【課題】 液化モノスタナン容器からプラズマ生成部へのＳｎＨ₄ ガスの供給流量を一定にし、ＥＵＶ出力を安定化すること。
【解決手段】 配管４に流量計１４を設けて、該流量計１４でプラズマ生成部３へのＳｎＨ₄ ガスの供給流量を計測する。流量計１４の出力信号を制御部１５に入力し、制御部１５によりバルブ１０の開度を調整し、液化モノスタナン容器１に巻かれたガスパイプ９に流すガス８の流量を調整する。液化モノスタナン容器１内で液化ＳｎＨ₄ ２が蒸発するときに気化熱を奪うが、上記構成とすることにより、液化ＳｎＨ₄ ２の温度が調整され、ＳｎＨ₄ ガスのプラズマ生成部３への供給量を一定に制御することができる。また、流量計１４を設ける代わりに、液化モノスタナン容器１のガス圧を検出するガス圧計を設けて、液化モノスタナン容器１内のガス圧を制御して、ＳｎＨ₄ ガスのプラズマ生成部３への供給量を一定にするようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線管が曝射状態でフィードバックループにより管電流の安定化を図る医療用のＸ線管装置において、フィラメント電流を流している待機状態において、曝射状態に切り替えたときに、スムースにフィードバックによる管電流の安定化を図れる技術を提供する。
【解決手段】 切替手段６がＸ線管３を待機状態に設定し、第１のフィードバック制御部がフィラメント電流を検出して所定のフィラメント電流が流れるように制御しているとき、オフセット制御手段９が第２のフィードバック制御部の出力を第１のフィードバック制御部の出力と同じ大きさになるように制御する。その後、Ｘ線管が曝射状態切り替えられたとき、第２フィードバック制御部による管電流の安定化制御は、第１のフィードバック制御部の出力と同じ大きさから開始することができる。 （もっと読む）

【課題】 電子線のスポット径を精密に制御可能なＸ線源を提供することを目的とする。
【解決手段】 このＸ線源は、カソードからの収束電極を経てＸ線発生用のターゲット体に至る電子線を偏向する偏向手段とを備えたＸ線源において、収束電極とターゲット体との間の主管電圧ＶＴとし、カソードと収束電極との間のフォーカス電圧Ｖｋ、偏向手段による電子線偏向量を決定する偏向パラメータＩｃ、及び、電子線の電流Ｉｋを制御する。この制御装置はフォーカス電圧Ｖｋと偏向パラメータＩｃを連動させて制御する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生に基づく放射光をより効率的に取り出すことが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】コイル６Ａ，６Ｂによって、初期プラズマＰ１が生成される以前から、Ｚ軸方向に沿って磁場Ｂｚを印加する。また、磁場調整部７によって、この印加磁場Ｂｚの強度を調整する。プラズマの収縮速度が緩和されると共に、その緩和の度合いが調整可能となる。よって、プラズマの最大収縮持続時間が長くなる度合いも、任意に調整可能となる。 （もっと読む）

【課題】大きな生産高を有し、低減された量の帯域外放射、及び、下流の物体をスパッタする可能性がある高速粒子の低減された量を発生できる放射システムを提供すること。
【解決手段】放射を多重化するための放射システムは２つの放射副線源を含む。副線源は各々特定の量の放射を供給する。システムは反射面を備えた部材をさらに含む。面は、面が副線源からの放射を受光し、かつ、この放射を結合する形で配列されている。放射副線源は同時に、又は、交番して動作することができる。面は濾過又は拡大（縮小）などの機能を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】 撮影ボタンが通常よりも短い間に押された場合でも、フィラメント温度が上がりすぎず、Ｘ線管電流が設定値を越えてしまうことによる撮影像のばらつきを防止するＸ線管装置及びＸ線管の加熱制御方法を提供する。
【解決手段】 予備加熱後の撮影開始タイミングでプリフラッシュを行うことによって、Ｘ線管フィラメントを加熱した後に、本加熱を行うＸ線管制御装置において、前記予備加熱の期間を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に応じて、前記Ｘ線管フィラメントに対して前記プリフラッシュの条件を変更して制御する制御手段とを設けた。 （もっと読む）

【課題】 ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度を高める。
【解決手段】 液滴生成室１００と、該液滴生成室と開口部１０１ａを介して接続されているプラズマ発生室１１０と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル１０２と、ノズルから供給されるターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下するターゲット物質の液滴１０８を生成するピエゾ素子１０３及びピエゾドライバ１０６と、生成されたターゲット物質の液滴１０８ａが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット１０７と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部１１５と、レーザ光を出射するレーザ光源１１１と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴１０８ｂに照射させるレンズ１１２とを含む。 （もっと読む）