【課題】熱板のカバー（蓋体）の断熱性を確保しつつ、低温領域での熱板の設定温度の変更にも高速で追従することができる加熱処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを載置し加熱する熱板５０と、熱板５０上に載置された基板Ｗを覆い処理室４１を形成する蓋体６０と、蓋体６０の温度を計測する温度センサ１００とを有する。蓋体６０は、上面と下面との間に形成された空間層７４、７５を有し、蓋体６０を冷却するときに、空間層７４、７５に冷却用気体を通流させて、温度センサ１００の出力信号に基づいて、冷却用気体の流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】 載置台と背面プレートを備えるヒータユニットについて、均熱性を維持向上させながら、昇温速度及び降温速度の高速化を図ると共に、そのヒータユニットを搭載することで、高いスループットを達成し得る半導体やフラットディスプレイパネルの製造検査装置を提供する。
【解決手段】 ヒータユニット１０の載置台１１と背面プレート１２の間に高熱伝導シート１４を挿入することにより、熱移動を載置台１１の処理面１１ａと平行方向に広げ、優れた均熱性を確保する。また、載置台１１の厚みを薄くしてヒータユニット１０の熱容量を低減し、冷却ブロック３をヒータユニット１０の背面プレート１２に当接又は分離させて、昇温速度及び降温速度の高速化を図る。 （もっと読む）

【課題】 載置台の内部に収容される作動液の蒸気の流れがよどむことを抑制して、基板面内にわたって均一に熱処理を行うことができる熱処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 載置台１の内部の空間Ａには、作動液が収容されるとともに、中央部に配置される冷却プレートを囲むように４本の棒状ヒータ３が配置されている。加熱時は、各棒状ヒータ３によって発生した蒸気が、載置台１の中心部及び周縁端側に向かって拡がる（矢印を付した２点鎖線で模式的に示す）。このように、蒸気が互いに衝突することなく周縁端まで到達することができ、よどみ点の発生を抑制できる。したがって、載置台１を均一に昇温できるので、基板に対して基板面内にわたって均一に熱処理を行うことができる。また、冷却プレートを載置台１の中央部に配置することにより、載置台１を効率よく冷却することができる。 （もっと読む）

エネルギーを集めるかまたは分散させるためのラジエータ装置。一つの実施形態では、このラジエーターは、熱伝導層、放射層、および断熱層を備える。この放射層は、エネルギー源によりエネルギーを与えられ、そして、熱伝導層の少なくとも一部に埋め込まれた少なくとも一つの放射エレメントを備える。上記断熱層は、熱伝導層に面している。別の実施形態では、上記ラジエーターは、エネルギー源によりエネルギーを与えられる、一般的にらせん状のドーム形状の放射部材およびこの放射部材に面する反射表面を備える一般的にドーム形状の反射部材を備える。さらに別の実施形態では、このラジエーターは、エネルギー源によりエネルギーを与えられる放射部材、および少なくとも部分的に帽子形状もしくは環形状の領域にエネルギーを分散するための、少なくとも一部が環形状の凹反射面を有する反射部材を備える。
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