説明

Fターム[3B116AB44]の内容

清浄化一般 (18,637) | 被清浄物の取扱い (3,089) | 被清浄物を搬入する (2,045) | 被清浄物を支持 (568) | 収納手段 (178) | キャリア,ホルダー (83)

Fターム[3B116AB44]に分類される特許

1 - 20 / 83


【課題】洗浄対象物の表面形状の違いに拘らず、単一の部材で且つ簡単なセッティング操作で洗浄媒体の飛散を防止でき、洗浄装置に対する洗浄対象物の保持操作の容易化を実現できるとともに、洗浄対象物の表面形状の違い毎に用意することの無駄を無くすことができる洗浄媒体飛散防止部材を提供する。
【解決手段】洗浄対象物4は洗浄対象物保持体12の保持ピン32に支持されて洗浄槽6の開口部6aに対向して保持されている。洗浄対象物保持体12の上方から、低反発性ウレタンスポンジを芯材とする洗浄媒体飛散防止部材22Aが挿入され、押圧手段24により押圧される。洗浄媒体飛散防止部材22Aは洗浄対象物4の表面形状に沿って変形し、これにより、洗浄槽6で空気流により飛翔する洗浄媒体5が飛散してその数量が少なくなることが防止される。 (もっと読む)


【課題】薄くされたチップを積層して半導体装置を製造する際に、処理対象の上面に存在する異物によって積層させるチップが割れてしまうことを防ぐ異物検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、異物検査装置20は、下地検査部221および下地検査部221を支持する支持部222を有する検知ヘッド22と、下地データ格納部233、検査制御部232および異物存在判定部234を有する制御部23と、を備える。下地データ格納部233は、配線基板80または配線基板80の最上層のチップの配置位置を示す下地配置領域を含む下地データを格納する。検査制御部232は、検知ヘッド22を検査対象上の所定の位置に接触させながら所定の力で押圧するように制御する。異物存在判定部234は、下地検査部221から取得した検査データから、下地データを参照して下地配置領域のうち周囲よりも圧力が高まっている領域を異物存在領域として抽出する。 (もっと読む)


【課題】第1の外装体と第2の外装体との隙間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減すると共に、生産性を向上させる水晶素板洗浄用治具を提供することを課題とする。
【解決手段】 水晶素板洗浄用治具100は、第1及び第2の外装体110及び120を備えている。第1の外装体110は、水晶素板10が設けられる収容部111を有し、収容部111の底面に第1の貫通孔112が設けられ、収容部111を囲むようにして磁石部113が設けられている。第2の外装体120は、第2の貫通孔122を有しており、収容部111を覆うように磁石部113によって第1の外装体110に固定される。 (もっと読む)


【課題】リードフレームに搭載されたLED素子を傷付けることなく、プラズマ洗浄するプラズマ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】収納装置2内の3つの収納ブロック10の各収納溝13内に複数枚のリードフレーム3が収納されて開閉扉が閉じた状態で、プラズマ洗浄装置1において真空状態にされたチャンバー1A内にプラズマ反応性ガスを供給すると共に、一対の電極のうちの一方に高周波電源により高周波を印加して前記反応性ガスをプラズマ化して前記リードフレーム3を洗浄する。このとき、収納装置2の各収納溝13内に収納された状態の各リードフレーム3は各マグネット14の磁力により下方に引かれて垂直状態に自立するので、傾いて各リードフレーム3は上端部が互いに近くなったり、逆に遠くなったりしないようにすることができる。 (もっと読む)


【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置1は、基板9を搬送する搬送機構2と、基板9との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板9に接触して回転することにより基板9に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ3と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ3に向けて供給する第1洗浄液供給部6と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ノズル本体のノズル孔の内周面に付着した付着物を確実に除去できるようにする。
【解決手段】ノズル保持部30により、ノズル本体50の先端部を貯留槽20内の液媒体に浸漬させ、ノズル本体50の先端部が貯留槽20の底面と所定の間隙を存して対向するようにノズル本体50を保持する。そして、超音波振動子21によってノズル本体50を振動させている間に、吸引部40によってノズル本体50のノズル孔50aを介して液媒体を吸引する。 (もっと読む)


【課題】化学強化により所望の耐衝撃性能を有するディスプレイ装置用カバーガラスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程と、ガラス板を洗浄する洗浄工程と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程と、を備えるディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法であって、洗浄工程は、洗浄工程後、化学強化工程前におけるガラス板のBOR強度が400N以上となるように、ガラス板の少なくとも一方の主表面にロールブラシの先端を当接させることでガラス板を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽12の内側において、壁部21の周方向に複数の第一案内翼24を設ける。この第一案内翼24は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク19の洗浄時に供給され、フォトマスク19の回転により壁部21方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼24により下方に導く。また、第一案内翼24の下方において、壁部21の周方向に複数の第二案内翼25を設ける。第二案内翼25は、第一案内翼24により導かれたクリーンエアを、処理槽12の底部22に接続さている排出管部15に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽12から排出する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段11に保持され、洗浄液としてのDIWの液膜が形成された基板Wの表面Wfに対し、媒介液供給機構55から媒介液としてのトルエンを供給し、DIWの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構51によりトルエンを介してDIWに超音波を付与しながら、凝固手段31から基板表面Wfに凍結用の窒素ガスを吐出し、DIWを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいDIWの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するDIWの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 (もっと読む)


【目的】放電電極部を処理ガスから保護し、酸化を防止して、寿命を長くする。
【解決手段】電極22〜25を電極カバー22P〜25Pで覆い、放電開口22HL,HR〜25HL,HR(22HL、25HRは閉塞されている)を設ける。また、放電開口22HL,HR〜25HL,HRの上流側で、90°位相がずれた位置に保護ガス流入口22Q〜25Qを設ける。保護ガス流入口22Q〜25Qから流入させられた保護ガスは、放電電極部22S〜25Sの周辺を流れて放電空間に流出させられる。放電電極部22S〜25Sに保護ガスが供給されるため、放電電極部22S〜25Sが処理ガスに接触し難くすることができる。そのため、放電電極部22S〜25Sの酸化を抑制し、寿命を長くすることができる。 (もっと読む)


【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。
【解決手段】放電空間42Bとプラズマ出力口16との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路81Bに関して、X部分81BX、Z部分81BZのX部分81BXXの接続部Mより放電空間側の部分81BZO、X部分81BXX、拡散器82B、スリット86等により主通路が構成され、Z方向部分81BZの接続部Mより放電空間とは反対側の部分81BZPにより分岐通路が構成される。アース板90は、分岐通路81BZPを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路81BZPと主通路の部分81BZOとは同一直線上に位置するため、アース板90との間で放電が起き、ワークWとの間では起き難くすることができる。 (もっと読む)


【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めることにより洗浄品質と洗浄効率とを向上させることができる洗浄媒体を提供する。
【解決手段】気流により飛翔することにより洗浄対象物に衝突して該洗浄対象物Wに付着している付着物dを除去するために用いられる洗浄媒体であって、上記洗浄媒体Mは、平坦面からなる基部から屈曲あるいは湾曲による立ち上がり部を有する可撓性薄片で構成され、基部Mの表裏各面と立ち上がり部との間の隙間に気流が進入できるようにすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】洗浄対象面内の清浄度およびその均一性を高めさらにメンテナンスも容易なUVオゾン洗浄装置を提供すること。
【解決手段】UV照射室(10)内に2つのUVユニット(20A、20B)を備えており、これらUVユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物(30)が基板搬送部(40)により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第1および第2のガス供給部(50A、50B)から、UV照射室(10)内に搬送された基板(30)の表面に向けて供給される。ガス排出部(60)は、装置(100)の底部に設けられており、UV照射室(10)内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット(70A、70B)の作用により、ガス排気経路部(80A、80B)を通ってガス排出部(60)から外部へと排出される。 (もっと読む)


【課題】柱上変圧器のケースの底面に発生した錆を落す作業を容易に行うことができるようにする。
【解決手段】軸線方向を鉛直方向に向け、底面を下方に向けた柱上変圧器のケースTを下方から支える退避可能な可動テーブル2と、可動テーブルの上に支持されたケースをクランプするクランプ機構3と、クランプされたケースの下方に昇降装置とX−Y移動装置とを介して支持されていて、ケースの底面に回転研削ブラシを接触させてケースの底面を研削する研削装置6とを備え、可動テーブル2をクランプされたケースTの下方から退避させた状態で研削装置6をX−Y移動装置により水平面上でXY方向に移動させることにより回転研削ブラシをケースの底面に沿って移動させながら、ケースの底面全体の錆落しを行う。 (もっと読む)


【課題】壜を苛性溶液で洗浄した後の濯ぎ用の洗浄水の使用量を削減すると共に、濯ぎ洗浄工程を短縮する。
【解決手段】筐体3内を循環する無端チェン4に取り付けられ、複数の壜Bを保持して搬送するキャリア4aと、筺体3内に設けられ、キャリアによって搬送される壜を浸漬させて洗浄する高温苛性浸漬槽7と、高温苛性浸漬槽の下流側で、高温苛性により洗浄された壜を予備濯ぎするとともに高温の壜を適宜の温度に冷却する温水浸漬槽8と、温水浸漬槽の下流側で、予備濯ぎされた壜を清水で濯ぎ洗浄する濯ぎ洗浄部9と、温水浸漬槽8内の槽水を中和するための酸供給装置30と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】薄板部材洗浄装置1000は、蓋部材1101と、この蓋部材1101により一方端側に設けられた開口部が閉ざされ、内部に水道水1300が蓄えられる細長い円筒形状容器1102とを含む洗浄容器1100と、この洗浄容器1100内に収容され、洗浄容器1100内を移動することで水道水1300によりその表面が洗浄されるメッシュ部材160を保持する薄板部材固定部材1200とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 外装体と洗浄治具本体の間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを防止すると共に、洗浄治具自体の反りや破損を防止することができる洗浄治具を提供することを課題とする。
【解決手段】 薄板を洗浄する際に用いられる洗浄治具であって、薄板が挿入可能とするように、第1の基部と第1の枠部により設けられる第1の収容部を有し、第1の収容部底面に第1の貫通孔が設けられている第1の外装体と、第2の基部と第2の枠部により設けられる第2の収容部を有し、第2の収容部底面に第2の貫通孔が設けられ、第2の収容部底面の4隅に第2の注入排出孔が設けられている第2の外装体と、を備え、第1の枠部が第2の収容部内に嵌め込めるようになっており、第1の枠部の4隅に第1の注入排出孔が第2の注入排出孔と向かい合う位置に設けられ、第1の注入排出孔が第1の収容部と連通していることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】検査対象基板上の異物を確実に除去することができる基板検査装置の提供。
【解決手段】基板検査装置1は、マスク116、複数の粘着性粒子が離脱可能に設けられた剥離シート20、および粘着部材22が装着されるマスクホルダ117と、マスクホルダ117に対してマニピュレータ(例えばナノピンセット10)と検出部41とが設けられた検出ヘッド113を相対移動させる移動手段である鉛直方向駆動機構123および水平方向駆動機構124と、制御装置200を備えている。制御装置200は、剥離シート20に設けられた複数の微小吸着粒子のいずれか一つをマニピュレータで保持して離脱させ、微小吸着粒子を保持したマニピュレータを異物の位置へ移動し、異物を粘着性粒子に付着させてマスク116から除去し、異物が付着した微小吸着粒子を粘着部材22に付着させて移送する。 (もっと読む)


【課題】フォトマスクの大型化に伴う撓みによる洗浄ムラを解消した、とくにフォトマスクの中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる洗浄ブラシを用いた回転式フォトマスク洗浄装置の提供。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する装置であって、少なくともフォトマスク保持部と、フォトマスクを保持しつつ回転させる回転機構と、回転機構制御部と、アームに取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ位置制御部を具備していることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】
小型の枚葉袋のレトルトパウチの袋口のシール部内側に付着した付着物をより効果的に除去する方法と装置を提供する。
【解決手段】
圧縮空気を風車に吹付け、風車を回転させ、該圧縮空気を風車の回転軸内を経由し、回転軸先端のノズルヘッドの均等かつ放射状に配設された複数のノズルから吹き出して付着物を除去する方法及び装置とする。 (もっと読む)


1 - 20 / 83