【課題】ベアリング部を常に望ましい衛生状態にすると共に、洗浄液の消費量を低減することができるクリーニングヘッドを提供する。
【解決手段】クリーニングヘッドの洗浄のための洗浄液の供給量を調整するため、本発明におけるハブ（４）は、ＡＩＳＩ３１６Ｌ及びNitronic60のような摩耗しない金属からなるベアリング、好ましくはベアリング部（１５、２０）の材料が互いに異なる、によりハウジング（３）内に取り付けられている。それにより、液体はベアリングギャップ（１４）を通過することができ、ハブ（１４）を洗浄する液体の消費量と、表面に固定された強固な液体層の形成とを正確に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】 各種サイズの異物を除去でき、基板への押し付け量を容易に調整でき、ブラシの自己洗浄が可能な基板洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】 帯状の長い金具に毛束を挟んでなるチャンネルブラシ２０を設けて当該チャンネルブラシ２０をローラ状のブラシシャフト１０外周に数本等間隔で配列させて螺旋状に巻きつけてなり回転させることで基板表面の洗浄液を等間隔であいたブラシの目に沿って排出させながら洗浄する基板洗浄ブラシであって、ブラシシャフト１０の外周にチャンネルブラシ２０ａ、２０ｂ、２０ｃを３本配列させて傾斜角度が５〜１５度で螺旋状に巻きつけるとともに、この３本配列した各チャンネルブラシ２０は毛の太さ（Ｌ、Ｍ、Ｓ）が各々異なり、配列順に洗浄液の水圧に倒れず排出できる硬さから段階的に柔らかくなるように設ける。 （もっと読む）

【課題】 安価であって、薬品を用いることもなく、バクテリア等の雑菌を除去して、充分な洗浄機能を確保できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５によって紫外線を照射した後のＵＶ処理液（洗浄液）を、洗浄液供給部９によってブラシ基部５１に供給し、ブラシ基部５１では、洗浄液案内路１３を通して吐出口１３１からブラシ毛束５０に対して上記紫外線照射後のＵＶ処理液を吐出して、ブラシ毛束５０での雑菌繁殖を防止する。 （もっと読む）

【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）