【課題】部品の母材を傷付けることなくパリレン膜を効率よく除去することができる除膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置を用いて成膜対象物に対しパリレン膜を成膜したとき、この成膜装置の構成部品Ｂに付着したパリレン膜Ｐを除去する除膜方法において、パリレン膜Ｐが付着した構成部品Ｂたる防着板の表面にペレット状のドライアイスを吹き付けて衝突させるブラスト工程を含む。このブラスト工程に先立ち、防着板を加熱する加熱工程を更に含ませてもよい。 （もっと読む）

【課題】効率良く、ＵＶ樹脂をはがし取ることが可能なドライアイスペレットを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】固定治具に固定される洗浄対象物に対して、ドライエアーを用いて、ドライアイスペレットを吹き付け、前記対象物の表面を洗浄する。前記ドライエアーは、露点が、−６０°ないし−８０°である。前記ドライエアーと前記ドライアイスペレットを前記対象物の表面に噴射するノズルを有し、前記ノズルと前記対象物の表面との間の間隔は、５ｍｍないし７０ｍｍである。前記ノズルの断面形状は、円形形状、あるいは、楕円形状、あるいは長方形である。前記ドライアイスペレットは、直径が１ｍｍないし３ｍｍで、長さが１ｍｍないし５ｍｍ、より好ましくは、長さが１ｍｍないし５ｍｍである。前記対象物は、製品分解後の液晶表示パネルの上偏光板、タッチパネル、あるいは、フロントウィンドウのいずれかである。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面に付着した微小な異物、特にフィルムと同じ材質の異物を除去するためのフィルム洗浄技術を提供すること。
【解決手段】フィルム８００を搬送しながら、加熱冷却部３００で加熱及び冷却を行った後、洗浄部４００で洗浄し乾燥部５００で乾燥を行う。加熱冷却部３００では、加熱・冷却時のフィルム及びこれに付着する異物の温度差により、両者の熱応力（変形量）に差が生じ、異物はフィルムから剥離される。洗浄部４００では、剥離された異物をフィルムから除去する。 （もっと読む）

【課題】真空脱ガス槽の内側面に付着した付着物を短時間で効率よく除去する。
【解決手段】付着物除去治具１は、上下方向に延伸する軸部１０を有している。軸部２０の外側面には、４つの突出部２０が設けられている。突出部２０は、平面視において、軸部１０の外側面に沿って等間隔に設けられている。突出部２０の水平方向の端部上面には、取り外し自在の接触部２１が設けられている。軸部１０の下端には、重錘部３０が設けられている。そして、バーナーにより付着物Ｓを加熱した後、真空脱ガス槽４０内に付着物除去治具１を挿入し、接触部２１を付着物Ｓに接触させた状態で、付着物除去治具１を上方に移動させて付着物Ｓを除去する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の表面に付着硬化した付着物質を、きわめて効率良く、洗浄物を傷付けることなく、高い洗浄能力をもって剥離除去する洗浄技術を提供する。
【解決手段】
洗浄液体Ｌに無数の微小洗浄粒体Ｇ、Ｇ、…を混合してなる洗浄液剤ＣＬに機械構成部品等の被洗浄物Ｗを浸漬して、これら洗浄液剤ＣＬと被洗浄物Ｗに相対的な運動を与え、これにより、被洗浄物Ｗ表面に対する洗浄液剤ＣＬの擦れ合い作用および衝突作用を利用して、被洗浄物Ｗ表面に付着硬化したプラスチック等の付着物質Ｏを磨耗粉砕して剥離除去する。この結果、被洗浄物Ｗ表面に付着硬化した付着物質Ｏが、きわめて効率良く、しかも被洗浄物Ｗ表面を傷付けることもなく、高い洗浄能力をもって剥離除去される。 （もっと読む）

【課題】エキシマ真空紫外光ランプから射光されたエキシマ真空紫外光を効率よくウエハに照射することができ、真空紫外光を利用してウエハの薄膜を良好に改質することができるエキシマ真空紫外光照射処理装置を提供する。
【解決手段】エキシマ真空紫外光照射処理装置１０は、ウエハ１６を収容するチャンバー１２と、チャンバー１２内を真空に保持する真空ポンプ１３と、チャンバー１２内に窒素を供給するガス供給装置１４と、チャンバー１２内に収容されたウエハ１６を所定温度に加熱するヒータ１５と、チャンバー１２内に収容されたウエハ１６の薄膜にエキシマ真空紫外光を照射するエキシマ真空紫外光ランプ２１とを備えている。装置１０では、ランプ２１がチャンバー１２内に露出しつつ、真空状態にあるチャンバー１２内に収容されたウエハ１６の薄膜に真空紫外光を直接照射する。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の表面に形成されている酸化膜を、従来よりも効率的に除去する。
【解決手段】 この発明に係るクリーニング装置１０によれば、チャンバ１２内のプラズマ発光室３８で、水素プラズマが生成される。そして、この水素プラズマに含まれる水素ラジカルのみが、遮蔽板３６をすり抜けて、処理室４０に導かれる。処理室４０においては、支持台１４上に設置された被処理物１８，１８，…が、抵抗加熱ヒータ２０によって加熱されおり、この被処理物１８，１８，…の表面に形成されている酸化膜と、水素ラジカルと、が互いに反応し合うことによって、当該酸化膜が還元され、除去される。さらに、被処理物１８，１８，…には、支持台１４および連結棒２２を介して、超音波振動子２４から振動が付与される。これによって、被処理物１８，１８，…の隅々にまで水素ラジカルが行き届き易くなると共に、当該水素ラジカルと酸化膜との反応が活性化される。 （もっと読む）

【課題】焼き網等の洗浄対象物の洗浄効率の向上を図るとともに、この対象物に付着した汚れを十分に洗い落とすことができる洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】焼き網に順次処理を施すことによってこの焼き網を洗浄する。処理のうち一ないし複数の処理を施す処理ステーション３ａ〜３ｆが配設された処理基台３と、焼き網を支持するとともにこの焼き網を処理基台３の所定の処理ステーション３ａ〜３ｆに順次搬送する回転テーブル４および支持アーム５とを備える。処理基台３は、焼き網を加熱する加熱ステーション３ｃと、この加熱ステーション３ｃにおいて加熱された焼き網をブラッシング処理するブラッシングステーション３ｄ，３ｅとを少なくとも含む。加熱ステーション３ｃに誘導加熱によって焼き網を加熱する加熱装置８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。乾燥／現像処理ブロック１２は乾燥処理部９５を備える。インターフェースブロック１３はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。乾燥処理部９５において基板Ｗの洗浄および乾燥が行われる。 （もっと読む）