基板洗浄装置および基板洗浄装置を備えた基板供給装置
【課題】基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシからなる。
【解決手段】本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシからなる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置および基板洗浄装置を備えた基板供給装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板の表面を洗浄する装置として、以下の特許文献１に記載のクリーニングマシンが提案されている。
このクリーニングマシンは、基板のエッジ部分を搭載して基板を搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトにより搬送される基板に、回転しながら加圧接触する吸着ローラーと、吸着ローラーに、回転しながら加圧接触する粘着ローラーと、吸着ローラーを基板に接触する位置から離れた位置へ移動させる手段とを備えている。
【０００３】
このクリーニングマシンにおいて、搬送ベルトで搬送される基板は、その表面に吸着ローラーが加圧接触される。吸着ローラーは、シリコンゴム系の樹脂で形成され、濡れ性により基板表面のごみや埃を吸着することにより、基板がクリーニングされる。吸着ローラーはその表面に粘着材等を有しないので、ローラーから粘着材が基板に付着するような事故を防止することができる。吸着ローラーに吸着されたごみ等は、吸着ローラーが更に粘着ローラーに加圧接触することにより、吸着ローラーから粘着ローラーへ転写される。したがって、吸着ローラーは、長時間に渡ってクリーニング効果を持続することができる。このクリーニングマシンにおいては、基板はエッジ部分が搬送ベルトに保持され、搬送ベルトの反対側の片面のみがクリーニングされる。したがって、電子部品を搭載済みの基板の裏面をクリーニングする場合でも、電子部品を下面に、裏面を上面に配置して搬送ベルトに載せることにより、クリーニング処理をすることができる。また、クリーニングマシンにより処理を行わない、或いは処理ができない基板が投入された場合、吸着ローラーは基板に接触する位置から離れた位置へ移動する。これにより、このクリーニングマシンは、種々の形式の基板に対応することができるので、プリント基板の製造ラインに組み込むことが可能となる。このようにクリーニングマシンをインライン化することにより、基板をクリーニングした後、すぐに印刷工程に移行することができるので、再度基板にごみ等が付くことを防止し、クリーニング効果を更に向上することできる。
【０００４】
ところで、プリント基板の表面には種々のごみや埃などが付着しているとともに、プリント基板の表面の一部または全体にわたって静電気を帯びていることがある。プリント基板の表面が静電気を帯びている場合には、上記のごみや埃などがより強固にプリント基板に付着しており、吸着ローラーによって基板の表面を洗浄しようとしても、ごみや埃などを十分に取り除くことができないという虞があった。
【特許文献１】特開２００２−３５３５９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。また、基板洗浄装置を備えた基板供給装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシであることを特徴とする。
また、前記フレームに支持されて移動される前記基板を望む位置には、帯電された流体を噴出させるノズルが設けられていることが好ましい。
かかる構成によれば、導電性ブラシを用いることにより、基板を容易に洗浄することができる。さらに、基板に向けて帯電された流体を噴出させることにより基板が除電されるので、ロールブラシによってより容易に基板を洗浄することができる。
【０００７】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記ノズルが、前記ロールブラシに対して前記基板の搬送方向上流側または下流側のいずれか一方または両方に配置されていることが好ましい。
かかる構成によれば、上記と同様の効果が得られる。
【０００８】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部が前記本体部に対して上下方向に可動自在とされていることが好ましい。
この構成によれば、洗浄部が本体部に対して上下方向に可動自在とされているので、基板の厚みに合わせて搬送レールとロールブラシとの間隔を調整することができ、これにより基板に対するロールブラシの押圧量を適度に合わせることが可能になる。
【０００９】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部には前記ロールブラシを洗浄するための集塵排出用ノズルが設けられ、前記フレームには、前記洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられ、前記遮断部材は前記搬送レールと連動して前記ロールブラシの長手方向に沿って移動自在とされていることが好ましい。
この構成によれば、洗浄部に集塵排出用ノズルが設けられているので、集塵排出用ノズルから前記洗浄部内の空気を吸引して前記ロールブラシに付いた汚れを除去できる。
また、フレームには、搬送レールと連動して移動自在とされた遮断部材が備えられており、この搬送部材は、基板の大きさに対応して洗浄部内において位置決めされる。一方、ロールブラシは、基板の大きさに対応して基板に接触する接触部と非接触部とに分けられ、接触部のみに汚れが付着する。気流を遮断する遮断部材は、このロールブラシの接触部と非接触部の境界に配置されるので、集塵排出用ノズルの吸引によって生じる気流をロールブラシの接触部のみに流通させ、非接触部への気流の流通を防止できる。これにより、集塵排出用ノズルの吸引によるロールブラシの洗浄効率を向上させることができる。
【００１０】
次に、本発明の基板供給装置は、基板を収納する収納ラックと、該収納ラックを昇降させる昇降装置と、前記基板を搬送する搬送装置とを具備してなり、更に先のいずれかに記載の基板洗浄装置が取り付けられていることを特徴とする。
かかる構成によれば、基板を基板洗浄装置に搬送でき、搬送された基板に向けて帯電された流体を噴出させることにより基板が除電されるので、ロールブラシによって容易に基板を洗浄することができ、洗浄された基板を後工程装置に供給することができる。
【発明の効果】
【００１１】
以上に説明したように、本発明の基板洗浄装置よれば、導電性ブラシを用いることにより、基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる。
また、基板の表面が静電気を帯びていたとしても、基板に向けて帯電された流体を噴出させることによって、この静電気を除電させることができ、これによりロールブラシによる基板洗浄をより効率的に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態である基板洗浄装置および基板供給装置について図面を用いて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
尚、図１は基板供給装置の一例を示す正面図であり、図２は基板洗浄装置の斜視図であり、図３は基板洗浄装置の要部拡大図であり、図４は基板洗浄装置の分解斜視図である。
【００１３】
図１に示す本実施形態の基板供給装置１は、昇降装置２と、昇降装置２に収納ラック４を供給および排出する搬送装置３と、プリント基板（以下、単に基板と記す。）を洗浄する基板洗浄装置５と、基板Ｐを基板洗浄装置５に押し出す押出シリンダ６とを備えている。昇降装置２には、ボールネジ７、ガイドシャフト８，８に沿って昇降するテーブル９が設けられ、このテーブル９上に収納ラック４を載置するようになっている。搬送装置３は、上下二段に構成されており、下段が収納ラック４を昇降装置２に向けて搬送してこれを供給する供給コンベア１０となり、上段が収納ラック４を昇降装置２から受け取りこれを排出する排出コンベア１１となっている。また、昇降装置２のテーブル９には、収納ラック４をテーブル上の所定位置まで完全に移動させるためのコンベア１２が設置されている。
【００１４】
このような構成の基板供給装置１では、供給コンベア１０で搬送されてきた収納ラック４をテーブル９に載置した後、テーブル９を上昇させて、収納ラック内の最上段の基板Ｐと基板供給装置１の前方に設けられた基板洗浄装置５の搬送レール１３との高さを合わせる。その後、水平方向に往復運動する押出シリンダ６によって、収納ラック４の後端面４ｂ側から基板洗浄装置５の下方に配置された搬送レール上に基板Ｐを押し出すようになっている。
【００１５】
次に図２に示すように、基板洗浄装置５は、搬送された基板Ｐの表面を洗浄するものであって、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム２９とフレーム２９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ１７とから概略構成されている。
フレーム２９は、搬送レール１３を有する本体部２９ａと、本体部２９ａの上部に取り付けられる洗浄部２９ｂとから構成されている。
洗浄部２９ｂには、図２に示すように、洗浄ユニットＡが内蔵されている。洗浄ユニットＡは、図３に示すように、筐体１５と、筐体１５に取り付けられた２つの除電装置１６と、２つの除電装置１６の間に配置されるとともに筐体１５に回転自在に取り付けられたロールブラシ１７と、ロールブラシ１７を回転駆動する回転用モータ１８と、除電装置１６を制御するコントローラー１９とが取り付けられて構成されている。
次に本体部２９ａには、基板供給装置１から押し出された基板Ｐを案内する一対の搬送レール１３がロールブラシ１７の下方に取り付けられている。この搬送レール１３に案内された基板Ｐがロールブラシ１７の下方を通過する際に、基板表面がロールブラシ１７に接触するように搬送レール１３がロールブラシ１７に対して位置決めされている。
【００１６】
図４に示すように、除電装置１６は、流体供給部２０と供給管２１とを有しており、供給管２１には、図示略の複数のノズルが供給管２１の長手方向に沿って形成されている。また、ノズルは、基板Ｐの表面側に向けて開口されている。流体供給部２０には、図示略の放電機構を有する流路が設けられており、流路を通過する空気等の流体に対してコロナ放電等を行い、空気等の流体を帯電させることができるようになっている。また、供給管２１は、搬送レール１３に沿って搬送される基板Ｐを望む位置に取り付けられており、更に供給管２１には図示略のノズルが搬送される基板側に設けられている。この構成によって、図示略の複数のノズルから帯電させた空気等の流体を搬送途中の基板表面に対して吹き付けられるようになっている。一方の除電装置１６の一端には、軸受２２を有する軸受部２３が設けられている。ロールブラシ１７は、ナイロン、馬毛等から選ばれる材質で構成されており、ブラシ軸２３を有している。また、ロールブラシ１７は導電性ブラシを用いてもよい。導電性ブラシは、ブラシ毛に銅、カーボン等の導電性材料を用いたものである。
【００１７】
基板洗浄装置５を組み立てる場合には、筐体１５の支持具２４と側壁部２６，２７を接続し、２つの除電装置１６を支持具２４および側壁部２６に取り付ける。次に、除電装置１６の軸受２２にロールブラシ１７のロール軸２８の一端を取り付け、支持具２５でロール軸２８の他端を固定する。最後に、コントローラー１９を筐体１５に取り付け、回転用モータ１８を一方の除電装置１６の軸受部２３に取り付けることによって、洗浄ユニットＡを完成させる。そして、洗浄ユニットＡを洗浄部２９ｂに組み込み、更に洗浄部２９ａを、搬送レール１３を有する本体部２９の上部に取り付ける。このようにして基板洗浄装置５を組み立てる。
【００１８】
次に図１及び図２を参照して、本実施形態の基板洗浄装置５における基板Ｐの表面の洗浄工程について説明する。シリンダ６により押し出された基板Ｐは、基板洗浄装置５の下方に設けられた搬送レール１３を移動して基板洗浄装置５の下方に搬送される。搬送された基板Ｐには、一方の除電装置１６ａから帯電された空気等の流体が矢印Ｂに示す方向に沿って吹きつけられ、これにより基板Ｐの表面が除電される。次に、除電された基板Ｐは、６００ｒｐｍで回転しているロールブラシ１７の下を基板Ｐがロールブラシ１７に接触されたまま通過する。基板表面が予め除電されているので、ロールブラシ１７で基板表面を擦るだけで基板表面に付着している埃等の汚れが容易に除去される。その後、他方の除電装置１６ｂによって、基板Ｐの表面が再び除電される。こうして除電・洗浄された基板Ｐは、後工程装置３０に搬送される。
【００１９】
以上に説明したように、本実施形態の基板洗浄装置よれば、導電性ブラシを用いることにより、基板を容易に洗浄することができる。さらに、除電装置によって帯電した空気を基板に吹きつけることにより基板の表面を除電させるので、基板表面に付着している埃等の除去対象物の基板に対する静電気的な吸着力を弱めることができる。このように吸着力が弱まった埃等の除去対象物は、ロールブラシによって基板表面を擦ることで容易に除去することができる。これにより、基板の清浄度を飛躍的に高めることができる。
【００２０】
次に、図５〜図７には、本実施形態の基板洗浄装置５１の別の例を示す。
この図５〜図７に示す基板洗浄装置５１と、図１〜図４に示した基板洗浄装置１との相違点は、基板洗浄装置５１において除電装置を省略するとともに、導電性ブラシの上方に集塵排出ノズルを設け、更に搬送レールを短くした点である。
【００２１】
図５〜図７に示すように、基板洗浄装置５１は、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム７９とフレーム７９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ６７とから概略構成されている。ロールブラシ６７は、ブラシ毛に銅、カーボン等の導電性材料を用いてなる導電性ブラシである。
フレーム７９は、搬送レール６３を有する本体部７９ａと、本体部７９ａの上部に取り付けられる洗浄部７９ｂとから構成されている。
【００２２】
洗浄部７９ｂは、図５〜図７に示すように、下側に開口部７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部７９ｂには、洗浄部７９ｂに回転自在に支持されたロールブラシ６７と、ロールブラシ６７を回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング６８が取り付けられている。ロールブラシ６７は、集塵排出用ノズル８０の直下に取り付けられている。
【００２３】
次に本体部７９ａは、一片７９ａ１及び他片７９ａ２とからなる略Ｌ字形状の金具であって、一片７９ａ１が基板供給装置１にボルトで接合されており、また他片７９ａ２が洗浄部７９ｂに接合されている。このようにして本体部７９ａは、基板供給装置１と洗浄部７９ｂとを連結している。
また、本体部７９ａには、基板供給装置１から押し出された基板Ｐを案内する一対の搬送レール６３が取り付けられている。この搬送レール６３に案内された基板Ｐがロールブラシ６７の下方を通過する際に、基板表面がロールブラシ６７に接触するように搬送レール６３がロールブラシ６７に対して位置決めされている。
【００２４】
また図６に示すように、本体部７９ａには、搬送レール６３の間隔調整機構が備えられている。この幅調整機構Ｍは、本体部７９ａの他片７９ａ２、７９ａ２同士の間に掛け渡されたスライドレール８１，８１と、スライドレール８１、８１に固定されたストッパ８２と、スライドレール８１、８１に対して可動自在に取り付けられた調整スライダ８３とから構成されている。ストッパ８２及び調整スライダ８３には先の搬送レール６３，６３が取り付けられている。調整スライダ８３の位置を調整することで、搬送レール６３，６３の間隔を基板Ｐの幅に合わせられるようになっている。
【００２５】
基板洗浄装置５１における基板Ｐの表面の洗浄工程について説明すると、基板供給装置からシリンダ６によって押し出された基板Ｐは、基板洗浄装置５１の下方に設けられた搬送レール６３を移動して基板洗浄装置５１の下方に搬送される。搬送された基板Ｐは、６００ｒｐｍで回転しているロールブラシ６７の下を通過する。このときに基板表面がロールブラシ６７によって擦られて、基板表面に付着している埃等の汚れが容易に除去される。その後、ロールブラシ６７に付着された汚れは、集塵排出用ノズル８０を通じて図示しない集塵機に吸引される。このようにしてロールブラシ６７から汚れが取り除かれ、再び基板表面の汚れの除去に用いられる。こうして洗浄された基板Ｐは、後工程装置に搬送される。
【００２６】
上記の基板洗浄装置５１によれば、基板供給装置１と洗浄部７９ｂとが本体部７９ａによって連結されているので、基板供給装置１からロールブラシ６７間での距離が近くなり、またこれに伴って搬送レール６３を短くすることができ、基板洗浄装置５１の小型化を図ることができる。
また、ロールブラシ６７がフード状の洗浄部６９ｂの内部に配置されているので、外部の集塵機を洗浄部６９ｂの集塵排出用ノズル８０に取り付けて吸引することによって、ロールブラシ６７に付着した汚れを容易に取り除くことができる。これにより、ロールブラシ６７を常に綺麗な状態に保つことができ、ロールブラシ６７のメンテナンスの頻度が少なくなり、基板洗浄装置５１を長時間に渡って連続して稼働させることができる。
【００２７】
次に図８には、本実施形態の基板洗浄装置の更に別の例を示す。図８に示す基板洗浄装置１０１は、フレームの洗浄部が本体部に対して上下方向に可動自在とされた装置である。この基板洗浄装置１０１は、上記の基板洗浄装置５１と同様に、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム１７９とフレーム１７９に対して回転自在に取り付けられた図示略のロールブラシとから概略構成されている。フレーム１７９は、搬送レール１６３を有する本体部１７９ａと、本体部１７９ａの上部に取り付けられた洗浄部１７９ｂとから構成されている。
【００２８】
洗浄部１７９ｂは、下側に開口部１７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル１８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル１８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部１７９ｂには、洗浄部１７９ｂに回転自在に支持された図示略のロールブラシと、ロールブラシを回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング１６８が取り付けられている。ロールブラシは、集塵排出用ノズル１８０の直下に取り付けられている。
【００２９】
本体部１７９ａは、一片１７９ａ１及び他片１７９ａ２とからなる略Ｌ字形状の金具であって、一片１７９ａ１が基板供給装置１にボルトで接合されており、また他片１７９ａ２が洗浄部７９ｂに連結されている。他片１７９ａ２には洗浄部１７９ｂ側に突出する突片１７９ａ３が設けられており、この突片１７９ａ３がボルト１７９ａ４等の固定部材を介して洗浄部１７９ｂに連結されている。このようにして洗浄部１７９ｂは、ボルト１７９ａ４等の固定部材を軸にして本体部１７９ａに回転自在に軸支されている。
また、他片１７９ａ２のボルト１７９ａ４から離れた位置には突起１７９ａ５が設けられており、この突起１７９ａ５は洗浄部１７９に設けられた長孔１７９ｂ１に挿入されている。突起１７９ａ５が長孔１７９ｂ１に挿入されることによって、洗浄部１７９ｂの回転範囲が規制されている。また、長孔１７９ｂ１の長手方向が、搬送レール１６３上の基板Ｐの基板面に対して略斜め方向若しくは略垂直方向に向けられている。
以上の構成によって、洗浄部１７９ｂが本体部１７９ａに対して上下方向に可動自在とされている。
尚、突起１７９ａ５には雄ネジ部が設けられていても良く、更にこの雄ネジ部に対してナット等を装着しても良い。突起１７９ａ５に設けられた雄ネジ部にナット等を装着することにより、本体部１７９ａに対して洗浄部１７９ｂを適当な位置に固定することができる。
【００３０】
図８に示した基板洗浄装置１０１によれば、洗浄部１７９ｂが本体部１７９ａに対して上下方向に可動自在とされているので、基板Ｐの厚みに合わせて搬送レール１６３とロールブラシとの間隔を調整することができ、これにより基板Ｐに対するロールブラシの押圧量を適度に合わせることができる。また、搬送レール１６３とロールブラシとの間隔を調整は、例えば、突起１７９ａ５の雄ネジ部に装着されたナット等をゆるめることで容易に調整できる。
【００３１】
次に図９には、本実施形態の基板洗浄装置の他の例を示す。図９に示す基板洗浄装置２０１は、洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられた装置である。この基板洗浄装置２０１は、上記の基板洗浄装置５１と同様に、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム２７９とフレーム２７９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ２６７とから概略構成されている。フレーム２７９は、搬送レール２６３を有する本体部２７９ａと、本体部２７９ａの上部に取り付けられた洗浄部２７９ｂとから構成されている。
【００３２】
洗浄部２７９ｂは、下側に開口部２７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル２８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル２８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部２７９ｂには、洗浄部２７９ｂに回転自在に支持されたロールブラシ２６７と、ロールブラシ２６７を回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング２６８が取り付けられている。ロールブラシ２６７は、集塵排出用ノズル２８０の直下に取り付けられている。
【００３３】
また図９に示すように、本体部２７９ａには、搬送レール２６３の間隔調整機構Ｍが備えられている。この幅調整機構Ｍは、先の基板洗浄装置５１と同様に、スライドレール８１，８１と、スライドレール８１、８１に固定されたストッパ２８２と、スライドレール８１、８１に対して可動自在に取り付けられた調整スライダ２８３とから構成されている。ストッパ２８２及び調整スライダ２８３には先の搬送レール２６３，２６３が取り付けられている。調整スライダ２８３の位置を調整することで、搬送レール２６３，２６３の間隔を基板Ｐの幅に合わせられるようになっている。
【００３４】
また、洗浄部２７９の内部には遮断部材２９０が備えられている。この遮断部材２９０は、一方の搬送レール２６３に接合されており、これにより遮断部材２９０は搬送レール２６３と連動してロールブラシ２６７の長手方向に沿って移動自在とされている。
遮断部材２９０は、図９及び図１０に示すように、ロールブラシ２６７の通過部２９１ａが設けられた遮断板２９１と、遮断板２９１からロールブラシ２６７の長手方向に沿って突出する複数のガイド部材２９２とから構成されている。ガイド部材２９２は、フレーム２７９の洗浄部２７９ｂの内面に対して摺動自在とされている。また、遮蔽板２９１は、ロールブラシ２６７の長手方向に対してほぼ垂直に設置されている。なお遮蔽板２９１の設置角度はロールブラシ２６７の長手方向に対して傾斜していても良い。以上の構成により、洗浄部２７９ｂとロールブラシ２６７との間を流通する気流を遮蔽板２９１によって遮断できるようになっている。
【００３５】
フレーム２７９の洗浄部２７９ｂには、搬送レール２６３と連動して移動自在とされた遮断部材２９０が備えられており、この搬送部材２９０は、基板Ｐの大きさに対応して洗浄部２７９ｂ内において位置決めされる。一方、ロールブラシ２６７は、図９に示すように基板Ｐの大きさに対応して基板Ｐに接触する接触部Ｃと非接触部Ｎとに分けられ、接触部Ｃのみに汚れが付着する。気流を遮断する遮断部材２９０は、このロールブラシ２６７の接触部Ｃと非接触部Ｎの境界に配置されるので、集塵排出用ノズル２８０の吸引によって生じる気流をロールブラシ２６７の接触部Ｃのみに流通させ、非接触部Ｎへの気流の流通を防止できる。これにより、集塵排出用ノズル２８０の吸引によるロールブラシ２６７の洗浄効率を向上させることができる。
【００３６】
尚、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、本実施形態においては、２つの除電装置を用いたが、ロールブラシの上流側にのみ除電装置を設けて構成してもよい。また、本実施形態では洗浄装置によってプリント基板を洗浄する形態を示したが、プリント基板以外の他の基板であってもよい。
また、本発明の基板洗浄装置は、基板供給装置に限らず、印刷機、捺印機、検査機等基板実装用機器、その他基板を供給して各種処理を行う装置の全てに取り付け可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明にかかる基板洗浄装置および基板供給装置の一例を示す正面図である。
【図２】図１に示す基板洗浄装置の斜視図である。
【図３】図１に示す基板洗浄装置の要部拡大図である。
【図４】図１に示す基板洗浄装置の分解斜視図である。
【図５】基板洗浄装置の別の例を示す斜視図である。
【図６】図５に示す基板洗浄装置の正面図である。
【図７】図５に示す基板洗浄装置の側面図である。
【図８】基板洗浄装置の更に別の例を示す斜視図である。
【図９】基板洗浄装置の他の例を示す正面図である。
【図１０】図９に示す基板洗浄装置の要部を示す側面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１…基板供給装置、２…昇降装置、３…搬送装置、４…収納ラック、５、５１、１０１、２０１…基板洗浄装置、１３、６３、１６３、２６３…搬送レール、１７、６７、２６７…ロールブラシ、２９、７９、１７９、２７９…フレーム、２９ａ，７９ａ、１７９ａ、２７９ａ…本体部、２９ｂ、７９ｂ、１７９ｂ、２７９ｂ…洗浄部、２８０…集塵排出用ノズル、２９０…遮断部材、Ａ…洗浄ユニット、Ｐ…プリント基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置および基板洗浄装置を備えた基板供給装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板の表面を洗浄する装置として、以下の特許文献１に記載のクリーニングマシンが提案されている。
このクリーニングマシンは、基板のエッジ部分を搭載して基板を搬送する搬送ベルトと、搬送ベルトにより搬送される基板に、回転しながら加圧接触する吸着ローラーと、吸着ローラーに、回転しながら加圧接触する粘着ローラーと、吸着ローラーを基板に接触する位置から離れた位置へ移動させる手段とを備えている。
【０００３】
このクリーニングマシンにおいて、搬送ベルトで搬送される基板は、その表面に吸着ローラーが加圧接触される。吸着ローラーは、シリコンゴム系の樹脂で形成され、濡れ性により基板表面のごみや埃を吸着することにより、基板がクリーニングされる。吸着ローラーはその表面に粘着材等を有しないので、ローラーから粘着材が基板に付着するような事故を防止することができる。吸着ローラーに吸着されたごみ等は、吸着ローラーが更に粘着ローラーに加圧接触することにより、吸着ローラーから粘着ローラーへ転写される。したがって、吸着ローラーは、長時間に渡ってクリーニング効果を持続することができる。このクリーニングマシンにおいては、基板はエッジ部分が搬送ベルトに保持され、搬送ベルトの反対側の片面のみがクリーニングされる。したがって、電子部品を搭載済みの基板の裏面をクリーニングする場合でも、電子部品を下面に、裏面を上面に配置して搬送ベルトに載せることにより、クリーニング処理をすることができる。また、クリーニングマシンにより処理を行わない、或いは処理ができない基板が投入された場合、吸着ローラーは基板に接触する位置から離れた位置へ移動する。これにより、このクリーニングマシンは、種々の形式の基板に対応することができるので、プリント基板の製造ラインに組み込むことが可能となる。このようにクリーニングマシンをインライン化することにより、基板をクリーニングした後、すぐに印刷工程に移行することができるので、再度基板にごみ等が付くことを防止し、クリーニング効果を更に向上することできる。
【０００４】
ところで、プリント基板の表面には種々のごみや埃などが付着しているとともに、プリント基板の表面の一部または全体にわたって静電気を帯びていることがある。プリント基板の表面が静電気を帯びている場合には、上記のごみや埃などがより強固にプリント基板に付着しており、吸着ローラーによって基板の表面を洗浄しようとしても、ごみや埃などを十分に取り除くことができないという虞があった。
【特許文献１】特開２００２−３５３５９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。また、基板洗浄装置を備えた基板供給装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシであることを特徴とする。
また、前記フレームに支持されて移動される前記基板を望む位置には、帯電された流体を噴出させるノズルが設けられていることが好ましい。
かかる構成によれば、導電性ブラシを用いることにより、基板を容易に洗浄することができる。さらに、基板に向けて帯電された流体を噴出させることにより基板が除電されるので、ロールブラシによってより容易に基板を洗浄することができる。
【０００７】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記ノズルが、前記ロールブラシに対して前記基板の搬送方向上流側または下流側のいずれか一方または両方に配置されていることが好ましい。
かかる構成によれば、上記と同様の効果が得られる。
【０００８】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部が前記本体部に対して上下方向に可動自在とされていることが好ましい。
この構成によれば、洗浄部が本体部に対して上下方向に可動自在とされているので、基板の厚みに合わせて搬送レールとロールブラシとの間隔を調整することができ、これにより基板に対するロールブラシの押圧量を適度に合わせることが可能になる。
【０００９】
また本発明の基板洗浄装置においては、前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部には前記ロールブラシを洗浄するための集塵排出用ノズルが設けられ、前記フレームには、前記洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられ、前記遮断部材は前記搬送レールと連動して前記ロールブラシの長手方向に沿って移動自在とされていることが好ましい。
この構成によれば、洗浄部に集塵排出用ノズルが設けられているので、集塵排出用ノズルから前記洗浄部内の空気を吸引して前記ロールブラシに付いた汚れを除去できる。
また、フレームには、搬送レールと連動して移動自在とされた遮断部材が備えられており、この搬送部材は、基板の大きさに対応して洗浄部内において位置決めされる。一方、ロールブラシは、基板の大きさに対応して基板に接触する接触部と非接触部とに分けられ、接触部のみに汚れが付着する。気流を遮断する遮断部材は、このロールブラシの接触部と非接触部の境界に配置されるので、集塵排出用ノズルの吸引によって生じる気流をロールブラシの接触部のみに流通させ、非接触部への気流の流通を防止できる。これにより、集塵排出用ノズルの吸引によるロールブラシの洗浄効率を向上させることができる。
【００１０】
次に、本発明の基板供給装置は、基板を収納する収納ラックと、該収納ラックを昇降させる昇降装置と、前記基板を搬送する搬送装置とを具備してなり、更に先のいずれかに記載の基板洗浄装置が取り付けられていることを特徴とする。
かかる構成によれば、基板を基板洗浄装置に搬送でき、搬送された基板に向けて帯電された流体を噴出させることにより基板が除電されるので、ロールブラシによって容易に基板を洗浄することができ、洗浄された基板を後工程装置に供給することができる。
【発明の効果】
【００１１】
以上に説明したように、本発明の基板洗浄装置よれば、導電性ブラシを用いることにより、基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる。
また、基板の表面が静電気を帯びていたとしても、基板に向けて帯電された流体を噴出させることによって、この静電気を除電させることができ、これによりロールブラシによる基板洗浄をより効率的に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態である基板洗浄装置および基板供給装置について図面を用いて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
尚、図１は基板供給装置の一例を示す正面図であり、図２は基板洗浄装置の斜視図であり、図３は基板洗浄装置の要部拡大図であり、図４は基板洗浄装置の分解斜視図である。
【００１３】
図１に示す本実施形態の基板供給装置１は、昇降装置２と、昇降装置２に収納ラック４を供給および排出する搬送装置３と、プリント基板（以下、単に基板と記す。）を洗浄する基板洗浄装置５と、基板Ｐを基板洗浄装置５に押し出す押出シリンダ６とを備えている。昇降装置２には、ボールネジ７、ガイドシャフト８，８に沿って昇降するテーブル９が設けられ、このテーブル９上に収納ラック４を載置するようになっている。搬送装置３は、上下二段に構成されており、下段が収納ラック４を昇降装置２に向けて搬送してこれを供給する供給コンベア１０となり、上段が収納ラック４を昇降装置２から受け取りこれを排出する排出コンベア１１となっている。また、昇降装置２のテーブル９には、収納ラック４をテーブル上の所定位置まで完全に移動させるためのコンベア１２が設置されている。
【００１４】
このような構成の基板供給装置１では、供給コンベア１０で搬送されてきた収納ラック４をテーブル９に載置した後、テーブル９を上昇させて、収納ラック内の最上段の基板Ｐと基板供給装置１の前方に設けられた基板洗浄装置５の搬送レール１３との高さを合わせる。その後、水平方向に往復運動する押出シリンダ６によって、収納ラック４の後端面４ｂ側から基板洗浄装置５の下方に配置された搬送レール上に基板Ｐを押し出すようになっている。
【００１５】
次に図２に示すように、基板洗浄装置５は、搬送された基板Ｐの表面を洗浄するものであって、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム２９とフレーム２９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ１７とから概略構成されている。
フレーム２９は、搬送レール１３を有する本体部２９ａと、本体部２９ａの上部に取り付けられる洗浄部２９ｂとから構成されている。
洗浄部２９ｂには、図２に示すように、洗浄ユニットＡが内蔵されている。洗浄ユニットＡは、図３に示すように、筐体１５と、筐体１５に取り付けられた２つの除電装置１６と、２つの除電装置１６の間に配置されるとともに筐体１５に回転自在に取り付けられたロールブラシ１７と、ロールブラシ１７を回転駆動する回転用モータ１８と、除電装置１６を制御するコントローラー１９とが取り付けられて構成されている。
次に本体部２９ａには、基板供給装置１から押し出された基板Ｐを案内する一対の搬送レール１３がロールブラシ１７の下方に取り付けられている。この搬送レール１３に案内された基板Ｐがロールブラシ１７の下方を通過する際に、基板表面がロールブラシ１７に接触するように搬送レール１３がロールブラシ１７に対して位置決めされている。
【００１６】
図４に示すように、除電装置１６は、流体供給部２０と供給管２１とを有しており、供給管２１には、図示略の複数のノズルが供給管２１の長手方向に沿って形成されている。また、ノズルは、基板Ｐの表面側に向けて開口されている。流体供給部２０には、図示略の放電機構を有する流路が設けられており、流路を通過する空気等の流体に対してコロナ放電等を行い、空気等の流体を帯電させることができるようになっている。また、供給管２１は、搬送レール１３に沿って搬送される基板Ｐを望む位置に取り付けられており、更に供給管２１には図示略のノズルが搬送される基板側に設けられている。この構成によって、図示略の複数のノズルから帯電させた空気等の流体を搬送途中の基板表面に対して吹き付けられるようになっている。一方の除電装置１６の一端には、軸受２２を有する軸受部２３が設けられている。ロールブラシ１７は、ナイロン、馬毛等から選ばれる材質で構成されており、ブラシ軸２３を有している。また、ロールブラシ１７は導電性ブラシを用いてもよい。導電性ブラシは、ブラシ毛に銅、カーボン等の導電性材料を用いたものである。
【００１７】
基板洗浄装置５を組み立てる場合には、筐体１５の支持具２４と側壁部２６，２７を接続し、２つの除電装置１６を支持具２４および側壁部２６に取り付ける。次に、除電装置１６の軸受２２にロールブラシ１７のロール軸２８の一端を取り付け、支持具２５でロール軸２８の他端を固定する。最後に、コントローラー１９を筐体１５に取り付け、回転用モータ１８を一方の除電装置１６の軸受部２３に取り付けることによって、洗浄ユニットＡを完成させる。そして、洗浄ユニットＡを洗浄部２９ｂに組み込み、更に洗浄部２９ａを、搬送レール１３を有する本体部２９の上部に取り付ける。このようにして基板洗浄装置５を組み立てる。
【００１８】
次に図１及び図２を参照して、本実施形態の基板洗浄装置５における基板Ｐの表面の洗浄工程について説明する。シリンダ６により押し出された基板Ｐは、基板洗浄装置５の下方に設けられた搬送レール１３を移動して基板洗浄装置５の下方に搬送される。搬送された基板Ｐには、一方の除電装置１６ａから帯電された空気等の流体が矢印Ｂに示す方向に沿って吹きつけられ、これにより基板Ｐの表面が除電される。次に、除電された基板Ｐは、６００ｒｐｍで回転しているロールブラシ１７の下を基板Ｐがロールブラシ１７に接触されたまま通過する。基板表面が予め除電されているので、ロールブラシ１７で基板表面を擦るだけで基板表面に付着している埃等の汚れが容易に除去される。その後、他方の除電装置１６ｂによって、基板Ｐの表面が再び除電される。こうして除電・洗浄された基板Ｐは、後工程装置３０に搬送される。
【００１９】
以上に説明したように、本実施形態の基板洗浄装置よれば、導電性ブラシを用いることにより、基板を容易に洗浄することができる。さらに、除電装置によって帯電した空気を基板に吹きつけることにより基板の表面を除電させるので、基板表面に付着している埃等の除去対象物の基板に対する静電気的な吸着力を弱めることができる。このように吸着力が弱まった埃等の除去対象物は、ロールブラシによって基板表面を擦ることで容易に除去することができる。これにより、基板の清浄度を飛躍的に高めることができる。
【００２０】
次に、図５〜図７には、本実施形態の基板洗浄装置５１の別の例を示す。
この図５〜図７に示す基板洗浄装置５１と、図１〜図４に示した基板洗浄装置１との相違点は、基板洗浄装置５１において除電装置を省略するとともに、導電性ブラシの上方に集塵排出ノズルを設け、更に搬送レールを短くした点である。
【００２１】
図５〜図７に示すように、基板洗浄装置５１は、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム７９とフレーム７９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ６７とから概略構成されている。ロールブラシ６７は、ブラシ毛に銅、カーボン等の導電性材料を用いてなる導電性ブラシである。
フレーム７９は、搬送レール６３を有する本体部７９ａと、本体部７９ａの上部に取り付けられる洗浄部７９ｂとから構成されている。
【００２２】
洗浄部７９ｂは、図５〜図７に示すように、下側に開口部７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部７９ｂには、洗浄部７９ｂに回転自在に支持されたロールブラシ６７と、ロールブラシ６７を回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング６８が取り付けられている。ロールブラシ６７は、集塵排出用ノズル８０の直下に取り付けられている。
【００２３】
次に本体部７９ａは、一片７９ａ１及び他片７９ａ２とからなる略Ｌ字形状の金具であって、一片７９ａ１が基板供給装置１にボルトで接合されており、また他片７９ａ２が洗浄部７９ｂに接合されている。このようにして本体部７９ａは、基板供給装置１と洗浄部７９ｂとを連結している。
また、本体部７９ａには、基板供給装置１から押し出された基板Ｐを案内する一対の搬送レール６３が取り付けられている。この搬送レール６３に案内された基板Ｐがロールブラシ６７の下方を通過する際に、基板表面がロールブラシ６７に接触するように搬送レール６３がロールブラシ６７に対して位置決めされている。
【００２４】
また図６に示すように、本体部７９ａには、搬送レール６３の間隔調整機構が備えられている。この幅調整機構Ｍは、本体部７９ａの他片７９ａ２、７９ａ２同士の間に掛け渡されたスライドレール８１，８１と、スライドレール８１、８１に固定されたストッパ８２と、スライドレール８１、８１に対して可動自在に取り付けられた調整スライダ８３とから構成されている。ストッパ８２及び調整スライダ８３には先の搬送レール６３，６３が取り付けられている。調整スライダ８３の位置を調整することで、搬送レール６３，６３の間隔を基板Ｐの幅に合わせられるようになっている。
【００２５】
基板洗浄装置５１における基板Ｐの表面の洗浄工程について説明すると、基板供給装置からシリンダ６によって押し出された基板Ｐは、基板洗浄装置５１の下方に設けられた搬送レール６３を移動して基板洗浄装置５１の下方に搬送される。搬送された基板Ｐは、６００ｒｐｍで回転しているロールブラシ６７の下を通過する。このときに基板表面がロールブラシ６７によって擦られて、基板表面に付着している埃等の汚れが容易に除去される。その後、ロールブラシ６７に付着された汚れは、集塵排出用ノズル８０を通じて図示しない集塵機に吸引される。このようにしてロールブラシ６７から汚れが取り除かれ、再び基板表面の汚れの除去に用いられる。こうして洗浄された基板Ｐは、後工程装置に搬送される。
【００２６】
上記の基板洗浄装置５１によれば、基板供給装置１と洗浄部７９ｂとが本体部７９ａによって連結されているので、基板供給装置１からロールブラシ６７間での距離が近くなり、またこれに伴って搬送レール６３を短くすることができ、基板洗浄装置５１の小型化を図ることができる。
また、ロールブラシ６７がフード状の洗浄部６９ｂの内部に配置されているので、外部の集塵機を洗浄部６９ｂの集塵排出用ノズル８０に取り付けて吸引することによって、ロールブラシ６７に付着した汚れを容易に取り除くことができる。これにより、ロールブラシ６７を常に綺麗な状態に保つことができ、ロールブラシ６７のメンテナンスの頻度が少なくなり、基板洗浄装置５１を長時間に渡って連続して稼働させることができる。
【００２７】
次に図８には、本実施形態の基板洗浄装置の更に別の例を示す。図８に示す基板洗浄装置１０１は、フレームの洗浄部が本体部に対して上下方向に可動自在とされた装置である。この基板洗浄装置１０１は、上記の基板洗浄装置５１と同様に、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム１７９とフレーム１７９に対して回転自在に取り付けられた図示略のロールブラシとから概略構成されている。フレーム１７９は、搬送レール１６３を有する本体部１７９ａと、本体部１７９ａの上部に取り付けられた洗浄部１７９ｂとから構成されている。
【００２８】
洗浄部１７９ｂは、下側に開口部１７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル１８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル１８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部１７９ｂには、洗浄部１７９ｂに回転自在に支持された図示略のロールブラシと、ロールブラシを回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング１６８が取り付けられている。ロールブラシは、集塵排出用ノズル１８０の直下に取り付けられている。
【００２９】
本体部１７９ａは、一片１７９ａ１及び他片１７９ａ２とからなる略Ｌ字形状の金具であって、一片１７９ａ１が基板供給装置１にボルトで接合されており、また他片１７９ａ２が洗浄部７９ｂに連結されている。他片１７９ａ２には洗浄部１７９ｂ側に突出する突片１７９ａ３が設けられており、この突片１７９ａ３がボルト１７９ａ４等の固定部材を介して洗浄部１７９ｂに連結されている。このようにして洗浄部１７９ｂは、ボルト１７９ａ４等の固定部材を軸にして本体部１７９ａに回転自在に軸支されている。
また、他片１７９ａ２のボルト１７９ａ４から離れた位置には突起１７９ａ５が設けられており、この突起１７９ａ５は洗浄部１７９に設けられた長孔１７９ｂ１に挿入されている。突起１７９ａ５が長孔１７９ｂ１に挿入されることによって、洗浄部１７９ｂの回転範囲が規制されている。また、長孔１７９ｂ１の長手方向が、搬送レール１６３上の基板Ｐの基板面に対して略斜め方向若しくは略垂直方向に向けられている。
以上の構成によって、洗浄部１７９ｂが本体部１７９ａに対して上下方向に可動自在とされている。
尚、突起１７９ａ５には雄ネジ部が設けられていても良く、更にこの雄ネジ部に対してナット等を装着しても良い。突起１７９ａ５に設けられた雄ネジ部にナット等を装着することにより、本体部１７９ａに対して洗浄部１７９ｂを適当な位置に固定することができる。
【００３０】
図８に示した基板洗浄装置１０１によれば、洗浄部１７９ｂが本体部１７９ａに対して上下方向に可動自在とされているので、基板Ｐの厚みに合わせて搬送レール１６３とロールブラシとの間隔を調整することができ、これにより基板Ｐに対するロールブラシの押圧量を適度に合わせることができる。また、搬送レール１６３とロールブラシとの間隔を調整は、例えば、突起１７９ａ５の雄ネジ部に装着されたナット等をゆるめることで容易に調整できる。
【００３１】
次に図９には、本実施形態の基板洗浄装置の他の例を示す。図９に示す基板洗浄装置２０１は、洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられた装置である。この基板洗浄装置２０１は、上記の基板洗浄装置５１と同様に、基板Ｐを移動自在に支持するフレーム２７９とフレーム２７９に対して回転自在に取り付けられたロールブラシ２６７とから概略構成されている。フレーム２７９は、搬送レール２６３を有する本体部２７９ａと、本体部２７９ａの上部に取り付けられた洗浄部２７９ｂとから構成されている。
【００３２】
洗浄部２７９ｂは、下側に開口部２７９ｃを設けたフード状（箱形）の部材であって、上側には集塵排出用ノズル２８０が取り付けられている。この集塵排出用ノズル２８０の先には、図示しない集塵機が取り付けられている。また、この洗浄部２７９ｂには、洗浄部２７９ｂに回転自在に支持されたロールブラシ２６７と、ロールブラシ２６７を回転駆動させるモータが内蔵されたモータハウジング２６８が取り付けられている。ロールブラシ２６７は、集塵排出用ノズル２８０の直下に取り付けられている。
【００３３】
また図９に示すように、本体部２７９ａには、搬送レール２６３の間隔調整機構Ｍが備えられている。この幅調整機構Ｍは、先の基板洗浄装置５１と同様に、スライドレール８１，８１と、スライドレール８１、８１に固定されたストッパ２８２と、スライドレール８１、８１に対して可動自在に取り付けられた調整スライダ２８３とから構成されている。ストッパ２８２及び調整スライダ２８３には先の搬送レール２６３，２６３が取り付けられている。調整スライダ２８３の位置を調整することで、搬送レール２６３，２６３の間隔を基板Ｐの幅に合わせられるようになっている。
【００３４】
また、洗浄部２７９の内部には遮断部材２９０が備えられている。この遮断部材２９０は、一方の搬送レール２６３に接合されており、これにより遮断部材２９０は搬送レール２６３と連動してロールブラシ２６７の長手方向に沿って移動自在とされている。
遮断部材２９０は、図９及び図１０に示すように、ロールブラシ２６７の通過部２９１ａが設けられた遮断板２９１と、遮断板２９１からロールブラシ２６７の長手方向に沿って突出する複数のガイド部材２９２とから構成されている。ガイド部材２９２は、フレーム２７９の洗浄部２７９ｂの内面に対して摺動自在とされている。また、遮蔽板２９１は、ロールブラシ２６７の長手方向に対してほぼ垂直に設置されている。なお遮蔽板２９１の設置角度はロールブラシ２６７の長手方向に対して傾斜していても良い。以上の構成により、洗浄部２７９ｂとロールブラシ２６７との間を流通する気流を遮蔽板２９１によって遮断できるようになっている。
【００３５】
フレーム２７９の洗浄部２７９ｂには、搬送レール２６３と連動して移動自在とされた遮断部材２９０が備えられており、この搬送部材２９０は、基板Ｐの大きさに対応して洗浄部２７９ｂ内において位置決めされる。一方、ロールブラシ２６７は、図９に示すように基板Ｐの大きさに対応して基板Ｐに接触する接触部Ｃと非接触部Ｎとに分けられ、接触部Ｃのみに汚れが付着する。気流を遮断する遮断部材２９０は、このロールブラシ２６７の接触部Ｃと非接触部Ｎの境界に配置されるので、集塵排出用ノズル２８０の吸引によって生じる気流をロールブラシ２６７の接触部Ｃのみに流通させ、非接触部Ｎへの気流の流通を防止できる。これにより、集塵排出用ノズル２８０の吸引によるロールブラシ２６７の洗浄効率を向上させることができる。
【００３６】
尚、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、本実施形態においては、２つの除電装置を用いたが、ロールブラシの上流側にのみ除電装置を設けて構成してもよい。また、本実施形態では洗浄装置によってプリント基板を洗浄する形態を示したが、プリント基板以外の他の基板であってもよい。
また、本発明の基板洗浄装置は、基板供給装置に限らず、印刷機、捺印機、検査機等基板実装用機器、その他基板を供給して各種処理を行う装置の全てに取り付け可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明にかかる基板洗浄装置および基板供給装置の一例を示す正面図である。
【図２】図１に示す基板洗浄装置の斜視図である。
【図３】図１に示す基板洗浄装置の要部拡大図である。
【図４】図１に示す基板洗浄装置の分解斜視図である。
【図５】基板洗浄装置の別の例を示す斜視図である。
【図６】図５に示す基板洗浄装置の正面図である。
【図７】図５に示す基板洗浄装置の側面図である。
【図８】基板洗浄装置の更に別の例を示す斜視図である。
【図９】基板洗浄装置の他の例を示す正面図である。
【図１０】図９に示す基板洗浄装置の要部を示す側面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１…基板供給装置、２…昇降装置、３…搬送装置、４…収納ラック、５、５１、１０１、２０１…基板洗浄装置、１３、６３、１６３、２６３…搬送レール、１７、６７、２６７…ロールブラシ、２９、７９、１７９、２７９…フレーム、２９ａ，７９ａ、１７９ａ、２７９ａ…本体部、２９ｂ、７９ｂ、１７９ｂ、２７９ｂ…洗浄部、２８０…集塵排出用ノズル、２９０…遮断部材、Ａ…洗浄ユニット、Ｐ…プリント基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシであることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記フレームに支持されて移動される前記基板を望む位置に、帯電された流体を噴出させるノズルが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記ノズルが、前記ロールブラシに対して前記基板の搬送方向上流側または下流側のいずれか一方または両方に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部が前記本体部に対して上下方向に可動自在とされていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部には前記ロールブラシを洗浄するための集塵排出用ノズルが設けられ、前記フレームには、前記洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられ、前記遮断部材は前記搬送レールと連動して前記ロールブラシの長手方向に沿って移動自在とされていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
基板を収納する収納ラックと、該収納ラックを昇降させる昇降装置と、前記基板を搬送する搬送装置とを具備してなり、更に請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の基板洗浄装置が取り付けられていることを特徴とする基板供給装置。
【請求項１】
基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシであることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記フレームに支持されて移動される前記基板を望む位置に、帯電された流体を噴出させるノズルが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記ノズルが、前記ロールブラシに対して前記基板の搬送方向上流側または下流側のいずれか一方または両方に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部が前記本体部に対して上下方向に可動自在とされていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記フレームが、前記基板を搬送する搬送レールを備えた本体部と、前記本体部の上部に取り付けられて内部に前記ロールブラシが備えられた箱形の洗浄部とから構成され、前記洗浄部には前記ロールブラシを洗浄するための集塵排出用ノズルが設けられ、前記フレームには、前記洗浄部と前記ロールブラシとの間を流通する気流を遮断する遮断部材が備えられ、前記遮断部材は前記搬送レールと連動して前記ロールブラシの長手方向に沿って移動自在とされていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
基板を収納する収納ラックと、該収納ラックを昇降させる昇降装置と、前記基板を搬送する搬送装置とを具備してなり、更に請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の基板洗浄装置が取り付けられていることを特徴とする基板供給装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００６−２９５１１２（Ｐ２００６−２９５１１２Ａ）
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２８６４６９（Ｐ２００５−２８６４６９）
【出願日】平成１７年９月３０日（２００５．９．３０）
【出願人】（５９３１６４１５８）小松電子株式会社 (11)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月３０日（２００５．９．３０）
【出願人】（５９３１６４１５８）小松電子株式会社 (11)
【Ｆターム（参考）】
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