遷移領域は、それぞれ１個以上の単位構造体ＵＳ_ｊを含み、単位構造体は、低屈折率部ＳＰ_ｊと高屈折率部ＷＳ_ｊとを備えており、低屈折率部の長さをＳとし、高屈折率部の長さをＬとしたとき、反射領域において、Ｓ＝Ｓ_ｍａｘであり、及びＬ＝Ｌ_ｍｉｎであり、遷移領域が２個以上の単位構造体を含むときに、Ｓは、光入出力端面側から数えた単位構造体の席次とともに増加し、及び遷移領域が２個以上の前記単位構造体を含むときに、Ｌは、光入出力端面側から数えた単位構造体の席次とともに減少する。 （もっと読む）

【課題】 光導波路内の任意の場所において伝搬光の光路変換を可能とし、かつ、安価で製造することが可能なレンズ内蔵光導波路及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 レンズ内蔵光導波路は、コア４０と、コア４０を取り囲むクラッド３０、５０と、コア４０内に光の伝搬方向に交差するように配置されたレンズ４１とを備える。このレンズ内蔵光導波路の製造は、例えば、光の伝搬方向に交差するように配置されたレンズ用の空孔を内部に有するコアを下部クラッド上に形成し、このコアの空孔内に存在させようとする気体の雰囲気下で、硬化前の硬化性クラッド材を、前記空孔を維持したまま、コアの上部及び側面に塗布し、この塗布された硬化性クラッド材を硬化させ、気体を空孔内に閉じ込めることにより行われる。 （もっと読む）

本発明は、チャネル導波路構造を有する光学装置、及びその作製方法に係る。特にＺＢＬＡＮである特にはジルコニウムフッ化物ガラスであるフッ化物ガラスを有する薄い導波路層（２）は、基板（１）上に適用され、該層（２）上へとスタンプ（３）をプレスすることによって導波路チャンネル（７）を形成するよう構築される。スタンプ（３）は、導波路構造のチャネル（７）の所望される輪郭に従って形成されるカッティングエッジ（４）を有し、且つ導波路層（２）の材料の移動に対して自由空間を与えるよう、設計される。スタンプ（３）及び／又は導波路層（２）は、カッティングエッジ（４）による導波路層（２）の材料の移動を可能にする温度まで事前に加熱される。本発明は、チャネル導波路構造の迅速且つ安価な製造を可能にする。

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【課題】 回路設計の自由度が高く、かつ微細な配線からなる多層配線基板や立体配線基板として好適に用いられる三次元配線構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】 三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

複合エバネッセント導波路は、互いに隣接して配置される、第１の構造化された誘電体層（２６）と、第２の誘電体材料（２８）とを含むことができ、第１の構造化された誘電体層（２６）と第２の誘電体材料（２８）との間に波伝搬界面（３０）が形成される。第１の構造化された誘電体層（２６）及び第２の誘電体材料（２８）はそれぞれ、波伝搬界面（３０）がオールエバネッセント表面波を伝搬できるようにする材料から形成される。結果として生成される伝搬する表面波は、低い損失を有する傾向があり、光通信、表面分析、センサ及び種々の他の用途に適切であることができる。
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【課題】曲げられた状態で使用される場合でも、曲げ損失と結合損失との両方を低減することが可能な光伝送路を提供する。
【解決手段】コア部１１の光伝送方向における位置のうち、少なくとも曲げを許容する領域において、コア部１１の厚みｄが、（Ｒ−ｄ／２）／（Ｒ＋ｄ／２）≧（ｎ２／ｎ１）なる関係式を満たしている。また、少なくともコア部１１の光入射面において、コア部１１の横幅ｗが、厚みｄよりも長くなっている。 （もっと読む）

【課題】点状欠陥共振器の共振波長を容易に制御することができる２次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】Siから成るスラブ１１に三角格子状に配置された空孔１２と、点状欠陥共振器１３を形成する((a-1)-(a-4))。次に、スラブ１１の表面を水に晒し(b)、この表面に酸化膜１６を形成する(c)。その後、この表面をフッ酸に晒す(d)ことにより酸化膜１６を除去する(e)。(b)〜(e)の操作（単位減厚工程）を行うことにより、スラブ１１の厚さは約0.11nm減少し、それにより点状欠陥共振器１３の共振波長は0.39nm（1.55μm帯用に設計された場合）だけ短波長側に変化する。単位減厚工程を繰り返すことにより１工程あたり0.39nmの精度で共振波長を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】環境中の１つ又は複数の汚染物質粒子を検知できる、検知感度が高くコンパクトな光共振センサを提供する。
【解決手段】基板２０３と、光を放出するように動作可能な前記基板上の光源２０２と、前記光源から放出される前記光を受信するように位置する受信端を有し、前記光がそこを通って伝播することが可能となるように構成された、前記基板上の１つの光導波路２０４と、前記光源から放出される光を受信するように位置する前記基板上の光導波路リング２１０と、前記光導波路リング内で伝播する光の損失の増加を測定するために構成された検出器２２６とを備える。前記１つの光導波路２０４及び前記光導波路リング２１０は、前記光導波路リング２１０を通って伝播する光波のエバネセントテイルが、光共振センサの位置する前記環境に広がり、前記環境中の汚染物質粒子に対して反応性となる光共振器２００を形成する。 （もっと読む）

【課題】 広い波長領域で良好なるフォトニックバンドギャップを呈し、しかも製造が容易な３次元フォトニック結晶を得ること。
【解決手段】 屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した３次元フォトニック結晶であって、長方格子１の各格子点と、長方格子２の各格子点に、第２の媒質より成る孔を有し、孔以外の領域を第１の媒質で満たした周期構造より成る第１の層と、面心長方格子の各格子点に、第３の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、柱状構造以外の領域を前記第２の媒質で満たした周期構造より成る第２の層と、第１の層に含まれる周期構造をずらした位置に形成される周期構造より成る第３の層と、第２の層に含まれる周期構造が第２の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第４の層を有し、第１の層、第２の層、第３の層、第４の層の順に周期的に積層されていることを特徴とする。 （もっと読む）