【課題】本発明は、光学基板（１７）上の反射防止被膜を処理する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、低屈折率の弗素化ポリマー含有層の物理的気相蒸着を実施する工程を含んでおり、また、この工程は、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを同時に気相蒸着させることにより、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーの混成層（２１ｄ）を堆積させることに関与していることを特徴とする。好ましい実施形態では、弗素化ポリマーは重合体またはテトラフルオロエチレン重合体の形態で実施され、個々の構成要素はジュール効果または電子衝撃により蒸発させられる。本発明の方法は、何らかの光学基板または本発明の基板の上に堆積される反射防止被膜を積層した下位隣接層に低屈折率層を粘着させる工程を向上させるために利用されると有利である。この方法によって製造される基板と、この方法を実施するための装置も開示されている。 （もっと読む）

透明基材フィルム３１の一方の面に反射防止層５１が設けられ、透明基材フィルム３１の他方の面に、ＰＤＰの封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長光を吸収する色調補正用着色剤及び／又は近赤外線吸収剤を含有する特定波長光遮断層３９が設けられている。また必要に応じ特定波長光遮断層３９に粘着層４１が設けられている。 （もっと読む）