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Fターム[4C096CA07]の内容

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Fターム[4C096CA07]に分類される特許

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少なくとも2つの磁石であって、互いに一定間隔を置いて配置され、それら磁石の間にイメージング・ボリュームを取り囲む空間を形成する少なくとも2つの磁石を有する磁石組立体が開示される。これら磁石のそれぞれは、その磁石の、内側を向いた表面全域に様々な磁場強度を生成し、それら磁場強度が組み合わされて、前記イメージング・ボリューム内に許容できるほど均一な磁場を生成する。イメージング・ボリューム用の磁場を決定する方法も開示される。この方法は、磁石組立体の初期モデルを生成することと、そのモデルに基づいて、イメージング・ボリューム用の磁場を見積もることと、その見積もられた磁場とイメージング・ボリューム用の目標磁場との間の偏差を計算することと、組み合わされることで前記目標ボリューム内に前記目標磁場を実質的に生成する様々な磁場強度を生成するように、前記磁石組立体を修正することで前記偏差を小さくするように前記モデルをアップデートすることと、を含んでいる。
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【課題】2T以上の超高磁場においても、磁束の拡散を抑えて、磁束を遠方まで維持可能とし、また、磁束を局部に集中可能とすることのできる新しい技術手段を提供する。
【解決手段】 少なくとも磁束発生源と、磁束発生源より発生される磁束が導入され誘導される内部空間を有する磁束誘導部材とを備え、磁束誘導部材は、超伝導体で構成されると共に、磁束の誘導方向に垂直な内部空間の断面積が前記磁束発生源から離れるに従って漸減する漸減部を有し、かつ、磁束の周りを周回する電流が生じない構成とされていて、磁束発生源により発生された磁束が磁束誘導部材に導入され、漸減部内を誘導されて、漸減部の内部空間断面積の最小部近傍で局所的に収束されることを特徴とする磁束集中化装置とする。 (もっと読む)


【課題】輸送後における磁界強度の低下および磁界均一性の悪化を抑制できる、磁界発生装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】磁界発生装置10は一対の磁極ユニット11a,11bを含む。一対の磁極ユニット11a,11bは板状継鉄12a,12bを含む。一対の板状継鉄12a,12bのそれぞれの対向面側には永久磁石群14a,14bが配置され、永久磁石群14a,14bのそれぞれの対向面側には磁極板16a,16bが固着される。永久磁石群14a,14bは永久磁石18を含む。磁極板16a,16bは、環状突起24と環状突起24の外側面に設けられた漏洩磁束防止用の永久磁石28とを含む。永久磁石18,28は、着磁率が80%以上99.9%以下のR−Fe−B系磁石を含む。製造時には、組み立てられた磁極ユニット11a,11bを40℃以上70℃以下で加温する。 (もっと読む)


【課題】強磁界を得つつも閉塞感を低減できる、磁界発生装置を提供する。
【解決手段】磁界発生装置10は、空隙Gを介して対向配置される一対の磁極ユニット12を備える。一対の磁極ユニット12はそれぞれ、第1永久磁石18、磁極片20、および第2永久磁石22を含む。一対の磁極片20はそれぞれ、外周面20aと、一対の磁極片20間の空隙Gを外側に向けて広げるように形成される斜面20bとを有する。磁極片20の斜面20bは、複数の環状突起片34の斜面34aと、各環状突起片34の外側面に設けられる膨出部材32の斜面32bとによって構成される。また、磁極片20の外周面20aの大部分は、膨出部材32の外側面32aによって構成される。膨出部材32の外側面32aには斜面20bの延長面Eから空隙G側に出ないように第2永久磁石22が設けられる。 (もっと読む)


【課題】MRI装置の磁気回路周辺に発生する渦電流は理想的磁場勾配波形からの逸脱が生じる原因の一つであり、画像歪み,強度損失,ゴースト発生及び信号損失,スペクトル歪みの原因となる。渦電流発生を抑制することが課題である。
【解決手段】鉄あるいはコバルトを含む母相を主とする強磁性を示す粉末の表面の一部あるいは全てに、母相よりも抵抗が10倍以上高くかつビッカース硬度が母相よりも小さい高抵抗層が該表面の一部に沿って層状に形成され、前記粉末を成形した強磁性体を磁気回路の一部に使用していることを特徴とするMRI装置の構成を採る。 (もっと読む)


【課題】 簡単に構成しつつも磁界強度を広い幅で変更でき、所望の磁界強度の磁界を発生させることができる、磁界発生装置を提供する。
【解決手段】 磁界発生装置10は、空隙Gを介して対向配置される一対の磁極片12a,12b、および磁極片12a,12bを保持する継鉄14を含む。継鉄14は、一対の磁極片12a,12bを保持する一対の板状継鉄20a,20bと、一対の板状継鉄20a,20bを磁気的に結合する一対の結合用継鉄22a,22bとを含む。結合用継鉄22aと22bとの間には複数の挿入部30が設けられ、各挿入部30には永久磁石28が挿入される。各挿入部30への永久磁石28の挿入量は、板状部材40に螺挿されるネジ52aおよび板状部材46に螺挿されるネジ52bを回転させることによって変更される。 (もっと読む)


【課題】 傾斜磁場コイルの漏れ磁場に起因する静磁場磁石の振動を抑制する。
【解決手段】 被検体の観測空間に静磁場を発生させる静磁場コイル6,7と磁性体8a,8bとを含む静磁場磁石と、観測空間9に傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイル3,13a、13bとを備え、円環状又は円板状に形成された磁性体8a,8bの少なくとも周縁部に径方向に延びる複数のスリット22,24を形成し、傾斜磁場の漏れ磁場により磁性体に流れる渦電流を低減して、この渦電流と静磁場との電磁力の作用による振動を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 永久磁石を用いて中磁場を形成することが可能なマグネットシステム、および、そのようなマグネットシステムを有するMRI装置を実現する。
【解決手段】 マグネットシステムは、互いに逆極性の磁極が間隔をあけて対向する平行な1対の円板状の永久磁石を有するマグネットシステムであって、1対の永久磁石(210)の磁極面にそれぞれ同軸的に二重に設けられ磁化方向が永久磁石の磁化方向に関して傾き互いに逆極性の磁極が間隔をあけて対向する永久磁石で構成された2つの円環(220,230)の対と、強磁性材料で構成され1対の永久磁石の内部をそれぞれ同軸的に二重に仕切る2つの円筒(212,214)の対とを具備する。 (もっと読む)


【課題】静磁界の均一性を調整する。
【解決手段】静磁界発生用マグネットの永久磁石1M、ヨークYB,YPおよび整磁板Spの少なくとも一つに静磁界調整用ユニット着脱部20を設け、前記静磁界調整用ユニット着脱部20に着脱自在で磁気抵抗値の異なる複数の静磁界調整用ユニット21の中から選択した静磁界調整用ユニット21を前記静磁界調整用ユニット着脱部20に装着することによって静磁界均一性を調整する (もっと読む)


【課題】 磁気共鳴現象を利用して被検体の任意部位の断層像を得るための磁気共鳴イメージング装置に関し、特に傾斜磁場を印加した際に生じる残留磁場による磁場変動がもたらす様々な画質劣化(画像の歪み、信号強度の低下、ゴーストなど)を防止するため、傾斜磁場の同一方向への印加回数に対応した残留磁場補正を行う。
【解決手段】 静磁場を発生する静磁場発生源と、前記静磁場発生源が発生する磁束の経路となる磁気回路部と、傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段と、前記傾斜磁場によって前記磁気回路部の少なくとも一部に発生する残留磁化に基づく残留磁場を補正する補正手段とを有し、前記補正手段は、前記傾斜磁場の同一方向への印加回数に対応して前記残留磁場を補正する。 (もっと読む)


磁気構造と磁極片と患者載置用テーブルとドライブとを備える磁気構造イメージング装置であって、磁気構造は、離間対向して配置される2つの磁極片及び該2つの磁極片を横断するように配されて該2つの磁極片を接続する壁面を備え、磁極片は患者の撮影可能な空間を定める2つの対向する壁面を固定し、該2つの対向する壁面は、鉛直方向平面に略平行であるとともに互いに略平行な平面に沿って延出し、患者載置用テーブルは、前記2つの磁極片の間の支持フレームに摺動可能に接続されるとともに、テーブル支持フレームは、磁極片の2つの対向する壁面の少なくとも一方又は両方に対して垂直な、中心を通る水平軸に沿って回転可能に支持される。ドライブは、軸回りに前記フレームを回転するために提供され、テーブルを備えるフレームは、テーブルが略水平な位置からテーブルが略鉛直な位置へと又はその逆方向に回転可能である。好ましくは、磁気構造の磁極片も、テーブル支持フレームとともにテーブルを横断する同一軸回りに回転可能である。 (もっと読む)


本発明は、磁極板がパルス励起コイルと磁場発生源との間に置かれ、磁極板が複数の磁極板セグメントから構成され、この磁極板セグメントが複数のインターリーブ円弧形状セグメント、円状ワイヤ巻きパターンの傾斜磁場コイル、スポーク形状またはインターリーブ放射形状から構成され、この磁極板セグメントは電気的に絶縁されているか、または導電サークルを形成することなく一点にのみ導電される核磁気共鳴装置に適用可能な磁場発生システムに関する。各磁極板セグメントは、磁極板基部全体にスリットを特定の深さでしかし貫通させずに切ることによって、または軟磁性材料を所望の形状に予め作成し、次にそれらをネジ止め、切りばめ加工または固定のような機械的方法により磁極板基部に固定することによって作成される。電気的絶縁は、磁極板セグメントに絶縁チップを備えることによって、または磁極板セグメントの表面に絶縁層を被覆することによって達成される。
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