説明

Fターム[3K107GG24]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 表面処理方法 (710) | 親水化、疎水化 (318)

Fターム[3K107GG24]に分類される特許

141 - 160 / 318


【課題】本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機EL素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成された第1電極層と、上記第1電極層上に形成され、撥液性を有する第1正孔注入輸送層と、上記第1正孔注入輸送層上に形成され、親液性を有する第2正孔注入輸送層と、上記第2正孔注入輸送層側の表面に配置され、上記第2正孔注入輸送層の構成材料が分解された撥液性領域、および、上記撥液性領域以外の領域である親液性領域からなるパターンとを有することを特徴とする有機EL素子用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】親液性および撥液性領域を形成するための層が正孔注入性や正孔輸送性等を有する場合にその正孔注入性や正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能であり、また色むらや電極間の短絡発生を抑制可能な有機EL素子用基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に形成された第1電極層3と、第1電極層上にパターン状に形成され、表面が撥液性を有する樹脂製バンク4と、樹脂製バンクの側部上および開口部内の第1電極層上に形成され、親液性を有する正孔注入輸送層5と、正孔注入輸送層側の表面に配置されたパターンであり、樹脂製バンクの頂部上に配置され、正孔注入輸送層の構成材料が分解された撥液性領域12、および、樹脂製バンクの側部上および樹脂製バンクの開口部上に配置され、撥液性領域以外の領域である親液性領域11からなるパターンとを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機機能層の膜厚ばらつきを低減する。
【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、基板上100Aに第1電極110を形成する工程と、基板100A上に第1電極110の少なくとも一部を露出する開口部121を備えた隔壁膜120を形成する工程と、開口部121の内壁と隔壁膜120の開口部121の周辺とを連続的に覆う絶縁膜130を形成する工程と、隔壁膜120の上面であって、平面視において絶縁膜130と重ならない領域124を液状の有機機能層形成材料に対して絶縁膜130よりも撥液性にする工程と、少なくとも開口部121の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、有機機能層上に第2電極を形成する工程と、をこの順番で有する。有機機能層を形成する工程では、絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して有機機能層を形成する。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子の部分的な輝度を均一にする。
【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置1は、所定の発光領域A1を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子100を備えている。有機エレクトロルミネッセンス素子100は、基板100A上に設けられた第1電極110と、基板100A上に設けられ、発光領域A1が開口されてなる貫通孔121を有する隔壁120と、貫通孔121の内側における第1電極110上に設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料からなる有機発光層143を含んだ有機機能層140と、有機機能層140上に設けられた第2電極150と、を備えている。発光領域A1における有機機能層140の最大膜厚部と第1電極110の形成領域A2とが重ね合わされて配置されているとともに、発光領域A1における有機機能層140の最小膜厚分部と第1電極110の非形成領域A3とが重ね合わされて配置されている。 (もっと読む)


【課題】光ムラを低減し、かつ長寿命とする。
【解決手段】本発明の有機EL素子100は、基板100A上に設けられ発光領域A1が開口されてなる貫通孔121を有する第1隔壁120と、第1隔壁120と基板100Aとの間に設けられた第1電極110と、第1隔壁120と第1電極110との間に設けられた第2隔壁130と、貫通孔121の内側の基板100A上に設けられた有機機能層140と、有機機能層140上に設けられた第2電極150と、を備えている。有機機能層140は、液状の形成材料を固化して形成されている。第1隔壁120が液状の形成材料に対して撥液性を有し、第2隔壁130が親液性を有している。第1電極110の全体、及び第2隔壁130の全体が第1隔壁120と重ね合わされて配置されている。有機機能層140が第1電極110及び第2隔壁130に当接して設けられている。 (もっと読む)


【課題】撥液性バンク材を使用せずに選択塗布を可能とする画素構造を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板54と、基板54に形成された有機平坦化層52と、有機平坦化層52に形成された複数の画素電極26と、少なくとも1つの開口部48を有し、開口部48内に画素電極26の一部が配置され、画素電極26の周縁部を覆うように、画素電極26と有機平坦化層52とに形成された複数の絶縁膜46と、を含み、隣り合う2つの絶縁膜46の間の領域には、画素電極26の下層の有機平坦化層52が露出している。 (もっと読む)


【課題】複雑な製造プロセスの追加を伴うことなくリーク電流や発光ムラの発生を抑制する、表示品位の良好な有機EL表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置10は、各画素領域15を囲むように設けられた撥液性を有する絶縁性のバンク14と、バンク14内に設けられた親液性を有する絶縁性の構造体19と、を備える。 (もっと読む)


【課題】新規の蛍光材料の使用に際して、生産装置の構成変更を行う必要がなく、低コストで色変換膜のパターニングが行える方法を提案することにある。
【解決手段】(a)透明基板上に複数種のカラーフィルタ層を形成する工程と、(b)上記カラーフィルタ層の全面に、無機膜を形成する工程であって、上記無機膜を、色変換層材料に対して親液性を有するSiOxNy(但し、x≧0、y≧0、x,yはともに0でない)から形成する工程と、(c)上記複数種のカラーフィルタ層の境界位置で、上記無機膜上に、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂からなるバンクを形成する工程と、(d)上記無機膜および上記バンクに対して表面処理を施す工程と、(e)上記無機膜上に、インクジェット法を用いて、特定の波長の光を吸収し、吸収した波長と異なる波長を含む光を出力する色変換層を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】有機EL装置の陽極に対してプラズマを照射する工程において、プラズマを安定させ、陽極にダメージを与えないように照射量を制御し、陽極に対して均一にプラズマを照射することができる有機EL装置の製造装置及び有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極と陰極との間に有機層を備える有機エレクトロルミネッセンス装置の前記陽極にプラズマを照射する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置Sであって、プロセスガスが供給される処理室1と、前記処理室1内に配置され、基板202を保持する基板保持部2と、前記プロセスガスをプラズマ状態にして前記基板202に照射するプラズマ発生源4A,4Bと、前記基板202と前記プラズマ発生源4Aとの間に配置され、複数の開口部を有する遮蔽板5とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機EL画素毎に異なる層厚の透明層を、フォトリソグラフィー工程を複数回繰り返すことなく形成する。
【解決手段】基板10上に発光領域19に光反射層21を形成する第2の工程と、光反射層21上に透明樹脂を含む液状材料Cを供給する第3の工程と、液状材料Cを硬化させて、光反射層21上に透明樹脂層79を形成する第4の工程と、透明樹脂層79が形成された基板10上に透明導電層65を形成する第5の工程と、透明導電層65をパターニングして、発光領域19に第1の電極25を形成する第6の工程と、第1の電極25上に発光機能層26を形成する第7の工程と、発光機能層26上に半反射性を有する第2の電極27を形成する第8の工程と、を含むことを特徴とする発光装置1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】液滴吐出法で形成する機能膜の膜厚ムラをより少なくし、これによって表示性能を向上した有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法、及び電子機器とを提供する。
【解決手段】隔壁14の開口部14a内に、第1電極11と少なくとも有機発光層を含む機能層と第2電極とが設けられ、機能層のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子である。開口部の開口形状が、長軸Xと短軸Yとを有してなる長円状に形成されている。隔壁14の、開口部14aにおける短軸Y方向に沿う第1隔壁部141の高さaが、開口部14aにおける長軸X方向に沿う第2隔壁部142の高さbより高く形成されている。 (もっと読む)


【課題】ITOの腐食を抑制して、発光効率および寿命特性に優れた有機EL装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板20上に、第1電極10と、正孔注入層32と、中間保護層41と、発光層30Aと、第2電極50とがこの順序で積層された有機エレクトロルミネッセンス素子が、隔壁層24によって区画されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置1であって、前記中間保護層41が、仕事関数が4.3eVより大きい電子受容性の金属酸化物からなる有機エレクトロルミネッセンス装置1を用いることによって、正孔注入層32を非酸性の溶液から形成することが可能となり、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】吐出ヘッドの継目部分において、既に液状体が吐出された領域と、これから液状体が吐出される領域との間で、液状体から蒸発して形成される溶媒雰囲気に差が生じる。このため、乾燥処理によって形成される発光層の膜厚が、これから液状体が吐出される被吐出領域に偏り、発光ムラとなってしまう。
【解決手段】画素G10,G14に形成され膜厚差が発生している発光層L10,L14が、主として溶解液溜りM4,M5から蒸発する溶媒によって溶解される(図(a))。溶解された発光層L10、発光層L14は、それぞれ機能液K10、機能液K14の状態を呈する(図(b))。この状態で、再乾燥処理を行うと、各画素G10,G14のそれぞれの画素領域において、溶媒雰囲気に偏りがなくほぼ同一になることから、再乾燥処理によって形成される各発光層L10,L14は、それぞれ膜厚に差異が発生することなく形成される(図(c))。 (もっと読む)


【課題】親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを選択的に形成する新規な親液撥液パターンの形成方法、およびその方法を用いる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することである。
【解決手段】親液撥液パターンの形成方法は、第1の部材と、該第1の部材の表面上に設けられ、前記第1の部材の表面にまで達する貫通孔が形成された第2の部材との表面を親液化する第1の親液化工程と、前記第1および第2の部材の表面上に撥液層を形成する撥液層形成工程と、前記撥液層を親液化する第2の親液化工程とを含む。また前記第1の部材と第2の部材とは、互いに異なる材料からなり、前記撥液層は、第2の部材の表面上に形成された部位よりも、第1の部材に形成された部位の方が、第2の親液化工程においてより親液化される材料からなる。 (もっと読む)


【課題】膜欠損を生じさせることなく有機発光層を形成することのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、該製造方法を用いて得られた有機エレクトロルミネッセンス素子、および前記有機エレクトロルミネッセンス素子を含む表示装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、基板上に少なくとも陰極と、陽極と、前記陰極および陽極の間に位置する有機発光層とをそれぞれ積層することで有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、基板の厚み方向の一方から見て画素の形成される画素領域を囲って設置された隔壁内に、有機発光材料を含むインキを塗布することで有機発光層を形成する有機発光層形成工程と、該有機発光層形成工程の前に、基板に対して隔壁の設置された側から、有機溶媒によって表面を処理する表面処理工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡便に、歩留まり良く有機EL装置を製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】長辺または長軸を有する平面形状を有する複数の画素を有し、画素が少なくとも一対の電極と当該電極間に挟まれた有機化合物を含む発光層を含む積層体で形成される有機エレクトロルミネッセンス素子で構成される有機エレクトロルミネッセンス装置を製造するにあたり、積層体を構成する層のうちの少なくとも一層を形成する工程に、塗布工程と乾燥工程とを設け、塗布工程において、層を形成する成分を含むインクを非断続的に連続して吐出し、画素領域および画素領域の長手方向にある隔壁上に非断続的に連続してインクを塗布しながら、画素領域の長手方向に並ぶ複数の画素領域上に線状にインクを塗布し、乾燥工程において、塗布されたインクを乾燥する。 (もっと読む)


【課題】立体的な高さを持つ壁としての枠部を形成しなくて済む表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板12上に画素電極13をマトリクス状に形成し、この透明基板12をシラザン化合物溶液塗布して、ラザン化合物を加水分解重合させ、濡れ性可変層14’を形成する。光触媒膜43を透過した活性光線を囲繞領域19及び画素電極13の配列された範囲を囲繞する領域に照射する。濡れ性可変層14’が親液性領域14a,14cと撥液性領域14b,14dにパターン化される。親液性領域14aに有機化合物含有液を塗布することによって、EL層15を成膜し、次にEL層15上に対向電極16を形成する。その後、対向電極16に水分遮断シート81を接着し、水分遮断シート81の外周部に樹脂を塗布し、樹脂シール82及び水分遮断シート81をガスバリア薄膜83で被覆する。 (もっと読む)


【課題】立体的な高さを持つ壁としての枠部を形成しなくて済む表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板12上に画素電極13をマトリクス状に形成し、この透明基板12をシラザン化合物溶液塗布して、ラザン化合物を加水分解重合させ、濡れ性可変層14’を形成する。光触媒膜43を透過した活性光線を囲繞領域19及び画素電極13の配列された範囲を囲繞する領域に照射する。濡れ性可変層14’が親液性領域14a,14cと撥液性領域14b,14dにパターン化される。親液性領域14aに有機化合物含有液を塗布することによって、EL層15を成膜し、次にEL層15上に対向電極16を形成する。その後、対向電極16に水分遮断シート81を接着し、水分遮断シート81の外周部に樹脂を塗布し、樹脂シール82及び水分遮断シート81をガスバリア薄膜83で被覆する。 (もっと読む)


【課題】 高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】 表示素子の製造装置は、可撓性の長尺基材(FB)の上に表示素子を形成する製造装置(100)である。そしてこの製造装置は、長尺基材を所定方向に搬送する搬送ローラ(RR)と、長尺基材が搬送ローラの外周面に倣う領域を増やす領域増加手段(SR1、SR2)と、長尺基材が搬送ローラの外周面に倣う領域で長尺基材に対して表示素子を構成する材料の液滴を塗布する液摘塗布装置(20)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】画素部の形成とその修正を含めた一連の工程において、薄膜が抜けることなく修正される薄膜製造方法と、その薄膜製造システムを提供する。
【解決手段】カラーフィルタの製造フローには、初期インクジェット工程、修正インクジェット工程およびITO電極膜形成工程がある。初期インクジェット工程11には、インク充填部に親液処理を施す工程S2が含まれ、修正インクジェット工程12には、不良箇所のインク充填部に親液処理を施す工程S7が含まれる。初期インクジェット工程におけるプラズマ処理量は、修正インクジェット工程におけるプラズマ処理量以上に設定される。 (もっと読む)


141 - 160 / 318