光学多層膜フィルタの除電機能。
【課題】最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに光学ローパスフィルタからの静電気を除去する。
【解決手段】水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層して複層にし、最終層のｎ層に低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層する。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。
【解決手段】水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層して複層にし、最終層のｎ層に低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層する。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は例えば水晶からなる光学ローパスフィルタ（OLPF：Optical
Low Pass Filter）の表面に形成する光学多層膜フィルタの帯電を除去する方法として、光学多層膜フィルタの表面に金属膜を形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、デジタルビデオカメラやディジタルカメラの固体撮像素子であるＣＣＤ（Charge Coupled
Device）センサまたはＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide
Semiconductor）センサの前面にはガラス基板又は水晶基板などで構成された光学ローパスフィルタを設置している。光学的ローパスフィルタは、低い周波数成分を通し、高周波成分をカットすることで、主として輝度差が大きい細かな模様をボカしている。例えば、固体撮像素子は規則正しく並んだ細かい模様を撮影すると干渉縞（モアレ）が発生し、また逆光に輝く髪の毛など、輝度差が激しい輪郭部分は偽色（色モアレ）と呼ばれる色づきが発生してしまう。このため、光学ローパスフィルタはこうした干渉縞や偽色を低減するために、画像をわずかにボカすことでエッジを鈍らせ、干渉縞と偽色とを除去している。
【０００３】
また、こうした光学ローパスフィルタの前面又は後面には、光学多層膜フィルタを設置している。光学多層膜フィルタは赤外線感度の良い固体撮像素子をより人間の視覚に近づけるために赤外線を除去して、人間が感じる可視光領域だけを通過させる役目をしている。光学ローパスフィルタの基板はガラス基板又は水晶基板であるため、その圧電効果により帯電し、光学ローパスフィルタが帯電すると、その表面の光学多層膜フィルタも帯電する。帯電した光学多層膜フィルタはゴミを吸着しやすくなり、特にレンズ交換式のデジタル一眼レフカメラにおいて、レンズ交換を行うたびに外気に触れ、外気中のチリ、ホコリなどのゴミを吸着しやすくなる。また、付着したゴミは帯電しているために、除去も難しくなる。
【０００４】
特許文献１では光学多層膜フィルタの最終層に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）を蒸着させ、光学多層膜フィルタの表面を導電体で形成する方法で帯電を除去していた。ＩＴＯは可視光の透過率が約９０％あり、膜の光学特性を変化させない方法と用いられてきた。
【特許文献１】特開２００７−２９８９５１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ＩＴＯを蒸着する方法は屈折率の高い誘電体膜と低い誘電体膜とを交互に積層した最後にＩＴＯを蒸着させるため、蒸着層内を汚し、光学多層膜フィルタの特性を劣化させる問題がある。また、インジウムＩｎは希少金属であり、ＩＴＯが液晶パネルや有機ＥＬなどのＦＰＤ（フラット・パネル・ディスプレイ）に広く使われ、価格の高騰と将来の供給不足とが心配される。
【０００６】
本発明の目的は、ＩＴＯに代わる光学多層膜フィルタを形成することにより、光学多層膜フィルタの表面に導電性を持たせ、光学ローパスフィルタからの静電気を除去することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の観点の光学多層膜フィルタは、高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した光学多層膜フィルタである。そして、高屈折率材料及び低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に形成する。
この構成により、ＩＴＯを使用することなく導電性の高い光学多層膜フィルタを提供することができ、この光学多層膜フィルタは静電気が溜まることがなくゴミ、ホコリなどが付着することがない。
【０００８】
第２の観点の光学多層膜フィルタは、可視光を透過し赤外光を反射させる赤外線カットフィルタを含む。
特にカメラなどの画像撮像装置などに使用される赤外線カットフィルタに対して帯電防止が達成できると、ゴミ、ホコリの影響が少なくなり効果が大きい。
【０００９】
第３の観点の光学多層膜フィルタは、高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜は酸化物であり、最終層の蒸着材料が非酸化物である。
非酸化物である最終層の蒸着材料の一部が、酸化物である高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜と結びついて金属膜となり導電性の高いフィルタとしての役目を成す。
【００１０】
第４の観点の光学多層膜フィルタにおいて、最終層の蒸着材料は、高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層の蒸着材料の一部が酸化金属膜となる。
この構成により、フィルタに対して帯電防止が達成できる。
【００１１】
第５の観点の光学多層膜フィルタの高屈折率薄膜は、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれか、又はＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、低屈折率薄膜は、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３のいずれか、又はＬａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との複合酸化物から成る酸化物である。
これらの材料が高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜として適用できる。
【００１２】
第６の観点の光学多層膜フィルタの最終層の蒸着材料は、ＭｇＦ２又はＬｉＦである。
ＭｇＦ２又はＬｉＦは原子量の小さく、高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜に入り込む。
【００１３】
第７の観点の光学多層膜フィルタの透明基板が、ガラス基板又は水晶基板である。
ガラス基板又は水晶基板が光学フィルタとして適している。
【００１４】
第８の観点の光学多層膜フィルタの製造方法は、透明基板上に高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とを交互に複数積層する第１蒸着工程と、高屈折率材料及び低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に蒸着する第２蒸着工程と、第１蒸着工程と第２蒸着工程との間に小さな原子量で組成された蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくする抑制工程と、を備えた。
抑制工程を設けることで、小さな原子量で組成された蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくなり、光学多層膜フィルタを製造することができる。
【００１５】
第９の観点の光学多層膜フィルタの製造方法の抑制工程は、高屈折率材料及び低屈折率材料に水分を吸収させる工程である。
高屈折率材料及び低屈折率材料に水分が吸収されることにより、蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくなる。
【００１６】
第１０の観点の光学多層膜フィルタの製造方法において、第１蒸着工程では真空蒸着により高屈折率薄膜と低屈折率薄膜とを交互に形成し、抑制工程では真空蒸着を大気開放し、第２蒸着工程では再び真空蒸着により蒸着材料を蒸着する。
大気開放することで、大気中に含まれる水分（水蒸気）が高屈折率材料及び低屈折率材料に吸収される。このため大気開放という簡単な作業で導電性のよい光学多層膜フィルタを製造することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光学多層膜フィルタは最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに金属膜を形成することで光学ローパスフィルタからの静電気を除去することにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
＜＜実施例１＞＞
本発明の光学多層膜フィルタ３０は光学ローパスフィルタである水晶基板２０の表面に高い屈折率の酸化物と、低い屈折率の酸化物とを積層し、最終層に低い屈折率の非酸化物を積層することで、除電機能のもつ光学多層膜フィルタ３０を提供する。例えば、光学多層膜フィルタ３０は屈折率の高い材料として二酸化チタン（ＴｉＯ２）３２を用い、屈折率の低い材料として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）３３を用いている。光学多層膜フィルタ３０は高屈折材料と低屈折材料とを２０層から６０層重ねることで、赤外線を除去し、最終層にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）３１を積層することで、帯電を除去する。
【００１９】
＜光学多層膜フィルタ３０の製造方法＞
光学多層膜フィルタ３０は温度や湿度の変化に対する光学特性の変化が少ない、安定な薄膜形成が求められる。このため、光学多層膜フィルタ３０はイオンアシスト蒸着（IAD：Ion Assisted Deposition）などの手法を用いて薄膜を形成している。イオンアシスト蒸着装置１０は図１に示すような構成により、均一で安定な光学多層膜フィルタ３０を形成している。
【００２０】
図１で示すように、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９の容器で囲まれ、イオンアシストするためのイオン源１３を備えている。イオン源は蒸発物質にイオン２２が運動エネルギーを与え、堆積する膜の結晶構造をアモルファス化する。アモルファス化することは薄膜の密度を向上させ、外気中においても波長シフトの起こりにくい特性を得ることができる。
【００２１】
また、イオンアシスト蒸着装置１０は照射したイオン２２（＋）で薄膜に電荷が蓄積するため、中和器１４で電子２３（−）を照射し、電荷の蓄積を防止している。
【００２２】
また、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９内で高い屈折率の蒸発物質を飛散させる第１蒸発源１１と、低い屈折率の蒸発物質を飛散させる第２蒸発源１２とを備えている。各蒸発源の上部にはシャッタ１６があり、シャッタ１６の上部には基板ドーム１５が設置されている。基板ドーム１５の内側には水晶基板２０を配置し、基板ドーム１５を回転させることで、水晶基板２０に蒸発物質２１が均一に堆積することができる。
【００２３】
イオンアシスト蒸着装置１０の第１蒸着工程では第１蒸発源１１と第２蒸発源１２とに電子銃１７で電子を照射することで、各蒸発源の物質を蒸発させ、上部のシャッタ１６を交互に、また所定の時間開けることで、第１蒸発源１１と第２蒸発源１２との材料を所定の厚みに積層することができる。例えば第１蒸発源１１には二酸化チタン３２を入れ、第２蒸発源１２に二酸化ケイ素３３を入れる。なお、二酸化チタン３２の成膜時には酸素ガスを供給しながら蒸着させる。
【００２４】
イオンアシスト蒸着装置１０の第２蒸着工程では、第１蒸発源１１に代えて第３蒸発源（図示せず）を配置し、第３蒸発源にフッ化マグネシウム３１を入れて電子銃１７で電子を照射することでにフッ化マグネシウム３１を蒸発させて、水晶基板２０の最上膜を形成する。
【００２５】
イオンアシスト蒸着装置１０の真空チャンバ１９は第１蒸着工程で常に真空引きし続け、二酸化チタン３２と二酸化ケイ素３３とを積層する。第１蒸着工程の終了後にイオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９を一旦大気開放し、その後第２蒸着工程を開始する。大気開放することで大気中の水分（水蒸気）が真空チャンバ１９内に入り、基板ドーム１５に取り付けられた水晶基板２０に水分が吸収される。第２蒸着工程を開始するにあたり、再度、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９を真空引きし続け、フッ化マグネシウム３１を積層する。
【００２６】
第１蒸着工程後に真空チャンバ１９を大気開放することは、第１蒸着工程の二酸化ケイ素層と二酸化チタン層とに水分が入り込み、第２蒸着工程のマグネシウムＭｇが適量に二酸化ケイ素層と二酸化チタン層とに入り込む効果がある。
【００２７】
＜光学多層膜フィルタ３０の構成＞
光学多層膜フィルタ３０の光透過率は透明薄膜の屈折率と薄厚の積で決まるため、所望する赤外線を反射するように屈折率と薄厚と積層数とを設計する。一般的に薄厚は波長の反射率もしくは透過率が最大になるように波長の１／４前後に設計される。
【００２８】
図２はイオンアシスト蒸着装置１０で水晶基板２０に薄膜を積層した構成図を示す。例えば、赤外線を除去するために、水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層することで複層にする。最終層のｎ層には低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層している。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。薄膜の積層数は積層方法により２０層から６０層に重ねる。
【００２９】
最終層（ｎ層）に積層したフッ化マグネシウム３１のマグネシウムＭｇは低い屈折材用や高い屈折材料より小さな原子量を持ち、また酸素と結合しやすい性質のため、下層の二酸化ケイ素層に入り込み、酸素と結合することで、一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が形成される。また、マグネシウム（Ｍｇ）は二酸化ケイ素層の下部の二酸化チタン層にも入り込み、一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が形成されることで、一酸化チタン（ＴｉＯ）が形成される。ちなみに、マグネシウム（Ｍｇ）の原子量は２４．３０５、フッ素（Ｆ）の原子量は１８．９９８、ケイ素（Ｓｉ）の原子量は２８．０８５、チタン（Ｔｉ）の原子量は４７．８６７である。
【００３０】
酸化マグネシウムと一酸化チタンとは共に金属膜であるため導電性がある。つまり、光学多層膜フィルタ３０の表面に金属膜を形成することができ、除電効果を持つことができる。
【００３１】
図３は適量にマグネシウム（Ｍｇ）が二酸化チタン層にまで入り込んだ光学多層膜フィルタ３０を調べたグラフである。図３のグラフはＸ軸に光学多層膜フィルタ３０の表面からの深さをとり、Ｙ軸に各元素の量をカウントで示している。なお、光学多層膜フィルタ３０に含まれるフッ素（Ｆ）又は酸素（Ｏ）はグラフを分かりやすくするため表示していない。
【００３２】
グラフで分かるように光学多層膜フィルタ３０の表面より５０ｎｍ付近までｎ層のマグネシウム（Ｍｇ）がピークを示し、（ｎ−２）層まで徐々に減少し、二酸化チタン層にも入り込んでいる様子が分かる。二酸化チタン層にはマグネシウム（Ｍｇ）が図３の破線枠Ａで示すように１０カウントから５０カウントの幅で混入し、一酸化マグネシウムと一酸化チタンとが形成されている。（ｎ−３）層以下にはマグネシウムＭｇが１０カウント以下になり、真空チャンバ１９内を浮遊するマグネシウム（Ｍｇ）が混入しているものと考えられる。
【００３３】
（ｎ−１）層の二酸化ケイ素層は光学多層膜フィルタ３０の表面より７０ｎｍ付近でケイ素Ｓｉのピークがあり、（ｎ−２）層では２桁程度低いカウントとなっている。また、（ｎ−２）層の二酸化チタン層のチタンＴｉは（ｎ−３）層で３桁程度低いカウントとなっており、各層の主元素が入れ替わっていることが分かる。
【００３４】
以上より、イオンアシスト蒸着装置１０は所定厚でそれぞれの物質が蒸着され、マグネシウムＭｇの特性により、適度に下層まで入り込んでいる様子が分かる。これにより光学多層膜フィルタ３０は赤外線を除去し、また金属膜を形成することができ帯電を除去することができる。
【００３５】
図４はマグネシウムＭｇが二酸化チタン層に入り込みすぎた、不良品の光学多層膜フィルタ３０を示す。図４の破線枠Ｂで示すようにマグネシウムＭｇは（ｎ−２）層の二酸化チタン層で１００カウントから２００カウント程度の量が入り込んでいるのが分かる。
【００３６】
不良品の光学多層膜フィルタ３０は第１蒸着工程で二酸化チタン３２と二酸化ケイ素３３とを積層した後に、真空状態を維持したまま、第２蒸着工程のフッ化マグネシウム３１を積層する。真空状態のまま第２蒸着工程に移ると、マグネシウムＭｇは水分に阻害されることなく二酸化チタン層までより多く入り込む。この結果、一酸化マグネシウムと一酸化チタンとがより多く形成されるため除電効果を持つことができるが、光学多層膜フィルタ３０は金属成分が増えすぎて黒くなってしまい赤外線除去フィルタの役目をなさない。
【００３７】
本実施形態の良品の光学多層膜フィルタ３０は除電性能のテストを行うと、帯電したフィルタの除電効果がよくわかる。たとえば、除電性能のテストは光学多層膜フィルタ３０をワイピングクロスなどで擦り、５００Ｖ以上の静電気を帯電させる。次に光学多層膜フィルタ３０の表面とアースとを接続すると帯電した静電気は０Ｖになり、除電されることがわかる。たとえば、第１蒸着工程終了後の光学多層膜フィルタ３０を同じ方法で除電性能のテストを行うと、第１蒸着工程終了後の光学多層膜フィルタ３０は光学多層膜フィルタ３０の表面とアースとを接続しても数百Ｖの静電気が残り、帯電が除去されてないことが分かる。
【００３８】
＜＜実施例２＞＞
実施例２は実施例１での光学多層膜フィルタ３０をデジタルスチルカメラの撮像モジュール１００に適用した場合を示す。図５はデジタルスチルカメラの撮像モジュール１００の構成図である。撮像モジュール１００は光学ローパスフィルタである水晶基板２０と、光学ローパスフィルタの前面に蒸着した光学多層膜フィルタ３０と、ＣＣＤセンサまたはＣＭＯＳセンサなどの固体撮像素子４０と、固体撮像素子４０の駆動部５０と、で構成されている。
【００３９】
入射光７０はレンズ６０を通過し、撮像モジュール１００に入射する。撮像モジュール１００に入った光は、光学多層膜フィルタ３０を通過して赤外線が除去され、光学ローパスフィルタである水晶基板２０を通過することでモアレの原因である、高周波成分が除去される。処理された入射光は固体撮像素子４０で電気信号に変換される。固体撮像素子４０は駆動部５０で駆動し画像処理部（図示せず）へ伝送する。
【００４０】
光学多層膜フィルタ３０の表面にはアースが接続され、圧電素子である水晶基板２０で帯電した静電気を除去する。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明の実施形態では光学ローパスフィルタの水晶基板に光学多層膜フィルタ３０を直接蒸着したが、ガラス基板などの他の透明基板に光学多層膜フィルタ３０を蒸着させる方法でもよい。
【００４２】
また、本発明の実施形態では高い屈折材料として、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いていたが、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の酸化物や、これらを主成分とした複合酸化物であっても良い。
【００４３】
また、本発明の実施形態では低い屈折材料として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を用いていたが、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）の酸化物や、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）との複合酸化物であっても良い。
【００４４】
また、本発明の実施形態では最終層にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を用いていたが、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を用いても良い。なお、リチウム（Ｌｉ）の原子量は６．９４１である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】イオンアシスト蒸着装置１０の構成図を示す斜視図である。
【図２】水晶基板２０に薄膜を積層した構成図である。
【図３】良品の光学多層膜フィルタ３０における薄膜の構成を調べたグラフである。
【図４】不良品の光学多層膜フィルタ３０における薄膜の構成を調べたグラフである。
【図５】デジタルスチルカメラの撮像モジュール１００の構成図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０ … イオンアシスト蒸着装置
１１ … 第１蒸発源
１２ … 第２蒸発源
１３ … イオン源
１４ … 中和器
１５ … 基板ドーム
１６ … シャッタ
１７ … 電子銃
１９ … 真空チャンバ
２０ … 水晶基板
２１ … 蒸発物質
２２ … イオン（＋）
２３ … 電子（−）
３０ … 光学多層膜フィルタ
３１ … フッ化マグネシウム
３２ … 二酸化チタン
３３ … 二酸化ケイ素
４０ … 固体撮像素子
５０ … 駆動部
１００ … 撮像モジュール
【技術分野】
【０００１】
本発明は例えば水晶からなる光学ローパスフィルタ（OLPF：Optical
Low Pass Filter）の表面に形成する光学多層膜フィルタの帯電を除去する方法として、光学多層膜フィルタの表面に金属膜を形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、デジタルビデオカメラやディジタルカメラの固体撮像素子であるＣＣＤ（Charge Coupled
Device）センサまたはＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide
Semiconductor）センサの前面にはガラス基板又は水晶基板などで構成された光学ローパスフィルタを設置している。光学的ローパスフィルタは、低い周波数成分を通し、高周波成分をカットすることで、主として輝度差が大きい細かな模様をボカしている。例えば、固体撮像素子は規則正しく並んだ細かい模様を撮影すると干渉縞（モアレ）が発生し、また逆光に輝く髪の毛など、輝度差が激しい輪郭部分は偽色（色モアレ）と呼ばれる色づきが発生してしまう。このため、光学ローパスフィルタはこうした干渉縞や偽色を低減するために、画像をわずかにボカすことでエッジを鈍らせ、干渉縞と偽色とを除去している。
【０００３】
また、こうした光学ローパスフィルタの前面又は後面には、光学多層膜フィルタを設置している。光学多層膜フィルタは赤外線感度の良い固体撮像素子をより人間の視覚に近づけるために赤外線を除去して、人間が感じる可視光領域だけを通過させる役目をしている。光学ローパスフィルタの基板はガラス基板又は水晶基板であるため、その圧電効果により帯電し、光学ローパスフィルタが帯電すると、その表面の光学多層膜フィルタも帯電する。帯電した光学多層膜フィルタはゴミを吸着しやすくなり、特にレンズ交換式のデジタル一眼レフカメラにおいて、レンズ交換を行うたびに外気に触れ、外気中のチリ、ホコリなどのゴミを吸着しやすくなる。また、付着したゴミは帯電しているために、除去も難しくなる。
【０００４】
特許文献１では光学多層膜フィルタの最終層に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）を蒸着させ、光学多層膜フィルタの表面を導電体で形成する方法で帯電を除去していた。ＩＴＯは可視光の透過率が約９０％あり、膜の光学特性を変化させない方法と用いられてきた。
【特許文献１】特開２００７−２９８９５１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ＩＴＯを蒸着する方法は屈折率の高い誘電体膜と低い誘電体膜とを交互に積層した最後にＩＴＯを蒸着させるため、蒸着層内を汚し、光学多層膜フィルタの特性を劣化させる問題がある。また、インジウムＩｎは希少金属であり、ＩＴＯが液晶パネルや有機ＥＬなどのＦＰＤ（フラット・パネル・ディスプレイ）に広く使われ、価格の高騰と将来の供給不足とが心配される。
【０００６】
本発明の目的は、ＩＴＯに代わる光学多層膜フィルタを形成することにより、光学多層膜フィルタの表面に導電性を持たせ、光学ローパスフィルタからの静電気を除去することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の観点の光学多層膜フィルタは、高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した光学多層膜フィルタである。そして、高屈折率材料及び低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に形成する。
この構成により、ＩＴＯを使用することなく導電性の高い光学多層膜フィルタを提供することができ、この光学多層膜フィルタは静電気が溜まることがなくゴミ、ホコリなどが付着することがない。
【０００８】
第２の観点の光学多層膜フィルタは、可視光を透過し赤外光を反射させる赤外線カットフィルタを含む。
特にカメラなどの画像撮像装置などに使用される赤外線カットフィルタに対して帯電防止が達成できると、ゴミ、ホコリの影響が少なくなり効果が大きい。
【０００９】
第３の観点の光学多層膜フィルタは、高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜は酸化物であり、最終層の蒸着材料が非酸化物である。
非酸化物である最終層の蒸着材料の一部が、酸化物である高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜と結びついて金属膜となり導電性の高いフィルタとしての役目を成す。
【００１０】
第４の観点の光学多層膜フィルタにおいて、最終層の蒸着材料は、高屈折率薄膜及び低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層の蒸着材料の一部が酸化金属膜となる。
この構成により、フィルタに対して帯電防止が達成できる。
【００１１】
第５の観点の光学多層膜フィルタの高屈折率薄膜は、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれか、又はＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、低屈折率薄膜は、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３のいずれか、又はＬａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との複合酸化物から成る酸化物である。
これらの材料が高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜として適用できる。
【００１２】
第６の観点の光学多層膜フィルタの最終層の蒸着材料は、ＭｇＦ２又はＬｉＦである。
ＭｇＦ２又はＬｉＦは原子量の小さく、高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜に入り込む。
【００１３】
第７の観点の光学多層膜フィルタの透明基板が、ガラス基板又は水晶基板である。
ガラス基板又は水晶基板が光学フィルタとして適している。
【００１４】
第８の観点の光学多層膜フィルタの製造方法は、透明基板上に高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とを交互に複数積層する第１蒸着工程と、高屈折率材料及び低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に蒸着する第２蒸着工程と、第１蒸着工程と第２蒸着工程との間に小さな原子量で組成された蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくする抑制工程と、を備えた。
抑制工程を設けることで、小さな原子量で組成された蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくなり、光学多層膜フィルタを製造することができる。
【００１５】
第９の観点の光学多層膜フィルタの製造方法の抑制工程は、高屈折率材料及び低屈折率材料に水分を吸収させる工程である。
高屈折率材料及び低屈折率材料に水分が吸収されることにより、蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくなる。
【００１６】
第１０の観点の光学多層膜フィルタの製造方法において、第１蒸着工程では真空蒸着により高屈折率薄膜と低屈折率薄膜とを交互に形成し、抑制工程では真空蒸着を大気開放し、第２蒸着工程では再び真空蒸着により蒸着材料を蒸着する。
大気開放することで、大気中に含まれる水分（水蒸気）が高屈折率材料及び低屈折率材料に吸収される。このため大気開放という簡単な作業で導電性のよい光学多層膜フィルタを製造することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光学多層膜フィルタは最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに金属膜を形成することで光学ローパスフィルタからの静電気を除去することにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
＜＜実施例１＞＞
本発明の光学多層膜フィルタ３０は光学ローパスフィルタである水晶基板２０の表面に高い屈折率の酸化物と、低い屈折率の酸化物とを積層し、最終層に低い屈折率の非酸化物を積層することで、除電機能のもつ光学多層膜フィルタ３０を提供する。例えば、光学多層膜フィルタ３０は屈折率の高い材料として二酸化チタン（ＴｉＯ２）３２を用い、屈折率の低い材料として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）３３を用いている。光学多層膜フィルタ３０は高屈折材料と低屈折材料とを２０層から６０層重ねることで、赤外線を除去し、最終層にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）３１を積層することで、帯電を除去する。
【００１９】
＜光学多層膜フィルタ３０の製造方法＞
光学多層膜フィルタ３０は温度や湿度の変化に対する光学特性の変化が少ない、安定な薄膜形成が求められる。このため、光学多層膜フィルタ３０はイオンアシスト蒸着（IAD：Ion Assisted Deposition）などの手法を用いて薄膜を形成している。イオンアシスト蒸着装置１０は図１に示すような構成により、均一で安定な光学多層膜フィルタ３０を形成している。
【００２０】
図１で示すように、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９の容器で囲まれ、イオンアシストするためのイオン源１３を備えている。イオン源は蒸発物質にイオン２２が運動エネルギーを与え、堆積する膜の結晶構造をアモルファス化する。アモルファス化することは薄膜の密度を向上させ、外気中においても波長シフトの起こりにくい特性を得ることができる。
【００２１】
また、イオンアシスト蒸着装置１０は照射したイオン２２（＋）で薄膜に電荷が蓄積するため、中和器１４で電子２３（−）を照射し、電荷の蓄積を防止している。
【００２２】
また、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９内で高い屈折率の蒸発物質を飛散させる第１蒸発源１１と、低い屈折率の蒸発物質を飛散させる第２蒸発源１２とを備えている。各蒸発源の上部にはシャッタ１６があり、シャッタ１６の上部には基板ドーム１５が設置されている。基板ドーム１５の内側には水晶基板２０を配置し、基板ドーム１５を回転させることで、水晶基板２０に蒸発物質２１が均一に堆積することができる。
【００２３】
イオンアシスト蒸着装置１０の第１蒸着工程では第１蒸発源１１と第２蒸発源１２とに電子銃１７で電子を照射することで、各蒸発源の物質を蒸発させ、上部のシャッタ１６を交互に、また所定の時間開けることで、第１蒸発源１１と第２蒸発源１２との材料を所定の厚みに積層することができる。例えば第１蒸発源１１には二酸化チタン３２を入れ、第２蒸発源１２に二酸化ケイ素３３を入れる。なお、二酸化チタン３２の成膜時には酸素ガスを供給しながら蒸着させる。
【００２４】
イオンアシスト蒸着装置１０の第２蒸着工程では、第１蒸発源１１に代えて第３蒸発源（図示せず）を配置し、第３蒸発源にフッ化マグネシウム３１を入れて電子銃１７で電子を照射することでにフッ化マグネシウム３１を蒸発させて、水晶基板２０の最上膜を形成する。
【００２５】
イオンアシスト蒸着装置１０の真空チャンバ１９は第１蒸着工程で常に真空引きし続け、二酸化チタン３２と二酸化ケイ素３３とを積層する。第１蒸着工程の終了後にイオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９を一旦大気開放し、その後第２蒸着工程を開始する。大気開放することで大気中の水分（水蒸気）が真空チャンバ１９内に入り、基板ドーム１５に取り付けられた水晶基板２０に水分が吸収される。第２蒸着工程を開始するにあたり、再度、イオンアシスト蒸着装置１０は真空チャンバ１９を真空引きし続け、フッ化マグネシウム３１を積層する。
【００２６】
第１蒸着工程後に真空チャンバ１９を大気開放することは、第１蒸着工程の二酸化ケイ素層と二酸化チタン層とに水分が入り込み、第２蒸着工程のマグネシウムＭｇが適量に二酸化ケイ素層と二酸化チタン層とに入り込む効果がある。
【００２７】
＜光学多層膜フィルタ３０の構成＞
光学多層膜フィルタ３０の光透過率は透明薄膜の屈折率と薄厚の積で決まるため、所望する赤外線を反射するように屈折率と薄厚と積層数とを設計する。一般的に薄厚は波長の反射率もしくは透過率が最大になるように波長の１／４前後に設計される。
【００２８】
図２はイオンアシスト蒸着装置１０で水晶基板２０に薄膜を積層した構成図を示す。例えば、赤外線を除去するために、水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層することで複層にする。最終層のｎ層には低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層している。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。薄膜の積層数は積層方法により２０層から６０層に重ねる。
【００２９】
最終層（ｎ層）に積層したフッ化マグネシウム３１のマグネシウムＭｇは低い屈折材用や高い屈折材料より小さな原子量を持ち、また酸素と結合しやすい性質のため、下層の二酸化ケイ素層に入り込み、酸素と結合することで、一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が形成される。また、マグネシウム（Ｍｇ）は二酸化ケイ素層の下部の二酸化チタン層にも入り込み、一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が形成されることで、一酸化チタン（ＴｉＯ）が形成される。ちなみに、マグネシウム（Ｍｇ）の原子量は２４．３０５、フッ素（Ｆ）の原子量は１８．９９８、ケイ素（Ｓｉ）の原子量は２８．０８５、チタン（Ｔｉ）の原子量は４７．８６７である。
【００３０】
酸化マグネシウムと一酸化チタンとは共に金属膜であるため導電性がある。つまり、光学多層膜フィルタ３０の表面に金属膜を形成することができ、除電効果を持つことができる。
【００３１】
図３は適量にマグネシウム（Ｍｇ）が二酸化チタン層にまで入り込んだ光学多層膜フィルタ３０を調べたグラフである。図３のグラフはＸ軸に光学多層膜フィルタ３０の表面からの深さをとり、Ｙ軸に各元素の量をカウントで示している。なお、光学多層膜フィルタ３０に含まれるフッ素（Ｆ）又は酸素（Ｏ）はグラフを分かりやすくするため表示していない。
【００３２】
グラフで分かるように光学多層膜フィルタ３０の表面より５０ｎｍ付近までｎ層のマグネシウム（Ｍｇ）がピークを示し、（ｎ−２）層まで徐々に減少し、二酸化チタン層にも入り込んでいる様子が分かる。二酸化チタン層にはマグネシウム（Ｍｇ）が図３の破線枠Ａで示すように１０カウントから５０カウントの幅で混入し、一酸化マグネシウムと一酸化チタンとが形成されている。（ｎ−３）層以下にはマグネシウムＭｇが１０カウント以下になり、真空チャンバ１９内を浮遊するマグネシウム（Ｍｇ）が混入しているものと考えられる。
【００３３】
（ｎ−１）層の二酸化ケイ素層は光学多層膜フィルタ３０の表面より７０ｎｍ付近でケイ素Ｓｉのピークがあり、（ｎ−２）層では２桁程度低いカウントとなっている。また、（ｎ−２）層の二酸化チタン層のチタンＴｉは（ｎ−３）層で３桁程度低いカウントとなっており、各層の主元素が入れ替わっていることが分かる。
【００３４】
以上より、イオンアシスト蒸着装置１０は所定厚でそれぞれの物質が蒸着され、マグネシウムＭｇの特性により、適度に下層まで入り込んでいる様子が分かる。これにより光学多層膜フィルタ３０は赤外線を除去し、また金属膜を形成することができ帯電を除去することができる。
【００３５】
図４はマグネシウムＭｇが二酸化チタン層に入り込みすぎた、不良品の光学多層膜フィルタ３０を示す。図４の破線枠Ｂで示すようにマグネシウムＭｇは（ｎ−２）層の二酸化チタン層で１００カウントから２００カウント程度の量が入り込んでいるのが分かる。
【００３６】
不良品の光学多層膜フィルタ３０は第１蒸着工程で二酸化チタン３２と二酸化ケイ素３３とを積層した後に、真空状態を維持したまま、第２蒸着工程のフッ化マグネシウム３１を積層する。真空状態のまま第２蒸着工程に移ると、マグネシウムＭｇは水分に阻害されることなく二酸化チタン層までより多く入り込む。この結果、一酸化マグネシウムと一酸化チタンとがより多く形成されるため除電効果を持つことができるが、光学多層膜フィルタ３０は金属成分が増えすぎて黒くなってしまい赤外線除去フィルタの役目をなさない。
【００３７】
本実施形態の良品の光学多層膜フィルタ３０は除電性能のテストを行うと、帯電したフィルタの除電効果がよくわかる。たとえば、除電性能のテストは光学多層膜フィルタ３０をワイピングクロスなどで擦り、５００Ｖ以上の静電気を帯電させる。次に光学多層膜フィルタ３０の表面とアースとを接続すると帯電した静電気は０Ｖになり、除電されることがわかる。たとえば、第１蒸着工程終了後の光学多層膜フィルタ３０を同じ方法で除電性能のテストを行うと、第１蒸着工程終了後の光学多層膜フィルタ３０は光学多層膜フィルタ３０の表面とアースとを接続しても数百Ｖの静電気が残り、帯電が除去されてないことが分かる。
【００３８】
＜＜実施例２＞＞
実施例２は実施例１での光学多層膜フィルタ３０をデジタルスチルカメラの撮像モジュール１００に適用した場合を示す。図５はデジタルスチルカメラの撮像モジュール１００の構成図である。撮像モジュール１００は光学ローパスフィルタである水晶基板２０と、光学ローパスフィルタの前面に蒸着した光学多層膜フィルタ３０と、ＣＣＤセンサまたはＣＭＯＳセンサなどの固体撮像素子４０と、固体撮像素子４０の駆動部５０と、で構成されている。
【００３９】
入射光７０はレンズ６０を通過し、撮像モジュール１００に入射する。撮像モジュール１００に入った光は、光学多層膜フィルタ３０を通過して赤外線が除去され、光学ローパスフィルタである水晶基板２０を通過することでモアレの原因である、高周波成分が除去される。処理された入射光は固体撮像素子４０で電気信号に変換される。固体撮像素子４０は駆動部５０で駆動し画像処理部（図示せず）へ伝送する。
【００４０】
光学多層膜フィルタ３０の表面にはアースが接続され、圧電素子である水晶基板２０で帯電した静電気を除去する。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明の実施形態では光学ローパスフィルタの水晶基板に光学多層膜フィルタ３０を直接蒸着したが、ガラス基板などの他の透明基板に光学多層膜フィルタ３０を蒸着させる方法でもよい。
【００４２】
また、本発明の実施形態では高い屈折材料として、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いていたが、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）の酸化物や、これらを主成分とした複合酸化物であっても良い。
【００４３】
また、本発明の実施形態では低い屈折材料として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を用いていたが、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）の酸化物や、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）との複合酸化物であっても良い。
【００４４】
また、本発明の実施形態では最終層にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を用いていたが、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を用いても良い。なお、リチウム（Ｌｉ）の原子量は６．９４１である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】イオンアシスト蒸着装置１０の構成図を示す斜視図である。
【図２】水晶基板２０に薄膜を積層した構成図である。
【図３】良品の光学多層膜フィルタ３０における薄膜の構成を調べたグラフである。
【図４】不良品の光学多層膜フィルタ３０における薄膜の構成を調べたグラフである。
【図５】デジタルスチルカメラの撮像モジュール１００の構成図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０ … イオンアシスト蒸着装置
１１ … 第１蒸発源
１２ … 第２蒸発源
１３ … イオン源
１４ … 中和器
１５ … 基板ドーム
１６ … シャッタ
１７ … 電子銃
１９ … 真空チャンバ
２０ … 水晶基板
２１ … 蒸発物質
２２ … イオン（＋）
２３ … 電子（−）
３０ … 光学多層膜フィルタ
３１ … フッ化マグネシウム
３２ … 二酸化チタン
３３ … 二酸化ケイ素
４０ … 固体撮像素子
５０ … 駆動部
１００ … 撮像モジュール
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した光学多層膜フィルタであって、
前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に形成することを特徴とする光学多層膜フィルタ。
【請求項２】
前記光学多層膜フィルタは、可視光を透過し赤外光を反射させる赤外線カットフィルタを含むことを特徴とする光学多層膜フィルタ。
【請求項３】
前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜は酸化物であり、最終層の蒸着材料が非酸化物であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項４】
前記最終層の蒸着材料は、前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層の蒸着材料の一部が酸化金属膜となることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項５】
前記高屈折率薄膜は、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれか、又はＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、前記低屈折率薄膜は、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３のいずれか、又はＬａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との複合酸化物から成る酸化物であることを特徴とする請求項３に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項６】
前記最終層の蒸着材料は、ＭｇＦ２又はＬｉＦであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項７】
前記透明基板が、ガラス基板又は水晶基板であることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項８】
透明基板上に高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とを交互に複数積層する第１蒸着工程と、
前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に蒸着する第２蒸着工程と、
前記第１蒸着工程と前記第２蒸着工程との間に、小さな原子量で組成された蒸着材料が前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料に入り込みにくくする抑制工程と、
を備えたことを特徴とする光学多層膜フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記抑制工程は、前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料に水分を吸収させる工程であることを特徴とする請求項８に記載の光学多層膜フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記第１蒸着工程では、真空蒸着により高屈折率薄膜と低屈折率薄膜とを交互に形成し、
前記抑制工程では、前記真空蒸着を大気開放し、
前記第２蒸着工程では、再び真空蒸着により前記蒸着材料を蒸着することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光学多層膜フィルタの製造方法。
【請求項１】
高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した光学多層膜フィルタであって、
前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に形成することを特徴とする光学多層膜フィルタ。
【請求項２】
前記光学多層膜フィルタは、可視光を透過し赤外光を反射させる赤外線カットフィルタを含むことを特徴とする光学多層膜フィルタ。
【請求項３】
前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜は酸化物であり、最終層の蒸着材料が非酸化物であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項４】
前記最終層の蒸着材料は、前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層の蒸着材料の一部が酸化金属膜となることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項５】
前記高屈折率薄膜は、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれか、又はＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、前記低屈折率薄膜は、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３のいずれか、又はＬａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との複合酸化物から成る酸化物であることを特徴とする請求項３に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項６】
前記最終層の蒸着材料は、ＭｇＦ２又はＬｉＦであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項７】
前記透明基板が、ガラス基板又は水晶基板であることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
【請求項８】
透明基板上に高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とを交互に複数積層する第１蒸着工程と、
前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料よりも小さな原子量で組成された蒸着材料を最終層に蒸着する第２蒸着工程と、
前記第１蒸着工程と前記第２蒸着工程との間に、小さな原子量で組成された蒸着材料が前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料に入り込みにくくする抑制工程と、
を備えたことを特徴とする光学多層膜フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記抑制工程は、前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料に水分を吸収させる工程であることを特徴とする請求項８に記載の光学多層膜フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記第１蒸着工程では、真空蒸着により高屈折率薄膜と低屈折率薄膜とを交互に形成し、
前記抑制工程では、前記真空蒸着を大気開放し、
前記第２蒸着工程では、再び真空蒸着により前記蒸着材料を蒸着することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光学多層膜フィルタの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−１４５７１０（Ｐ２００９−１４５７１０Ａ）
【公開日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３２４２２７（Ｐ２００７−３２４２２７）
【出願日】平成１９年１２月１７日（２００７．１２．１７）
【出願人】（０００２３２４８３）日本電波工業株式会社 (1,148)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月１７日（２００７．１２．１７）
【出願人】（０００２３２４８３）日本電波工業株式会社 (1,148)
【Ｆターム（参考）】
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