【課題】本発明は、インクジェット法等の吐出法により有機層を形成する有機ＥＬ素子およびその製造方法であって、表示品質の高い有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、有機ＥＬ層が平坦有機層を有し、隔壁で画定される画素において、上記平坦有機層が平坦部と上記平坦部の周囲に配置された周辺部とを有し、上記画素内の上記平坦有機層の中心部分を含む断面での上記平坦有機層の長さを１としたときに上記平坦部の長さが０．７以上であり、上記画素内の上記平坦有機層の断面形状が上記周辺部にて変曲点を有する形状であることを特徴とする有機ＥＬ素子を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイス、または、光電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】
有機電子デバイスまたは光電子デバイスの製造方法であって、以下の工程を含む。
（ａ）複数のバンクと前記各バンクの間にそれぞれ形成されたウェル構造を有する基板を提供する場合に、前記ウェル構造の表面のぬれ性とは異なる特定のぬれ性を付与できる程度の大きさのインプリント構造を前記バンクの表面が有しており、
（ｂ）前記ウェル構造に有機溶液を蒸着させつつ、前記バンクの上に蒸着されている任意の有機溶液が前記バンクのぬれ性によって少なくとも部分的にはじかれる。 （もっと読む）

【課題】バンクと称せられる高さ寸法の大きな隔壁を形成しなくても、所定の領域内に液状組成物を塗布することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００の製造工程において、有機機能層１２の正孔注入層１２ａを液滴吐出法で形成する際、樹脂層１７の表面に対するプラズマ処理に形成した撥液性領域４によって、正孔注入層１２ａの形成領域を囲んでおく一方、正孔注入層１２ａが上層に形成される画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面を親液性領域３ａとして利用する。 （もっと読む）

【課題】取り出し電極部と配線部材との電気的接続が確実に得られ、かつ生産性に優れた有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】基板上に、少なくとも有機発光材料を含む有機ＥＬ層が一対の電極の間に挟まれた有機ＥＬ素子を有しており、同一基板面上に一方の電極に電気的に接続された取り出し電極部を有する有機ＥＬディスプレイである。前記有機ＥＬ層は塗布法により形成されている。前記取り出し電極部上に、導電性材料からなり、高さが有機ＥＬ層の膜厚より高い凸部が形成されており、前記凸部の少なくとも頂部は有機ＥＬ層から露出していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被成膜面の表面特性を制御することにより液滴吐出法を用いたパターン形成の精度を高めると共に、作製される素子の特性にも影響を与えないパターン形成方法、発光装置の作製方法および発光装置を提供する。
【解決手段】光触媒性を有する導電膜（以下、光触媒性導電膜とよぶ）および絶縁膜を有する基板表面を酸化処理した後、シランカップリング剤処理を行ってシランカップリング剤膜を形成することにより基板表面を撥液化させ、さらに光触媒性導電膜を形成する材料のバンドギャップ以上のエネルギーに相当する波長の光（３９０ｎｍ以下の波長の光）を照射することによって、光触媒性導電膜表面のシランカップリング剤膜のみを分解し、光触媒性導電膜表面のみを親液化することができる。 （もっと読む）

【課題】発光特性のバラツキを抑えることができる電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１は、ガラス基板と、回路素子層と、発光素子層と、陰極とを有する。発光素子層は、画素電極３２上に形成された機能層と、機能層を区画するバンク３４とを有して構成されている。バンク３４は、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とを有する。また、バンク３４は、アスペクト比の異なる形状の発光領域１２と、発光領域１２の短辺側に形成された円弧４４の領域とを有するトラック状に形成されている。円弧４４の領域には、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とが階段状に形成されている。一方、直線４５の領域には、第１下層バンク４１と上層バンク４３とが階段状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】発光特性のバラツキを抑えることができる電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１は、ガラス基板と、回路素子層と、発光素子層と、陰極とを有する。発光素子層は、画素電極３２上に形成された機能層と、機能層を区画するバンク３４とを有して構成されている。バンク３４は、第１層バンク４１と第２層バンクとを有する。更に、バンク３４は、アスペクト比の異なる形状の発光領域１２と、発光領域１２の短辺側に形成された円弧４４の領域とを有するトラック状に形成されている。第２層バンクは、第１部分４２ａと第２部分４２ｂとを有し、第１部分４２ａの撥液性が第２部分４２ｂの撥液性より相対的に低くなっている。第１部分４２ａは、円弧４４の部分を有する。第２部分４２ｂは、直線４５の部分を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、転写法による半導体素子の転写材料およびそれを用いたパターニング方法を提供することにある。さらに、該半導体素子が有機発光素子または無機発光素子である発光素子であって、転写法によるパターニング方法を用いた半導体素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】半導体素子の転写法によるパターニングに用いられる転写材料であって、型基板上にリソグラフィー法によりパターン形成された樹脂層、無機酸化物層および転写層を有することを特徴とする転写材料、パターン膜の形成方法および発光素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塗布法により液状材料を用いて、低コストで且つ簡便に基板上の所定の領域に薄膜をパターン形成する方法及びこの方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体素子及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜形成材料を含む液状材料１６ａを基板１１上に塗布して所定領域に薄膜を形成する方法であって、基板１１を撥液処理して基板１１に撥液性表面Ａを形成する工程と、基板１１の撥液性表面Ａに、この面よりも液状材料１６ａに対して親液性を有する下地層１５をパターン形成する工程と、下地層１５上に液状材料１６ａを塗布し、乾燥させる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】コストアップを招くことなく良質なパターンを形成可能とする。
【解決手段】機能液に対する親液部及び撥液部を有する基板Ｐに機能液を塗布してパターンを形成する。基板Ｐの表面Ｐａを洗浄する洗浄処理、及び基板Ｐの表面Ｐａに機能液に対する親液性を付与して親液部Ｐａを形成する親液化処理を一括して行う第１工程と、第１工程で親液部Ｐａが形成された基板Ｐに対して、撥液材料を含む液滴を選択的に塗布して撥液部Ｈを形成する第２工程と、親液部Ｐａに機能液を塗布する第３工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基材上に成膜されたＳｉＮ層の表面を親水化する方法を提供する。
【解決手段】フッ化炭素等のハロゲン含有化合物を含む処理ガスｆ_Ｇをプラズマ空間２２に通し、ＳｉＮ層１２の表面に接触させるプラズマ処理工程を行なう。次いで、ＳｉＮ層１２の表面を水性の洗浄液ｆ_Ｌからなる液流で洗浄する洗浄工程を行なう。 （もっと読む）

本発明は押印プロセスを用いてパターン層を基板上に形成するための方法に関する。本方法によれば、第1の層が基板に供され、凹部のパターンが、パターニング手段を伴った層を押印することによって、第1の層に供される。この後、第1の層が硬化される。硬化の後に、第1の層を親水性にするために、第1の層上へ第1の表面処理を実施するステップと、この後、サブエリアを疎水性にするために、第1の層の表面の選択されたサブエリア上へ第2の表面処理を実施するステップと、が続く。サブエリアは凹部間の表面部分を含み、凹部そのものは含まない。最後に、導電性のパターン材が凹部に蒸着される。
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【課題】電圧降下を抑えること。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル１は、絶縁基板２と、絶縁基板２上にマトリクス状に配列された駆動トランジスタ２３と、駆動トランジスタ２３のゲート２３ｇとともにパターニングされ、互いに平行となるよう配列された信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと、信号線Ｙ₁〜Ｙ_n及び駆動トランジスタ２３を被覆した保護絶縁膜３２と、駆動トランジスタ２３それぞれのドレイン２３ｄに導通した画素電極２０ａと、画素電極２０ａそれぞれに成膜された有機ＥＬ層２０ｂと、有機ＥＬ層２０ｂを被覆した対向電極２０ｃと、隣り合う画素電極２０ａの間で信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと平行となるよう保護絶縁膜３２上に形成され、保護絶縁膜３２に形成されたコンタクトホール５３を介して駆動トランジスタ２３のソース２３ｓに導通した給電配線９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の視認性を良好にすることを可能とするカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】長辺及び短辺を有する矩形基板と、前記基板上に形成された隔壁と、前記基板の最外周に形成された、前記隔壁に連結する額縁部と、前記隔壁により仕切られた領域に形成された画素とを具備する画素パターンにおいて、少なくとも額縁部に接する端部の画素から３画素以内の画素を除く画素が平坦であることを特徴とする。 （もっと読む）

閉じ込められた第２の層を第１の層上に形成する方法であって：
第１の表面エネルギーおよび第１のガラス転移温度を有する第１の層を形成するステップと；
第１の層上に、第１の層に直接接触するように中間材料を凝縮させて中間層を形成するステップであって、前記中間層が、第１の表面エネルギーよりも低い第２の表面エネルギーを有するステップと；
中間層をパターン化して、第１の層の非被覆領域および第１の層の被覆領域を形成するステップと；
閉じ込められた第２の層を第１の層の非被覆領域上に形成するステップと
を含む方法を提供する。
有機電子デバイスの製造方法も提供する。
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第１、第２、および第３のサブピクセル領域を有する発光ダイオードデバイスの新規な形成方法を提供する。本発明の方法においては、正孔注入層がアノード層上に適用される。この正孔注入材料は伝導性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを有する。正孔輸送層が正孔注入層上に適用される。緑色または赤色のいずれかである第１のエレクトロルミネッセンス材料が第１のサブピクセル領域に適用される。赤色または緑色のいずれかである第２のエレクトロルミネッセンス材料が第２のサブピクセル領域に適用される。正孔阻止層が全面的に適用される。青色エレクトロルミネッセンス材料が全面的に適用され、続いてカソードが堆積される。第２のエレクトロルミネッセンス材料は、第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる色を発する。
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【課題】インクジェット塗布により基板上に形成されたバンク内に精度良く塗布膜を充填させることができる塗布方法およびパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上においてバンクに囲まれた領域にインクジェット方式により塗布液を供給して塗布膜を形成し、その後その塗布膜を軟化させて流動させることにより、該塗布膜をバンクに囲まれた領域に充填させる。 （もっと読む）

【課題】高精細化が可能で、配線部の接続信頼性に優れた発光装置を提供する。
【解決手段】基板と、第１の電極と発光層と第２の電極が基板側からこの順に積層されてなる発光素子と、ｎ型の薄膜トランジスタと、から少なくともなる発光装置であって、該発光素子と該トランジスタとは、該基板に接して並列配置され、該トランジスタのチャネル層の電界効果移動度は、１ｃｍ^２Ｖ^−１ｓ^−１以上であり、かつ、該第２の電極は、前記トランジスタのドレイン電極と接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ライン状の発光素子アレイを、複雑な制御を必要とすることなく均一化且つ簡易に作製することができる製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に発光素子がライン状に形成されたライン状発光素子アレイ１を製造する方法であって、有機ＥＬ材料インク１９を塗布するためのライン状パターンＡを基板１０上に形成するパターン形成工程と、有機ＥＬ材料溶液１９を液注状に吐出可能な吐出口４ａを、ライン状パターンＡに沿って基板１０に対して相対移動させて、吐出口４ａからライン状パターンＡに液注状の有機ＥＬ材料インク１９を連続的に流し込む工程と、ライン状パターンＡに流し込まれた有機ＥＬ材料インク１９を乾燥させて発光層１８を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】インキジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔（ピッチ）との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。
【解決手段】光学素子の画素のそれぞれの内部に複数の吐出位置を定めると共に、これら複数の吐出位置を互いに画素の長手方向に異なる位置に定め、複数のノズルのそれぞれを前記画素の端部から順番に数えた自然数ｎで特定し、この自然数ｎを前記繰り返しの回数ａで除したときの剰余をｂ（ただし、ｂは０≦ｂ≦ａ−１を満たす整数）として、前記複数のノズルのそれぞれに剰余ｂを対応させ、剰余ｂに対応するノズルを吐出する単位工程を繰り返すことにより前記画素を印刷して光学素子を製造する。 （もっと読む）