【課題】純金属ターゲットで反応性スパッタリング方法を用いて作製されたフッ化物及びフッ素をドープした酸化物薄膜を提供する。
【解決手段】純金属のターゲット材料２を用い、反応性スパッタリング方法により作製された、高屈折率のフッ素ドープ酸化金属薄膜及び低屈折率のフッ化金属薄膜を備える深紫外光メッキ膜４であって、フッ素ドープ酸化金属薄膜は、ターゲット材料２からはじき飛ばされた金属原子が酸素ガスと結合することにより、金属酸化物が形成され、その金属酸化物が、フッ素を含むガスからはじき飛ばされたフッ素（Ｆ）イオンとフッ素（Ｆ）励起態原子と反応して堆積して形成されものである。また、フッ化金属薄膜は、フッ素を含むガスを励起してはじき飛ばされたフッ素（Ｆ）イオンとフッ素（Ｆ）励起態原子がターゲット材料に衝突し、金属原子がはじき飛ばされ、その金属原子と反応して堆積して形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法によってＭｇＦ_２薄膜を形成するとともに、実用上問題のない反射率特性を維持しつつ、耐擦傷性の高い反射防止膜を提供する。
【解決手段】波長５００ｎｍにおける屈折率が１．３４〜１．４４のポーラスＳｉＯ_２層と、ポーラスＳｉＯ_２層の基板から遠い面に隣接するように形成された、膜厚５〜５０ｎｍのＭｇＦ_２層と、を有する。また、成膜圧力を０．５〜１０Ｐａに設定してＳｉＯ_２をスパッタリング成膜する第１工程と、第１工程で成膜したＳｉＯ_２上に、粒径０．１〜１０ｍｍの顆粒状ＭｇＦ_２をターゲットとし、Ｏ_２ガス雰囲気でＭｇＦ_２をスパッタリング成膜する第２工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を維持したまま、多数の基板の薄膜の膜厚を成膜中に測定する。
【解決手段】真空槽１２内に複数のサンプル板１６を配置し、基板の成膜面に薄膜を成長させる際に、サンプル板１６の検出面６１にも薄膜を成長させ、サンプル板１６表面に測定光を照射して薄膜の膜厚測定を行うことができる。サンプル板１６には金属電極が不要であり、高温に加熱することができるので、検出面６１に形成された薄膜を加熱して除去し、サンプル板１６を再使用することができる。その結果、真空雰囲気を維持したまま、多数枚数の基板に対する薄膜の膜厚測定を行うことができる。真空雰囲気内に複数のサンプル板１６を用意し、薄膜が形成されたサンプル板１６を加熱する間に別のサンプル板１６によって膜厚測定を行うと、薄膜除去の待ち時間は生じない。 （もっと読む）

【課題】塊状に変容した蒸着材料の残滓を複雑な機構や専用のアクチュエータを用いることなく、自動的に簡便に除去する。
【解決手段】リング状のターンテーブル５の上面に円環状の溝７を形成する。供給装置１２により溝７の中に顆粒状の蒸着材料１０を一定量ずつ供給する。ターンテーブル５を回転させ、エリア５ｂに供給された蒸着材料１０を蒸発位置Ｂで蒸発させ成膜を行う。一層目の成膜の後、ターンテーブル５を回転させ、エリア５ｂを休止位置Ｃに移動する。蒸発位置Ｂと休止位置Ｃとの間に、ターンテーブル５の移動路を横切るようにトラップ手段２４が設けられ、櫛歯状に並列させた複数本のアーム２５が塊状になった材料残滓をターンテーブル５の上から排除する。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリングを用いて安全・安価な方法で、可視領域において低吸収なフッ化膜を作成する方法を提供すること。
【解決手段】 本願発明は、金属ターゲットと反応性ガスを含む混合ガスを用いて、反応性スパッタにより基板上にフッ化膜を形成するフッ化膜形成方法において、前記混合ガスはＯ_２ガス及び前記反応性ガスを含み、前記反応性ガスはフルオロカーボン系ガスであることを特徴とするフッ化膜形成方法である。 （もっと読む）

【課題】
光学薄膜の成膜において、膜厚、屈折率が設計値からずれた場合でも、最終的に得られる光学性能が目的とする光学性能に近づけることができる技術を提供する。
【解決手段】
光学的膜厚がλ／４以上の層で光量の極値が判明した時点で、それ以前に成膜した光学的膜厚がλ／４以下の薄い層の屈折率と膜厚を推定し、最適化手法を用いて成膜中の層および成膜中の層以降の層の膜厚を補正することによって目的とする光学性能を得る。 （もっと読む）

【課題】表面に写る反射像が不鮮明に見える現象が抑制され、良好な外観を有する合わせガラスを得ることができる赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明樹脂フィルム２上に赤外線反射膜３を構成する複数の構成膜のうち最初に成膜される１つの構成膜３（１）を０．５０Ｐａ以上の圧力下で真空成膜する工程と、前記最初の構成膜が成膜された透明樹脂フィルムを１．０×１０^−３Ｐａ以下の高真空下で３０秒以上保持する工程と、前記高真空下での保持が行われた透明樹脂フィルム２に前記複数の構成膜の残りの構成膜３（２）〜３（Ｎ）を真空成膜して赤外線反射フィルム１とする工程とを有する赤外線反射フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法によってＭｇＦ_２薄膜を形成するにあたり、経時変化による屈折率の変化を抑えることのできる成膜方法を提供する。
【解決手段】酸素及び窒素の少なくとも一方を含むガスを導入しながら、表面の温度を６５０°Ｃ〜１１００°Ｃの間に保持したＭｇＦ_２１３１をイオンでスパッタリングすることにより、ＭｇＦ_２の少なくとも一部を分子状態で跳び出させ、分子状態のＭｇＦ_２で基板１０２上へ膜を形成する第１成膜工程と、基板上に酸化物を成膜する第２成膜工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】十分な撥水性能と耐久性を有する防汚膜を備える光学物品を効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光学物品の製造方法は、光学基材と、前記光学基材上に防汚膜を有する光学物品の製造方法であって、数平均分子量が８００以上８０００以下の範囲である第１のフッ素シラン化合物と、数平均分子量が１００以上８００未満の範囲である第２のフッ素シラン化合物とを含有し、且つ前記第１のフッ素シラン化合物の含有量が前記第１および第２のフッ素シラン化合物の合計量に対して１５質量％以上８５質量％以下である混合物を、前記光学基材を活性化処理することなく、蒸着させることにより前記防汚膜を形成する防汚膜形成工程、を備えることを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】カルコゲナイドガラスに対して密着性が良好であり、かつ耐候性が良好な赤外線用の反射防止膜を提供する。
【解決手段】硫黄やセレン，テルルを主成分としたいわゆるカルコゲナイドガラスからなる基材１２の表面に反射防止膜１３を設ける。反射防止膜１３は、基材１２側から順に、第１薄膜１６と第２薄膜１７を備える。第１薄膜１６は、酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）からなる。第２薄膜１７は、フッ化イットリウム（ＹＦ_３）からなる。 （もっと読む）

【課題】 十分に静電耐性を有する圧電デバイス（５０）を提供する。
【解決手段】 圧電デバイス（５０）はパッケージ（ＰＫＧ）内に圧電振動片（２０）を収納するものである。そして圧電デバイスは、第１面と第２面とを有し、圧電振動片を第１面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座（６０）と、パッケージ内に形成され台座の第２面と接続する内部電極（５９）と、を備える。台座（６０）の第１面には、圧電振動片の電極と接続する第１パット（７１）が形成され、台座の第２面には、内部電極と接続する第２パット（７２）及び静電気を拡散する第３パッド（７４）が形成され、台座には第１パッドと第２パッドとを接続する配線（７３）が形成されている。 （もっと読む）

【課題】輝度を向上させることが可能なマイクロレンズアレイシートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】光を透過する基板２と、前記基板２に配置されるとともに当該基板２と直交する光軸Ｚに沿う断面に弓形となる部位を含む第１層４および当該第１層４を覆う第２層５を備える複数のマイクロレンズ３と、を有するマイクロレンズアレイシート１であり、マイクロレンズ１の外壁面６には、マイクロレンズ３の前記光軸Ｚに沿う中心軸Ｘから幅Ｈ_ｃを有する基板側の端部である側部Ｓと、前記光軸Ｚと直交して前記側部Ｓを通る基端面Ｍから光軸方向へ高さＨ_ａを有する頂部Ｔと、前記側部Ｓと頂部Ｔの間に連続的に配置されて前記基端面Ｍと前記中心軸Ｘとの交点である基準点Ｐから長さＨ_ｎ（ｎ＝１：Ｎ）を有するＮ個の曲面部Ｋ_ｎと、が形成され、以下の２つの式：
Ｈ_ａ＞Ｈ_ｃ
Ｈ_ａ≧Ｈ_ｎ≧Ｈ_ｃ （ｎ＝１：Ｎ）
を満たす。 （もっと読む）

【課題】汎用の製造設備を用いて製造可能なフッ化物からなる光学薄膜であって、波長２００ｎｍ以下において高屈折率を示す、緻密な構造の光学薄膜および光学薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】光学薄膜は、ランタンとガドリニウムのフッ化物を含み、前記ランタンと前記ガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．０１〜０．９５である。光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 （もっと読む）

【課題】強誘電性を示すペロブスカイト構造のＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）薄膜をダイヤモンド単結晶上に直接成長させることが困難なため、従来技術では、酸化物薄膜（例えばＡｌ_２Ｏ_３／ＳｒＴｉＯ_３連続膜）を緩衝層として用いていたが、強誘電特性は不十分であった。
【解決手段】ダイヤモンド単結晶基板またはエピタキシャル薄膜上にフッ化物（ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＭｇＦ_２の内一つ）を緩衝層として用いることにより、抗電界を同じ大きさ（３３ｋＶ／ｃｍ）に保ちながら、従来の２倍の残留分極電荷（６８μＣ／ｃｍ^２）を持つ優れた強誘電性のＰＺＴ薄膜を提供する。更に、ｐ型ダイヤモンド（１３）／フッ化物（１４）／ＰＺＴ（１５）／金属（１６）構造からなるキャパシタを提供する。 （もっと読む）

【課題】基材上に多層膜を形成する際に、より高精度な膜厚制御が可能な成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】基材上に多層膜を形成する成膜方法であって、前記多層膜の膜原料源を備える真空槽の内部に、基材と、基材上に形成される多層膜をモニタリングするためのモニタ基板とを配置する配置ステップと、真空中で膜原料源にエネルギーを付与して、基材上に膜原料を堆積させて多層膜のうちの３層以上の層を形成するとともに、モニタ基板上に、単層膜および、複数の互い異なる層構成の多層膜を同時に形成する形成ステップと、形成ステップにおいて、単層膜の光学膜厚を測定する光学膜厚測定ステップと、モニタ基板上の多層膜の分光光学特性を測定する分光光学測定ステップ、および測定された光学膜厚および／または分光光学特性から、基材上に形成される多層膜の残りの各層の厚みを再設定する再設定ステップを含む成膜方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ダイシングによりコーティング層が剥離することを防止できる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材１１上にコーティング層１６が形成された光学素子の製造方法において、親基材１の裏面にダイシングシート２を貼着し、前記親基材１の表面側をダイシングして複数の前記基材１１に分割するダイシング工程と、前記ダイシング工程を行なった後、前記ダイシングシート２に貼着された複数の前記基材１１の表面に前記コーティング層１５を成膜する成膜工程と、前記コーティング層１５が成膜された複数の前記基材１１を、前記ダイシングシート２から剥離するピックアップ工程とを備えること構成とする。 （もっと読む）

【課題】小型で、消費電力が低く、寿命が長く、しかも簡易な構造で大面積の殺菌が可能な用光源を提供でき、一般家庭や医療分野において好適に使用することができるだけでなく、小型で高出力の携帯用殺菌用光源として飛躍的に応用分野が広がることが期待できる。
【解決手段】石英、石英ガラス、フッ化ガラス、フッ化カルシウムなどの透明基板と該透明基板上に形成された、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、又はプラセオジウム（Ｐｒ）をドープしたＣａＦ_２などの金属フッ化物薄膜層とからなる発光基板、並びに熱電子銃やフィールドエミッター等の電子線源を備え、該発光基板の金属フッ化物層に電子線を照射することにより、殺菌光として有用な２００乃至３２０ｎｍの波長の深紫外光を含む光を発生させることを特徴とする殺菌用光源。 （もっと読む）

【課題】成膜装置および成膜方法において、成膜を繰り返しても、顆粒材料の形状を正確に制御することにより基板ごとの膜厚のバラツキを低減することができるようにする。
【解決手段】真空槽２内で、顆粒材料６をターゲット材料として基板４上に薄膜を成膜する成膜装置１であって、基板４に向かい合う位置に顆粒材料６を集積させて保持する保持容器５と、保持容器５に集積された顆粒材料６の集積表面を一定形状に整形する整形機構１２を備える。 （もっと読む）

【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における成膜速度を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１の表面に対向するように配置され、基板１００を設置する基板ホルダ６と、基板１００上の成膜環境を測定可能なセンサ部８とを備え、対象物ホルダ６は、ターゲット１０１に対して移動可能に構成されるとともに、基板ホルダ６の移動量及び移動方向と、センサ部８の移動量及び移動方向とが同一に設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における膜厚を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１を用いて基板１００の表面に成膜を行う成膜装置１は、ターゲット１０１が載置される載置面を有する材料設置部４と、基板１００を材料設置部４に載置されたターゲット１０１に対向させて支持する基板ホルダ６と、基板ホルダ６の材料設置部４に対向する面の第一の領域及び第二の領域の成膜環境を測定可能に配置されたセンサ部８と、センサ部８の測定結果に基づいて第一の領域及び第二の領域の成膜環境を比較し、両者の差が所定値以上であるときに材料設置部４と基板ホルダ６との位置関係を変化させるよう制御する制御部１０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）