【課題】スルフィニルオキシラン化合物、その製造方法、および該スルフィニルオキシラン化合物を出発原料として用いる製造法を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物：


［式（１）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基である］。ならびに、式（４）で表される化合物を、式（５）で表されるヒドロキシペルオキシド金属塩と反応させるスルフィニルオキシランの製造方法：


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【課題】
本発明の課題は、二置換ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の新規な製造方法を提供することを目的とし、また該化合物を用いた触媒反応を提供することも目的としている。
【解決手段】
二置換ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の製造方法であって、
ＳｉもしくはＧｅから選ばれる一種の元素を含む化合物とＷを含む化合物とを、ｐＨ６〜７の条件下で反応させることにより得られる式（１）［β_２−ＸＷ_１１Ｏ_３９］^８−であらわされる一欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物を前駆体として用いて得られた、式（２）［ＸＷ_１０Ｏ_３６］^８−であらわされる二欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物に、３族〜１３族より選ばれる少なくとも一種の元素を導入することを特徴とする二置換ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は無定形、無水結晶形または水和結晶形構造を有するドセタキセルの製造方法に関するものである。本発明によれば、溶媒沈澱法、コロイド形成法などを利用して、高純度無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルを高収率で生産することができる。
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本発明は、ケモカイン受容体活性の調節剤として有用な式（Ｉ）の化合物に関するものである（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｘ、ｍ、ｎおよび点線は本明細書で定義されている）。詳細にはそれら化合物は、ケモカイン受容体ＣＣＲ−２の調節剤として有用である。
【化５０７】

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本発明は、単一の活性化後に複数の脱離基を放出する多重放出スペーサー又はスペーサー系に関する。本発明は、自己脱離多重放出スペーサー又はスペーサー系を介して、同一又は異なる２以上の脱離基（図中ではＬ）に連結された指定子を含む化合物に関し、特に前記指定子の除去又は変換が少なくとも２つの脱離基を放出する化合物に関する。
【化１】

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