【課題】濃度が約０．３以下の低濃度領域における可視波長領域の分光反射率を低減したＮＤフィルタを得る。
【解決手段】ＰＥＴ基板１上に最大濃度が１．０で濃度が連続的に変化するグラデーション勾配を有するＮＤ膜２を成膜し、最表層に単層のＭｇＦ₂膜３を成膜する。更に、ＮＤ膜２の可視波長領域の分光反射率が比較的大きく、膜厚が比較的薄い低濃度領域、例えば濃度０．３以下の領域に多層膜から成る反射防止膜４を成膜して反射防止機能を向上させる。なお、この反射防止膜４はＳｉＯ₂膜とＴｉＯ₂膜を交互に積層した５層構成で略一定膜厚であり、部分的にマスキングして真空蒸着法により成膜する。 （もっと読む）

【課題】 防汚性効果を下げることなく、帯電防止機能を備えた反射防止積層体を提供する。
【解決手段】 基材フィルム上に、直接又はその他の層を介して、高屈折率層及び低屈折率層がこの順に積層されてなり、前記低屈折率層が、ナノポーラス構造を有する組成物で形成され、その組成物が少なくとも（A）分子中にフッ素原子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物と、（Ｂ）数平均粒子径が５〜３００ｎｍである微粒子とを含有し、表面抵抗値が１×１０^１０Ω／□以下、全光線透過率が９４％以上である反射防止積層体。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の広帯域化を図るとともに、光学素子を量産した際に反射防止膜の透
過率特性のバラツキを低減した広帯域反射防止膜を提供することを目的とする。
【解決手段】広帯域反射防止膜６は、基板７に７層からなる薄膜を積層した構造である。
薄膜を構成する薄膜材料としては、基板７に対して付着性の強いことが知られているＭｇ
Ｆ₂を第一の薄膜８の材料として成膜する。更に、以降、広帯域反射防止膜６は、第一の
薄膜８の表面から順に、第二の薄膜９の材料として、Ｈ₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である
）を成膜しており、第三の薄膜１０の材料として、ＭｇＦ₂を成膜しており、第四の薄膜
１１の材料として、Ｈ₄を成膜しており、第五の薄膜１２の材料として、ＭｇＦ₂を成膜し
ており、第六の薄膜１３の材料として、Ｈ₄を成膜しており、第七の薄膜１４の材料とし
て、ＭｇＦ₂を成膜している。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化及びコストの増加を招くことなく、真空紫外領域での吸収が小さい薄膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング法を用いて基板に膜を成膜する成膜装置であって、前記基板に前記基板の外径よりも小さいビーム径を有するレーザー光を照射する照射手段と、前記レーザー光を前記基板の全面に走査させる走査手段とを有することを特徴とする成膜装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機バインダーや有機溶剤との相溶性を満たし、良質な反射膜を形成することが可能なフッ化物微粒子分散液を提供すること。
【解決手段】アルカリ土類金属塩の溶液中にフッ素化剤を添加することによりフッ化物のコロイド粒子のゲルまたはゾルを生成させる工程と、前記ゲルまたはゾルを、カルボン酸無水物の溶液に添加して水分と副生塩類を除去する工程とを有することを特徴とする。これにより、一次粒子径が１００ｎｍ以下であるフッ化物の微粒子がカルボン酸に分散しているフッ化物微粒子分散液が得られる。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性を高めて膜剥がれを防止すると共に、優れた反射防止特性を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】基板上に施される反射防止膜であって、前記基板側から順に、金属で構成される第１の層と、フッ化物で構成される第２の層とを有することを特徴とする反射防止膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の高温加熱を行わなくても、可視だけでなく紫外領域においても光学吸収が低く、緻密で、環境耐久性が高いクラスタビームによる弗化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着法による膜形成方法とクラスタビームを用いて、つぎのように弗化物膜を形成する。
すなわち、弗化物膜の形成に際し、クラスタイオンビーム源５から合成石英基板７にクラスタイオンビーム照射しながら、抵抗加熱ボード３から弗化物膜材料を真空蒸発させ、合成石英基板７上に弗化物膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】２つの波長領域に対して所望の反射防止特性を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】露光光である波長３２０〜４５０ｎｍの反射率が１．５％以下、アライメント光である波長８００ｎｍ以上（特に８８０ｎｍ）の赤外光の反射率が２％以下となる４〜１２層で積層される多層膜で構成される反射防止膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰの製造工程によって生じやすいガラス基板のキズ、ガラス付着異物、融着物欠点等による表示品位の低下が起こりにくい平面ディスプレイ用フィルター、平面ディスプレイおよび平面ディスプレイ用フィルターの製造方法を提案する。
【解決手段】透明基材および最表面に位置する透明樹脂層を有する平面ディスプレイ用フィルターであって、該透明樹脂層が（Ａ）芳香族環を含有しないウレタンアクリレートプレポリマーと（Ｂ）芳香族環含有アクリルモノマーを共重合成分とし、（Ａ）芳香族環を含有しないウレタンアクリレートプレポリマーと（Ｂ）芳香族環含有アクリルモノマーの共重合比が重量比で８０／２０〜２０／８０であるウレタンアクリレート系共重合体を含む平面ディスプレイ用フィルターとする。 （もっと読む）

【課題】反射防止層のような、光学系内の干渉層の結果として生起する偏光状態の不所望な変化を低減又は回避するように、光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズを改善すること。
【解決手段】本発明は、光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズに関しており、干渉層系を有する少なくとも１つの湾曲レンズ表面を有する少なくとも１つの光学要素を有しており、その際、各層の少なくとも１つの層は、５ナノメータより大きくない厚みの少なくとも１つの中間層によって細分されており、その際、少なくとも１つの、細分された層内に形成された円柱構造部は、少なくとも１つの中間層によって中断されている。 （もっと読む）

【課題】高屈折率材料からなる基板に最適な、薄くて、可視光領域から近赤外領域にいたる入射光に対して優れた反射防止効果が得られる反射防止膜を提供する。
【解決手段】反射防止膜１００は、基板１１０と、基板１１０上に積層された第１層１０１と、第１層１０１上に積層された第２層１０２と、第２層１０２上に積層された第３層１０３と、による３層構成になっている。基板１１０は、設計中心波長５１０ｎｍにおける屈折率が約２．０〜約２．４である高屈折率材料からなる。第１層１０１は、設計中心波長５１０ｎｍにおける屈折率が約１．６５である材料からなる。第２層１０２は、設計中心波長５１０ｎｍにおける屈折率が約２．１０である材料からなる。第３層１０３は、設計中心波長５１０ｎｍにおける屈折率が約１．３８である材料からなる。 （もっと読む）

【課題】イオンビームスパッタ法により光学薄膜を形成するに際し、反射率低下を招く拡散層の形成を抑制し、光吸収の低減化を図ることが可能となる光学薄膜の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】イオンビーム１１６をターゲット１１５に照射し、スパッタリングによって被処理物１１９に多層膜による光学薄膜を成膜する光学薄膜の製造方法を、つぎのように構成する。
前記スパッタリングによって被処理物に光学薄膜を成膜するに際し、前記ターゲットにバイアス印加手段１０５によって正のバイアスを印加して、前記被処理物に光学薄膜を成膜する工程を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光光に対して良好な耐光性を有し、反射防止膜を備えた光学素子及びそれを有する露光装置を提供する。
【解決手段】１５０ｎｍ〜２５０ｎｍの波長域に中心波長を有する光を透過する基板と、当該基板上に形成され、ｎを３以上の整数とするｎ層膜からなる反射防止膜とを有する光学素子であって、前記基板から数えて第ｎ−２層目が高屈折率材料から構成され、第ｎ−１層目がＡｌＦ_３を含む非結晶性材料から構成され、第ｎ層目が低屈折率材料から構成され、前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料は結晶材料を含むことを特徴とする光学素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】 箔バリが発生しにくい、いわゆる箔バリ低減性に優れた反射防止加工用転写材とこれを用いた反射防止膜付き透明パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の箔バリ低減性に優れた反射防止加工用転写材は、基体シート上に反射防止層を含む転写層が形成された転写材であって、該転写層の総厚みが０．１５〜０．８μｍであるように構成した。また、本発明の反射防止膜付き透明パネルの製造方法は、上記の反射防止加工用転写材を透明パネルに転写層側が接するように重ね合わせ、基体シート側から加熱加圧することにより透明パネル表面に必要領域の転写層を接着させた後、基体シートを剥離することにより、透明パネル表面に反射防止層を含む転写層を形成するように構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高い生産性を維持したまま、本来の機能性薄膜としての機能を損ねることなく、耐久性のある優れた防汚特性を持ち、かつ耐久性のある機械強度（例えば、耐擦傷性、密着性）を持った機能性薄膜を有する物品、機能性薄膜の製造方法、反射防止フィルム、及び表示装置を提供することにある。
【解決手段】表層付近に隣接する２つの層Ａ、Ｂにおいて、表層に近い側の層Ａの膜密度をＸ、もう一方の層Ｂの膜密度をＹとした時、下記式（１）を満足し、かつ最表層の動摩擦係数が０．４５以下であり、更に水の接触角が９０°以上であることを特徴とする機能性薄膜を有する物品。
式（１） １．０５≦Ｘ／Ｙ≦１．２３ （もっと読む）

【課題】反射防止効果が極めて高いことにより、優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生の少ない反射防止膜及びこれを用いた光学部品を提供すること。
【解決手段】基板上に、第１層〜第５層を前記基板側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、波長400〜700 nmの光において、
前記基板の屈折率が1.35〜2.05であり、
前記第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.5〜60 nmであり、
前記第２層の屈折率が1.30〜1.65、光学膜厚が20〜170 nmであり、
前記第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.5〜70 nmであり、
前記第４層の屈折率が1.30〜1.65、光学膜厚が20〜190 nmであり、
前記第５層の屈折率が1.05〜1.30、光学膜厚が100〜150 nmであることを
特徴とする反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性をより向上した光学フィルム、十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性をより向上した反射防止フィルム、さらに、そのような反射防止フィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、少なくとも１種の重合開始部位を有するアミノ化合物を含有する組成物の硬化物を含む層を有する光学フィルム、特に透明支持体上に少なくとも反射防止層を有する反射防止フィルムであって、該支持体上に積層された層の少なくとも一層が、少なくとも１種の重合開始部位を有するアミノ化合物を含有する組成物を光および／または熱エネルギーにより硬化させてなる層である反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】エキシマレーザ光学部品または素子の長寿命化と、その部品または素子の作成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ部品または素子を、酸化物膜及びフッ素処理酸化物膜からなる群から選ばれる気密封止材料の耐久性被膜によって気密封止する。その気密封止材料の耐久性被膜は、光素子の１つまたはそれより多くの面に、素子の面に直接に、あるいは素子に既に施されている選ばれたコーティング（例えば無反射コーティング）を覆って、施される。 （もっと読む）

【課題】曲率半径が小さい（大Ｄ／Ｒ）レンズの場合においても膜厚ムラを極力小さく抑えると共に、膜の部位に拘わらず光学特性をはじめとする膜質を均一に保有する光学薄膜成膜方法、光学薄膜成膜装置、光学素子、光学系、及び露光装置を提供する。
【解決手段】 平面視が円形で、凸面形状の表面を有する光学素子本体１３の、前記表面に塗布液１７を塗布して単層又は多層の光学薄膜１４を形成する光学薄膜成膜方法において、前記光学素子本体１３を、前記凸面形状の中心軸Ｏを中心として回転させると共に、前記塗布液１７を、前記円形の半径方向に沿い、前記凸面形状の周縁部１３ａから中心Ｏ１に向けて順次塗布した光学薄膜成膜方法。 （もっと読む）

【課題】 金属酸化物超微粒子を配合したハードコート層を有する耐擦傷性の透明プラスチック製の反射防止積層体において、ヘイズ値が上昇が抑制された、耐擦傷性の透明性に優れた反射防止フィルム等の反射防止積層体を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、少なくとも光透過性のハードコート層、該ハードコート層より屈折率の低い光透過性の低屈折率層をこの順で形成した層を有する反射防止積層体である。該ハードコート層は、平均粒子径が１〜３０ｎｍで屈折率が１．６０以上であり、粒度分布範囲が平均粒子径±５ｎｍ以下の範囲にある金属酸化物超微粒子が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする、反射防止積層体である （もっと読む）