【課題】ワークを搭載しワーク加工装置に搬入されるパレットの底面に付着するゴミを確実に取り除く。
【解決手段】パレット清掃装置４０１では、加工対象のワーク１０３を搭載したパレットが水平搬送されて、加工用テーブル２０３の上方に位置付けられる。ブラシ体４０２は、加工用テーブル２０３から上下に延びる空間領域２０４よりも外側で、かつ、パレット１０２の底面１０４よりも下方に設けられる。ブラシ体４０２は、回転軸４０３を有し、この回転軸４０３の軸回りに回転自在となっている。回転軸４０３は、パレット１０２の底面１０４に平行かつパレット１０２の搬送方向に直角になる向きに向いている。ブラシ体４０２は、パレット１０２の底面１０４に接触する部分がパレット１０２の移動方向とは反対の方向に移動するよう回転する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は高精彩に成膜できるまたは生産性あるいは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または有機ＥＬデバイス製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空蒸着チャンバの壁に設けられた真空隔離手段から前記マスクを搬出し、前記真空隔離手段を共有するマスク洗浄チャンバで前記基板に付着した前記蒸着材料の堆積物にレーザ光を照射し前記マスクをドライ洗浄し、洗浄後前記マスクを真空隔離手段を介して前記真空蒸着チャンバに戻し、前記蒸着を行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】露光前のウェハの裏面全面を効率よく洗浄する。
【解決手段】処理容器１１０の一の側面には、搬送機構１０１の搬送アーム１２０に保持されたウェハＷを搬入出させる搬入出口１１１が形成されている。処理容器１１０内には、搬送アーム１２０に保持されたウェハＷの裏面の付着物を静電気によって捕集するために帯電可能な帯電部材１３０と、当該ウェハＷの裏面に気体を噴射できる気体噴射ノズル１４０が設けられている。処理容器１１０の底面であって、帯電部材１３０の周囲には、処理容器１１０内の雰囲気を排気する排気口１５０が形成されている。処理容器１１０内であって、搬入出口１１１側の内側面には、ウェハＷの裏面の付着物を検査する検査機構１６０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】細長平板状器具に固着した固着物を容易に除去することができるようにする。
【解決手段】細長平板状器具の固着物除去装置１０は、多数のワイヤー先端が露出して外周面が構成されたブラシ部１４を有するワイヤーブラシ１１と、ワイヤーブラシ１１を、ブラシ部１４が周方向に回転するように回転駆動する回転駆動部１２と、ブラシ部１４の外周面から所定間隔をおいた外側に、刃先がブラシ部１４の外周面側を向くと共に刃先の延びる方向がブラシ部１４の外周面の接線方向に対して角度をなすように設けられた固定刃３２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 光化学処理装置及び光化学処理方法に関し、簡単な装置構成によりＶＵＶ光による活性化効率を高めて高スループットで光化学処理を行なう。
【解決手段】 真空紫外線発生光源１、真空紫外線発生光源１を収容する収容部３を備えるとともに、ガス導入口４及びガス噴出口５を備えた活性化反応室２を備え、ガス導入口４から導入した反応ガス７を真空紫外線発生光源１からの真空紫外線によって活性化し、活性化した反応ガス８をガス噴出口５から被処理基板９に吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】 処理ユニットの相対移動方向に拘わらず、外部雰囲気の処理通路への巻き込みを常に阻止等することにより、常圧プラズマ処理の処理能力を確保する。
【解決手段】 プラズマ処理装置Ｍの処理ユニット１１と基板Ｗの間の処理通路１６内に略大気圧のプラズマ放電を形成し、基板Ｗのプラズマ表面処理を行なう。処理ユニット１１が往方向に相対移動するときは、プロセスガスを処理通路１６の往方向側の端部から処理通路１６内に導入し、処理ユニット１１が復方向に相対移動するときは、プロセスガスを処理通路１６の復方向側の端部から処理通路１６内に導入する。これにより、処理通路１６内のプロセスガス流の向きを処理ユニット１１の相対移動方向に応じて切り替える。 （もっと読む）

【課題】効率よくジンギスカン鍋を清掃できる方法と装置を提供する。
【解決手段】適宜形状のフレーム上部に平行移動可能なるスライダーを設け、スライダー上方に９０度毎に間欠回転するターンテーブルを設け、ターンテーブル上方に往復動可能なるブラシ体を設け、以上のスライダーとターンテーブルおよびブラシ体を駆動するための駆動源をフレーム適所に設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 洗浄処理をより効果的に、かつ均質に行うことを可能とした洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハＷ等の基板に洗浄処理を施す洗浄処理装置、例えば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａは、ウエハＷを略水平に保持して面内回転させる保持手段であるスピンチャック７１と、スピンチャック７１に保持された基板の上面を洗浄するブラシ７６ａ・７６ｂ等の洗浄手段と、ブラシ７６ａ・７６ｂを保持するブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂと、ブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂをブラシ７６ａ・７６ｂがスピンチャック７１に保持されたウエハＷ上の所定位置を移動するように駆動するアーム駆動機構７９ａ・７９ｂとを具備する。カップ７３の外側の所定位置には、２本のリンスノズル８６ａ・８６ｂが配設されており、それぞれウエハＷの所定位置に洗浄液またはリンス液を供給してウエハＷ上に液膜を形成する。 （もっと読む）