本発明は、可変キャパシタンスに基づいて撓み距離だけ隔離された第１のプレート及び第２のプレートを有する、静電気的に制御される微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）素子（２６）と、ある電荷量を蓄積するよう構成された電荷蓄積素子（２２）と、スイッチ回路（１８）とを備える、微小電気機械システム（１０）を提供する。前記電荷蓄積素子と前記ＭＥＭＳ素子との間で前記電荷量を分配して、該電荷蓄積素子と該ＭＥＭＳ素子とを同じ電圧に均等化することによって、ＭＥＭＳ素子の可変キャパシタンスを制御するよう前記スイッチ回路が構成される。
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ＭＥＭＳ慣性センサは、少なくとも部分的に低湿度浸透性成形材料から形成されるプリモールドタイプパッケージ内に固定される。その結果、そのような動き検出器は、セラミックパッケージを使用したものより経済的に製造され得る。これらの目的のために、パッケージは、空洞を形成するようにリードフレームから延びている（低湿度浸透性を有する）少なくとも一つの壁と空洞内の（上面を有する）アイソレータとを有する。ＭＥＭＳ慣性センサは、底面を有する基板上に保持された可動構造を有する。基板の底面は、接触領域でアイソレータ上面に固定されている。例示的実施形態において、該接触領域は、基板の底面の表面領域より小さい。従って、アイソレータは、基板底面の少なくとも一部とパッケージとの間にスペースを形成する。従って、このスペースは、アイソレータから自由になっている。
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マイクロ流体システムは、例えばセンサ又はポンプユニットといった要素4を有する。それらは、チャネル7で導かれる流体の特性を測定するよう又はこの液体に関する影響を与えるよう意図される。本発明において、マイクロ流体システムは、要素構造49が形成され、それと平行にチャネル構造8が、チャネル7がチャネル構造8に組み込まれるような態様で配置され、要素4がキャストジャケット物質5に埋め込まれることが提案される。斯かるマイクロ流体システムにおいて、チャネルを通る非常に良好な流れ特性を備える流体の流れが実現されることができるという態様で、要素がチャネルに対して配置されることができる。
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【課題】 ＭＥＭＳと受動素子が集積化されたモジュールを提供する。
【解決手段】 第１基板、第１基板に接合された１以上のＭＥＭＳ、第１基板に接合された第２基板、第２基板に接合された１以上の受動素子を備える装置を提供するとしてもよい。１以上のＭＥＭＳが接合された第１基板と、１以上の受動素子が接合された第２基板を位置合わせすることと、位置合わせされた第１基板と第２基板を接合することとを含む方法を提供するとしてもよい。 （もっと読む）

本発明は、ＭＥＭＳまたは封入された小型デバイスに関しての密封性試験方法に関するものであって、ＭＥＭＳまたは小型デバイスは、支持体のキャビティ内に収容されている。キャビティは、シール手段によってシールされているとともに、外部媒体の圧力に対して曝された際になるであろう密度とは異なる密度でもってガスを含有している。本発明による方法においては、キャビティ内に含有されているガスの密度を測定する。 （もっと読む）

本発明は、長手方向及び横方向の延長部を有するナノチューブと、ナノチューブの少なくとも第１部分を支持する構造と、その横方向の延長部によって定義されている第１方向においてナノチューブに対して力を作用させる第１手段と、を有するナノチューブ装置（１００）に関するものである。ナノチューブの少なくとも第２部分は、力が一定のレベルを超過した際に、ナノチューブの第２部分がその横方向の延長部の方向において曲がり、これによって第１電気回路を閉じるように、構造の支持部を超えて突出している。好適には、力をナノチューブに対して作用させる第１手段は、電気的な手段であり、この力は、電圧をこの手段に印加することによって生成される。本装置は、ソース及びドレイン電極の両方において量子力学トンネル現象を実現する。
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【課題】 非対称薄膜容量性微小機械加工超音波変換器（ｃＭＵＴ）及びｃＭＵＴ撮像アレイの製作に関する技術を提供する。
【解決手段】 非対称薄膜容量性微細機械加工超音波変換器（ｃＭＵＴ）素子及び製作方法。好ましい実施形態では、本発明によるｃＭＵＴ素子は、一般的に非対称特性を有する薄膜を含む。薄膜は、その端部が異なる幅を有するようにその長さにわたって変動する幅を有することができる。非対称薄膜は、その様々な幅寸法のために様々な撓み特性を有することができる。別の好ましい実施形態では、本発明によるｃＭＵＴ素子は、一般的に非対称特性を有する電極要素を含む。電極要素は、その端部が異なる幅を有するようにその長さにわたって変動する幅を有することができる。非対称電極要素は、その様々な幅寸法のために異なる受信及び送信特性を有することができる。別の好ましい実施形態では、薄膜に沿って位置決めされた質量負荷が、薄膜の質量分布を変更することができる。また、他の実施形態も特許請求して説明する。 （もっと読む）