【課題】照射対象物に正確な強度にて紫外光を照射することが容易な紫外光照射装置を提供すること。
【解決手段】前板（１１ａ）と前板の背面下部に接続された底板（１１ｂ）とを有する引き出し（１１）を備える筐体（１２）、筐体の内部上方に配設された紫外光発生手段（２１）、および上記引き出しの底板上に設置され、引き出しを閉じた状態にて紫外光発生手段の下方に配置される、紫外光の照射対象物を支持する昇降装置（３１）を備える紫外光照射装置であって、上記の引き出しの前板を貫通して上記昇降装置に接続している昇降操作手段（５１）を更に備えることを特徴とする紫外光照射装置。 （もっと読む）

【課題】移動の際に洗浄液が飛散しにくく設置スペースが狭いノズル洗浄装置、および当該ノズル洗浄装置を備える電子部品実装機を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル洗浄装置５は、洗浄液Ｌが貯留される洗浄槽６００を有しノズル８の被洗浄部８２を洗浄する洗浄部６０と、洗浄部６０の上方に配置され洗浄後の被洗浄部８２に気体Ｇを吹き付けることにより、被洗浄部８２を乾燥させる乾燥部６１と、洗浄部６０と乾燥部６１との間に配置され、洗浄部６０と乾燥部６１とを連通、遮断可能に仕切るシャッター６２０を有するシャッター部６２と、を有する装置本体６を備える。洗浄モードにおいてはシャッター６２０を開け被洗浄部８２を洗浄し、乾燥モードにおいてはシャッター６２０を閉じ被洗浄部８２を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象面内の清浄度およびその均一性を高めさらにメンテナンスも容易なＵＶオゾン洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ＵＶ照射室（１０）内に２つのＵＶユニット（２０Ａ、２０Ｂ）を備えており、これらＵＶユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物（３０）が基板搬送部（４０）により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第１および第２のガス供給部（５０Ａ、５０Ｂ）から、ＵＶ照射室（１０）内に搬送された基板（３０）の表面に向けて供給される。ガス排出部（６０）は、装置（１００）の底部に設けられており、ＵＶ照射室（１０）内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット（７０Ａ、７０Ｂ）の作用により、ガス排気経路部（８０Ａ、８０Ｂ）を通ってガス排出部（６０）から外部へと排出される。 （もっと読む）

【課題】効率的に高い精度でゴミを除去することができるビット清掃装置を提供する。
【解決手段】空隙４１はドライバビット１８の先端部の形状を象る。空隙４１には布シート３２が覆い被さる。したがって、先端部がその軸心に沿って空隙４１に受け入れられると、先端部の外壁面および空隙４１の内壁面の間に布シート３２が挟み込まれる。軸心に沿ったドライバビット１８の移動に基づき先端部は空隙４１内で布シート３２に押し付けられる。布シート３２は押し潰される。布シート３２は先端部の外壁面から微小なゴミを擦り取る。こうして布シート３２は先端部の外壁面から効率的に高い精度でゴミを除去することができる。清掃作業は効率的に実施される。その結果、ドライバビット１８の先端部にゴミの付着は回避される。先端部から例えばねじのねじ頭へのゴミの移動は防止される。 （もっと読む）

【課題】鉛直方向に沿ってワークが搬送されるタイプのクリーンローラ装置において、当該ワークが落下しないと共にワークからフィルムが剥がれないようにすることが可能なクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】フィルムが貼付されているワークＷを搬送しつつ、塵埃を除去するクリーンローラ装置１０であって、塵埃吸着ローラ体５１Ａとベースローラ体５１ＡとでワークＷを鉛直方向に沿って移動させ、塵埃吸着ローラ体５１Ｂをベースローラ体５１Ａに向けて押し付ける付勢力を与える第２の駆動源５２を備え、粘着テープロール７０を塵埃吸着ローラ体に向けて押し付ける付勢力を与える第３の駆動源を備え、ワークＷの検出から所定時間が経過する前には第２の駆動源５２のみを作動させ、所定時間の経過後には少なくとも第３の駆動源６３を作動させて大きな付勢力を塵埃吸着ローラ体５１Ｂに対して与えるように制御する制御手段１００を具備する。 （もっと読む）

【課題】表示基板の撓みによる表示基板同士の接触を効果的に防止する。
【解決手段】対向的に配置される左右一対の側板２を含み、各側板２の内面に表示基板ＰＬの端部を保持する垂直方向に沿って延びる複数の凹溝２ａが互いに平行として所定の間隔をもって形成されており、各側板２の対向する各凹溝２ａにより複数枚の表示基板ＰＬを多列状に保持して洗浄槽内に浸漬する表示基板洗浄用キャリア１０において、側板２の少なくとも一方に、隣接して保持される表示基板ＰＬ間に向けて気体を噴出する気体噴出手段１００を設ける。 （もっと読む）

【課題】ウェハープロセスの過程でウェハーの周縁部に付着した不要物を効率的に除去する。
【解決手段】チャンバ３０内の基板ステージ３１上にウェハー２０を載置する。配管３８の供給口３８ａからヘリウムガスをチャンバ３０内に導入し、プラズマ発生手段によりヘリウムガスのプラズマＰ１を生成する。続いて処理ガス供給用のノズル３３から塩素ガスを導入して塩素ガスのプラズマＰ２を生成する。排気装置による排気速度を調節して、ウェハー２０の周縁部で塩素ガスの濃度を高く制御し、この塩素ガスのプラズマＰ２でウェハー２０の周縁部を包み込み、そこに付着した不要物をエッチング除去する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の板状部材を搬送する間に、当該板状部材の表面に付着した異物を除去することができるクリーニング装置及び方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハＷを保持してこれを搬送する搬送装置１１と、前記半導体ウエハＷの表裏各面に付着した異物を除去するエアパージ装置１２とを備えてクリーニング装置が構成されている。エアパージ装置１２は、半導体ウエハＷを受容する空間ＳＰを備えたケース３０を含み、このケース３０は、半導体ウエハＷの表裏各面にエアを噴出して異物除去を行うエア噴出口３５を備えている。 （もっと読む）

【課題】連続使用後のマルチレンズアレイ成型用金型を簡便かつ短時間で洗浄できる洗浄方法を提供すること。
【解決手段】マルチレンズアレイ成型用金型の成形面全体を、実質的に界面活性剤を含まず、相対蒸発速度（ＡＳＴＭ−Ｄ３５３９）が１〜６である溶剤に浸漬するとともに超音波を照射する。溶剤としては、エタノールあるいはアセトンが好ましい。マルチレンズアレイ成型用金型の成形面（特に角部）に付着した汚染物を短時間で除去できる。 （もっと読む）

【課題】オペレータの作業を軽減し、しかもクリンルームに塵等が侵入するのを予防できる遮断搬入装置を、低コストで提供する。
【解決手段】遮断搬入装置４は、クリンルーム１の室外に外側導入口５を開きクリンルーム１の室内に内側導入口６を開いた導入ハウジング７と、外側導入口５を開閉する外側シャッタ８と、内側導入口６を開閉する内側シャッタ９と、被搬入物２を着脱自在に吊持できる吊持手段１０が先端に設けられた作動アーム１１と、被搬入物２を外側導入口５の近傍まで１個ずつ供給する搬送手段１２とを備える。遮断搬入装置４によれば、クリンルーム１の室外で函体３に収納された被搬入物２を、函体３から吊上げクリンルーム１の室内へ搬入できる。 （もっと読む）

【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシからなる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で洗浄水の噴射方向を変向できて良好に洗浄できる。
【解決手段】ボトルＢを反転姿勢で保持可能なボトル保持部５と、ボトル保持部５により保持された反転姿勢のボトルＢの口部にノズル６を挿入して洗浄するボトル洗浄部７とを具備し、ボトル洗浄部７に、上端部にノズル６を有する昇降ロッド４３および外筒体４２に介在されてノズル６を揺動可能な揺動作動部４４を設け、揺動作動部４４に、昇降ロッド４３の上端側を揺動自在に支持する水平ピンと、ガイド部材に設けられた揺動カム孔と、昇降ロッド４３に設けられて揺動カム孔に係合される揺動受動ピンとを設け、前記昇降ロッド４３を昇降させて揺動作動部４４によりノズル６を揺動させる揺動駆動部５０を設けた。 （もっと読む）

【課題】 処理槽の上部空間の雰囲気を排気したときに、排気管内に塩が蓄積することを防止してパーティクル発生の原因を取り除くことができる装置を提供する。
【解決手段】 上部に開口を有し処理液を貯留する処理槽１０、処理槽１０内で基板Ｗを保持するリフタ１８、処理槽１０内へ処理液を供給する手段、処理槽１０の上部開口の上方に設けられた排気口３０に連通接続された排気管３２を通して処理槽１０の上部開口上の雰囲気を排気する排気手段、および、排気管３２の途中に連通接続された純水供給管３４を通して排気管３２内へ洗浄用純水を供給する純水供給手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】正確に所望の部位にのみプラズマイオンを照射して部品の洗浄を行うことができるプラズマ洗浄装置及び方法を提供すること。
【解決手段】開口部１３が設けられたマスク１０をガイド１１に従ってプラズマイオン９の照射方向に平行に移動可能としておく。この状態でマスク１０の開口部を部品４に設けられた金属接合部上に位置決めし、ロック機構１６によるマスク１０の保持を解除して、マスク１０と部品４との距離を所望の距離とする。この状態で第２の電極７から第１の電極６に向けてプラズマイオンを照射する。 （もっと読む）

【課題】 基板を非接触で、しかも所望の基板処理位置に位置決めすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 搬送ロボットにより未処理基板Ｗが基板受渡し位置Ｐ１に搬送されてくると、基板浮上ヘッド７１によって未処理基板Ｗはその下面に向けて吐出される不活性ガスにより浮上させられる。続いて、未処理基板Ｗを浮上させている基板浮上ヘッド７１がアクチュエータ７４の作動により降下される。そして、未処理基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に達すると基板Ｗの下面周縁部は支持ピン３と係合して、さらに基板浮上ヘッド７１が降下されることで支持ピン３に未処理基板Ｗが受け渡されて支持ピン３に載置される。こうして、基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に位置決めされ、基板Ｗの下面周縁部とスピンベース５の対向面５ｂとが近接状態で対向配置される。 （もっと読む）