【課題】 セメントキルン等において有害物質の排出量及び運転コストの増加を抑制する。 【解決手段】 燃焼排ガスＧ中のダストを集塵する集塵機６と、集塵機６を通過した燃焼排ガスＧ中の水溶性成分及びダストを捕集する湿式集塵機７と、湿式集塵機７を通過した燃焼排ガスＧ中のＮＯｘ及び／またはダイオキシン類を分解して除去する触媒塔１２とを備える燃焼排ガスＧ処理装置。触媒塔１２の前段に、湿式集塵機７から排出された燃焼排ガスＧを加熱する再加熱器１１を設け、集塵機６を通過した燃焼排ガスＧに酸化剤を添加する酸化剤添加装置１０を設け、湿式集塵機７から排出されたスラリーを固液分離する固液分離機１６と、固液分離機１６で分離された液体中の水銀を吸着する水銀吸着塔１７と、触媒塔１２の後段に、触媒塔１２から排出された燃焼排ガスＧを昇温する熱回収器１３とを設けることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】処理対象ガスに窒素が含まれていてもＰＦＣの分解率が高く、ＮＯ_Ｘの生成量が少なく、大気圧下で使用可能な排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスと窒素ガスとからなる排ガスを処理し、排ガス中のＰＦＣを分解する排ガス処理装置であって、処理対象の排ガスに炭化水素や水素、アンモニアなど水素原子を有する添加ガスを供給する添加ガス供給装置、および添加ガスを含んだ排ガスをプラズマ処理するプラズマチャンバーを有する。添加ガス供給装置をプラズマチャンバーの下流に設け、プラズマ処理後の排ガスに添加ガスを供給するように構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 減圧処理室から未反応の原料ガスや反応副生成物ガスを排気するための真空ポンプの安定稼動を保証するとともに、反応副生成物を効率良く回収して資源の有効利用およびランニングコストの低減をはかること。
【解決手段】 この減圧ＣＶＤ装置は、減圧ＣＶＤ法によって銅の成膜を行うための処理室１０と、この処理室１０に原料ガスとして有機銅化合物たとえばＣｕ（I）ｈｆａｃＴＭＶＳを供給するための原料ガス供給部１２と、処理室１０を真空引きして排気するための真空排気部１４とで構成されている。真空排気部１４は、真空ポンプ２６と、その前段および後段にそれぞれ設けられた高温トラップ装置２８および低温トラップ装置３０とで構成されている。高温トラップ装置２８では処理室１０からの排気ガスに含まれている未反応のＣｕ（I）ｈｆａｃＴＭＶＳが分解して金属銅がトラップされ、低温トラップ装置３０では反応副生成物のＣｕ（II）（ｈｆａｃ）2がトラップされる。 （もっと読む）