【課題】広い入射角範囲で優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生が少なく、かつ優れたヤケ防止効果を有する反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置を提供する。
【解決手段】基板上に積層してなり、波長領域400〜700 nmの光において、基板の屈折率が1.60〜1.95であり、第１層がアルミナを主成分とし、第２層から第６層の屈折率がそれぞれ1.95〜2.25，1.35〜1.50，1.95〜2.25，1.35〜1.50，1.95〜2.25であり、第７層がシリカを主成分とする多孔質層であり、第１層から第７層の光学膜厚がそれぞれ37.5〜112.5 nm，35.5〜60.0 nm，24.5〜41.5 nm，210.5〜250.0 nm，12.5〜32.5 nm，27.5〜45.0 nm， 108.0〜138.0 nmである反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに光学ローパスフィルタからの静電気を除去する。
【解決手段】水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層して複層にし、最終層のｎ層に低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層する。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。 （もっと読む）

【課題】大きな成膜速度で透明で低屈折率の光学膜を成膜できる透明光学膜の成膜方法を提供し、また該透明光学膜の成膜方法により成膜されてなる透明光学膜を提供する。
【解決手段】フッ素を含む化合物のガス７を導入して全圧８Ｐａ以上とした雰囲気下で、Ｍｇ−Ｓｉメタルターゲット４を用いた反応性スパッタリング法により、基板１１上に透明な光学膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】レーザ耐性に優れたブリュースター窓を提供する。
【解決手段】レーザ光が直線偏光で発振するようにレーザ共振器の内部に配されるブリュースター窓であって、アルカリ土類金属フッ化物単結晶から成り、表面が平坦化された基板１と、その基板の少なくとも一方の面に形成された多結晶又はアモルファス構造であるフッ化物膜２ａ，２ａ’と、を備える。フッ化物膜２ａ，２ａ’は、フッ化ガドリニウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化アルミニウム及びクリオライトの何れかでなる。フッ化物膜２ｂ，２ｂ’のようにフッ化物膜を多層膜としても良い。 （もっと読む）

【課題】 無限遠の被写体から等倍被写体まで内焦式でフォーカシングを行い、フォーカシングレンズ群の移動量が小さく、ゴーストやフレアをより低減させた、高性能の撮影レンズ、これを備えた撮影装置およびフォーカシング方法を提供する。
【解決手段】 撮影レンズ２は、光軸に沿って物体側から順に並んだ第１〜第４レンズ群Ｇ１〜Ｇ４を含み、撮影倍率が０倍から少なくとも−０．５倍まで撮影可能な撮影レンズにおいて、フォーカシングに際して、第１レンズ群Ｇ１および第４レンズ群Ｇ４を像面Ｉに対して固定し、第２レンズ群Ｇ２および第３レンズ群Ｇ３を光軸方向に移動させ、第３レンズ群Ｇ３および第４レンズ群Ｇ４における光学面のうち少なくとも１面に、ウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含んだ反射防止膜を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、防眩機能、高コントラスト及びギラツキ防止の機能をバランスよく備えた、高精細なＬＣＤにも適用可能な防眩材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも一方の面に凹凸形状が形成され、該凹凸形状を有する面の傾斜角が次式（１）および（２）の分布条件を満たす防眩材料。前記防眩材料が、透光性基体上に樹脂層が積層されてなることが好ましい。
【数１】


［Ａ：傾斜角１．６°以上の全体に占める割合、Ｂ：（傾斜角０．４°以上１．６°未満の全体に占める割合）÷（傾斜角０．４°未満の全体に占める割合）］ （もっと読む）

【課題】光学製品として用いても、像のブレや明暗を生じることのない透明多結晶スピネル基板を提供する。また、その製造方法を提供する。さらに、その透明多結晶スピネル基板を用いた液晶プロジェクターおよびリアプロジェクションテレビ受像機を提供する。
【解決手段】１ｍｍ厚みで、波長４５０ｎｍにおいて、クロスニコル系における透過率が、０．００５％以下であることを特徴とする透明多結晶スピネル基板。スピネル粉末を準備する工程、スピネル粉末を成形してスピネル成形体を作製する工程、前記スピネル成形体を焼結してスピネル焼結体を作製する工程、前記スピネル焼結体をＨＩＰしてスピネル多結晶体を作製する工程を有する透明多結晶スピネル基板の製造方法。前記透明多結晶スピネル基板を有する液晶プロジェクターまたはリアプロジェクションテレビ受像機。 （もっと読む）

【課題】表面の耐摩耗性、耐擦傷性、撥水性に優れるとともに、所望の分光反射特性を有する反射防止積層体、該反射防止積層体を用いた光学機能性フィルタおよび光学表示装置を安価に提供すること。
【解決手段】基材１の少なくとも一方の面上に、ハードコート層２と反射防止層とを順次積層した反射防止積層体において、前記反射防止層には、最表層として高屈折率層５が設けられ、かつ前記高屈折率層５がダイヤモンドライクカーボンからなることを特徴とする反射防止積層体、該反射防止積層体を用いた光学機能性フィルタおよび光学表示装置。 （もっと読む）

発明は、緻密で均質なフッ化物膜でコーティングされた光学素子及びそのようなコーテッド素子を作製する方法に向けられる。コーティング材料は高(Ｈ)屈折率フッ化物材料及び低(Ｌ)屈折率材料であり、これらの材料は共蒸着されてＬ-Ｈコーティング材料のコーティング(Ｌ材料及びＨ材料の共デポジションコーティング)層を形成する。希土類金属フッ化物(例えば、ネオジム、ランタン、ジスプロシウム、イットリウム及びガリウムのフッ化物、及びこれらの混合物)が高屈折率材料としての使用に好ましい金属フッ化物であり、フッ化ランタン(ＬａＦ_３)及びフッ化ガドリニウム(ＧｄＦ_３)が特に好ましい。フッ化アルミニウム(ＡｌＦ_３)及びアルカリ土類金属フッ化物(カルシウム、マグネシウム、バリウム及びストロンチウムのフッ化物)が好ましい低屈折率材料であり、フッ化マグネシウム(ＭｇＦ_２)が好ましいアルカリ土類金属フッ化物である。
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【課題】指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムおよびそれを用いた部材を提供する。
【解決手段】基材２の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層４，６および波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層５を含む薄膜層３を有し、前記薄膜層３の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ Ｚ ８７２９に準拠）の色差ΔＥ^＊_ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）^２＋（Δａ＊）^２＋（Δｂ＊）^２｝^１／２）が５以下であることを特徴とする光学薄膜フィルム。該フィルムを具備する耐指紋痕用途部材。 （もっと読む）

【課題】最表面の硬度が高く耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜、及び透光部材、並びに反射防止膜の形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｈを添加したＤＬＣであるＨ−ＤＬＣ膜である。反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｈを添加したＤＬＣであるＨ−ＤＬＣ膜を形成する最表面形成工程を有し、当該最表面形成工程において、Ｈ−ＤＬＣ膜を、ＥＣＲプラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマＣＶＤによって形成する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、屈折率が１．２〜１．４５である低屈折物質および屈折率が１．４６〜２である高屈折樹脂を含み、前記低屈折物質と高屈折物質の表面エネルギ差が５ｍＮ／ｍ以上である反射防止コーティング組成物、これを用いて製造した反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。本発明によれば、優れた耐摩耗性および反射防止機能を有する反射防止フィルムを単一な組成物を用いて１回のコーティング工程によって製造することができるので製造費用が節減される効果がある。 （もっと読む）

【課題】耐久性であり、反射防止面自身よりも汚れにくく清浄にするのも容易である反射防止面上の保護コーティング剤を提供する。
【解決手段】反射防止面、特に反射防止フィルムスタックの外面に適用する防汚コーティング層であって、前記防汚コーティング層はフッ素化シロキサン、好ましくは次式：


の式中フッ素化シランのコーティング組成物を適用することで生成するフッ素化シロキサンであり：Ｒ_fは任意に１つ以上のヘテロ原子を含む全フッ素化基であり；Ｒ¹は１つ以上のヘテロ原子で置換されるかまたは官能基で置換されるかした、約２〜約１６個の炭素原子を含有する二価のアルキレン基、アリーレン基、またはそれらの混合物であり；Ｒ²は低級アルキル基であり；Ｘはハロゲン、低級アルコキシ基、またはアシルオキシ基であり；ｘは０または１である防汚コーティング層。 （もっと読む）

【課題】撥水性、撥油性、防汚性等の機能を付与した高性能な反射防止膜を得る。
【解決手段】ガラスから成る基板１上に、１層目として無機系酸化膜２を成膜する。この無機系酸化膜２上の２層目には、無機系酸化膜３を成膜する。無機系酸化膜３上の３層目には、無機系被膜４のフッ化化合物として、ＭｇＦ₂膜を成膜する。更に、最表層の最も外気側に位置する４層目には、有機系被膜５としてフッ素含有有機化合物を成膜することにより、４層構造から成る多層膜６を形成する。最表層に有機系被膜５として、フッ素含有有機化合物を成膜することにより、撥水性、撥油性、防汚性等の機能を付与した高性能な反射防止膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性ないしは耐環境性に優れるとともに良好な光学特性を備えた赤外用多層膜を提供する。
【解決手段】赤外光学用基板２、１２に形成される赤外用多層膜３、１３。この赤外用多層膜３、１３は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層４、１４、この低屈折層４、１４よりも屈折率の高い中間屈折層５、１５、この中間屈折層５、１５よりも屈折率の高い高屈折層６、１６、中間屈折層７、１７、低屈折層８、１８、及び非酸化物材料からなる保護層９、１９がこの順に積層された積層体からなっている。前記低屈折層４、１４、８、１８はフッ化物膜からなり、前記中間屈折層５、１５、７、１７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ前記高屈折層６、１６はＧｅ膜からなる。
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【課題】本発明は、均一な防眩処理を施し難い形状のディスプレイ画面等の物体に対しても、簡単に良好な防眩性と高コントラストを示す防眩処理が出来る転写用防眩性シートを提供することを課題とする。
【解決手段】基材より、離型層、ハードコート層、接着層を順次積層した構成からなる防眩性ハードコート層を転写する転写用防眩性シートであって、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイル基を分子内に有する化合物（Ａ）と、粒径１μｍ〜１０μｍの微粒子（Ｂ）を含み、かつ、該ハードコート層全体の屈折率と微粒子（Ｂ）の屈折率との差が０．０１未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定して真空蒸着により機能層を形成することが出来る光学フィルムの製造方法、また、例えばＭｇＦ₂のような通常プラスチック基材に成膜した際に機械強度や耐薬品性が弱い材料に対し、機械強度や耐薬品性を向上させる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フィルム状基材（９）上に光学機能層を備える光学フィルムの製造方法であって、蒸着容器（６）に蒸着材料（７）を設置し、真空装置内で該蒸着容器（６）中の蒸着材料（７）を電子線により表面を加熱し、蒸着材料（７）表面を溶解させた後再び固形化させる工程と、表面が再固形化した蒸着容器（６）中の蒸着材料（７）を蒸着源とし、真空装置内で電子線加熱式真空蒸着法により前記基材（９）上にロール・ツー・ロール方式により機能層を基材（９）上に連続して形成する工程とを備えることを特徴とする光学フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 表面へイズが高い（１２％以上３５％以下程度）防眩ハードコート層に、乾式成膜法である真空成膜法を用いて無機の低屈折率層を成膜することで、精度の高い反射防止積層体を安価で大量に生産することを課題とする。
【解決手段】 屈折率が１．３６以上１．４３以下であるＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＡｌＦ_３のいずれか、もしくは、それらの混合材料を用いて低屈折率層を真空成膜法により形成し、物理膜厚を８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＦ_２等の金属フッ化物をターゲットとしスパッタリング法で成膜するにあたり、光吸収がなくかつ十分な機械的強度を有する薄膜を、ターゲット材料を繰り返し使用することによりエロージョン形状が変化しても、膜厚再現性良く作製可能にする成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲット６とし、放電ガスを成膜室２に導入しながら高周波電力をターゲットに投入してプラズマ１４を発生させ、スパッタリング法で基板３に成膜する成膜方法において、プラズマ発光強度を第１の計測器４１で計測し、その計測結果をフィードバックして放電ガスの成膜室への導入量を調整する工程と、成膜室でのスパッタリング粒子の成膜速度を第２の計測器４２で計測し、その計測結果をフィードバックしてターゲットに投入する高周波電力を調整する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学系内の所定の光学部材に付着した汚染物質を迅速に除去できる汚染物質除去方法である。
【解決手段】光学系内の光学部材の表面に付着した汚染物質を除去するための汚染物質除去方法であって、前記光学系の所定の光学特性を計測し、この計測結果に基づいて前記光学部材に付着した汚染物質を除去するかどうかを判定する第１工程と、所定の洗浄液を用いて、前記光学部材に付着した汚染物質を除去する第２工程と、前記洗浄液を前記光学部材から除去する第３工程と、前記光学部材に残存する汚染物質に関する情報を求める第４工程とを有する。 （もっと読む）