【課題】反射膜２７の端部において無機絶縁膜２５にクラックが発生するのを抑制することが可能な発光装置を提供する。
【解決手段】素子基板２上に設けられた有機絶縁膜２８４と、有機絶縁膜２８４の表面に形成された反射膜２７と、反射膜２７の表面に無機絶縁膜２５を介して配置された発光素子３とを備え、複数の発光素子３Ｇ，３Ｂ，３Ｒが整列配置されてなる表示装置であって、反射膜２７は、複数の発光素子３Ｇ，３Ｂ，３Ｒと平面視において重なるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 短波長域の光を高強度でかつ継続的にＥＬ発光させることができるＥＬ用蛍光体を提供する。またＡｇをドーピングした本来はＥＬ発光しない蛍光体粉末を用いてもＥＬ発光するＥＬ用蛍光体を提供することを目的とする。
【解決手段】 蛍光体粉末と、該蛍光体粉末の表面の一部に形成された導電性粒子と、該蛍光体粉末及び該導電性粒子を被覆する絶縁層とからなるＥＬ用蛍光体である。特に蛍光体粉末の主成分が、一般式Ｚｎ_{（１−ｘ）}Ａ_ｘＳ：Ａｇ， ＤまたはＺｎ_{（１−ｘ）}Ａ_ｘＳ：Ｃｕ，Ｄ（式中のＡは、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａの群から選ばれる少なくとも１種の２Ａ族元素、Ｄは、３Ｂ族または７Ｂ族元素から選ばれる少なくとも１種、そして混合比率ｘが０≦ｘ＜１である。）である組成物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 Ａｇを付活剤とした場合にも、安定して長時間ＥＬ発光する蛍光体を提供する。
【解決手段】 本発明は、蛍光体粉末と該蛍光体粉末表面の一部に形成された透明導電相とからなるＥＬ用蛍光体であって、蛍光体粉末表面を覆う該透明導電相の占有面積が、蛍光体粉末の表面積の１〜９５％であることを特徴とするＥＬ用蛍光体である。占有面積は、５〜８５％であることがさらに望ましい。蛍光体粉末の最表面には絶縁層が形成されていることが望ましく、絶縁層としては、アルミニウムの酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれか、又はケイ素の酸化物を使用することができる。透明導電相はインジウム・スズ系酸化物（ＩＴＯ）であることが好ましく、さらには、一般式Ｚｎ_１−ｘＲ_ｘＯで表される物質であることが好ましい。一般式中ＲはＩＩＡ族元素であり、ｘは０≦ｘ≦０．５を満たす。 （もっと読む）

【課題】 エレクトロルミネッセンス素子において、輝度を向上させることの可能な新規な構成を提供する。
【解決手段】 絶縁性基板１０上に第１電極２０、第１絶縁層３０、発光中心を含む発光層５０、第２絶縁層６０および第２電極７０が順次積層されてなる画素８０を有し、少なくとも光取り出し側が光学的に透明な材料にて構成されているエレクトロルミネッセンス素子１００において、第１絶縁層３０と発光層５０との間に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの酸化インジウムを含む層４０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】発光型のディスプレイにおける欠点を解消し、発光体からの光の反射率を高めて前面側に向かう割合を増加させると共に、外光等の反射を抑制した背面用基板およびこれを用いて構成されたディスプレイを提供することを課題とする。
【解決手段】基板２上に電極層３、誘電体層４を順に積層し、誘電体層４を構成する第１誘電体層５として表面に凹凸を有する低屈折率層、第２誘電体層として凹凸をならす低屈折率層、第３誘電体層７として高屈折率層とし、以降、低屈折率層と高屈折率層を交互に繰り返すことにより、反射効率を向上させ、第１誘電体層５の表面の凹凸で外光の反射を防止することができた。 （もっと読む）

【課題】低温で金属酸化物膜を製造する方法の提供。
【解決手段】ＡＬＤ法によって基板上に金属酸化物薄膜を製造する方法は、成長基板に約１つを超えない気体金属化合物の単分子層を結合させる工程と、結合した金属化合物を金属酸化物に変換する工程とを含む。結合した金属化合物は、水以外の反応性酸素源蒸気と接触することによって金属酸化物に変換され、基板は成長工程の間１９０℃未満の温度に保たれる。本発明によって、良好な品質の膜を低温で製造することが可能である。高密度構造を有する誘電体薄膜は高温に耐性のない表面をパッシベーションするのに使用することができる。それらの表面は、例えば、集積回路中の有機膜、および有機エレクトロルミネッセンス・ディスプレイや有機太陽電池などにおけるポリマー膜を含む。さらに、水を含まない酸素源を使用するとき、水に感受性のある表面がパッシベーションされる。 （もっと読む）

【課題】 ＥＬ素子において、レーザ光を用いて、第１電極へのダメージを極力抑制しつつ第１電極を取り出せるようにする。
【解決手段】 絶縁性基板であるガラス基板１０上に、第１電極２０、第１絶縁層３０、発光中心を含む発光層４０、第２絶縁層５０および第２電極６０を順次積層し、光取り出し側を光学的に透明な材料にて構成するＥＬ素子１００の製造方法において、第２絶縁層５０を成膜した後に、第２絶縁層５０の上から３３６ｎｍ〜５８７ｎｍの範囲の波長を有するレーザ光を照射することにより、第１電極２０の上の層を除去し第１電極２０を露出させる。 （もっと読む）

【課題】演色性（特に赤色の）に優れた白色発光の分散型ＥＬ素子を得る。
【解決手段】 透明電極と、背面電極と、それら両電極間に挟持された発光粒子層を有する分散型エレクトロルミネッセンス素子において、素子が発光した時のスペクトルを規格化した曲線Ｉ（λ）が、波長４１０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の区間において、 ｇ（λ）≦Ｉ（λ）≦ｆ（λ）を満たすようにする。
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ＡＣ厚膜誘電性エレクトロルミネッセンスデバイスに用いられる輝度及び動作安定性を改善した新規な構造体が提供されている。 この新規な構造体は、酸素との反応に起因する蛍光物質の劣化を防止するために、蛍光膜に接触している窒化アルミニウムのバリア層を有している。 このバリア層は、蛍光膜を蒸着及び焼鈍するために使用される工程と互換性のある真空蒸着工程を使用して蒸着することができる。 本発明は、蛍光膜を形成及び活性化するために高い工程温度にさらされる厚い誘電体層を採用しているエレクトロルミネッセンスディスプレイにおいて使用される蛍光物質に特に好適である。 （もっと読む）

【課題】 発光層をアブレーションが生じないようにアニールし、ＥＬ素子の輝度を向上させる。
【解決手段】 絶縁性基板１１上に第１電極１２、第１絶縁層１３、発光中心を含む発光層１４、第２絶縁層１５及び第２電極１６を順次積層し、少なくとも光取り出し側を光学的に透明な材料にて構成したＥＬ素子の製造方法において、発光層１４を成膜した後、第２絶縁層１５を成膜する前に、４２０ｎｍ以下の波長のレーザーを発光層１４に照射して発光層１４をアニールする。 （もっと読む）