【課題】 ＰＦＣｓ等を含む大流量の排ガスを確実に且つ効率的に除害できると共に、プラズマジェットの出力を低減することが可能なプラズマ除害機を提供する。
【解決手段】 反応筒１８が二重管で構成されると共に、外管２２のプラズマジェットトーチ１２から最も離間した端部に排ガス導入口２６が設けられ、内管２４のプラズマジェットトーチ１２に最も近接した端部に排ガス送給口２８が設けられているので、反応筒１８が対向流式の熱交換器として機能し、プラズマジェットＰに送給する排ガスＦを十分に予熱できると共に、熱分解後の高温の処理済排ガスＦを冷却することができる。このため、プラズマジェットの出力を低減できると共に、大流量の排ガスを確実に且つ効率的に熱分解して除害することができ、更に熱分解後の処理済排ガスＦの冷却負担を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 各種の製造工程から排出される排ガス中のフッ素系ガスを、水に溶解しやすいフッ化水素などのハロゲン化水素へ分解して除去できる排ガスの処理方法を提供すること。特に、わずかでも臭気や毒性が問題になるF₂ガス、三フッ化塩素などのフッ化ハロゲン、二フッ化酸素などの酸素フッ化物を、完全に除去できる排ガスの処理方法を提供すること。
【解決手段】 F₂ガス、フッ化ハロゲン、酸素フッ化物、及びこれらの混合ガスからなるフッ素系ガスを含む排ガスに、水及び/ 又は水蒸気を該排ガス中のフッ素系ガス量の５０倍（体積比）以上供給し、該排ガスと該水及び/ 又は水蒸気とを３００〜４００℃で反応させ、水に吸収しやすいハロゲン化水素と酸素とに分解する。 （もっと読む）

【課題】 気液の混合攪拌能率の向上による高均質化、高性能化、省エネルギー化、省スペース化、メンテナンスフリーを達成し、大型化の容易な高効率の散気処理装置を提供する。
【解決手段】 散気処理装置１５は、長手方向を実質的に垂直にして配置された第１の静止型混合器９を内設した流体が通流する筒状の通路管８と通路管８の下端側に気体を通路管８内に気送ライン１１を介して噴出供給する気体噴出部１２を配置し、気体噴出部１２に第２の静止型混合器１３を配設し、気体噴出部１２から気体を供給し、エアリフト効果により、通路管８の下端側の液体導入部１４から液体を通路管８内に導入し、気体および液体は静止型混合器９内で微細化されて並流で上昇しながら、両者は連続的に気液接触し、通路管８の上端側から液体中に排出される。 （もっと読む）

【課題】エネルギー状態の高いプラズマを低電力で発生させることが可能なプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】電圧を印加することによりプラズマを発生することのできる少なくとも一組の陽極としての単位電極２及び陰極としての単位電極３を備えたプラズマ発生電極であって、陽極としての単位電極２及び陰極としての単位電極３が互いに対向配置されており、少なくとも陽極としての単位電極２が、板状のセラミック誘電体５と、セラミック誘電体５の内部に配設された導電膜６とを有するとともに、陰極としての単位電極３が、プラズマ発生過程に生じた陽イオン（一次粒子）が衝突した際に、受け取る陽イオンの数に対して５倍以上の数の二次電子を放出することが可能なプラズマ発生電極１。 （もっと読む）

【課題】 各場所に発生するハロゲン化有機化合物の効率的で、コストを削減した処理システムで処理することを目的とする。
【解決手段】 ハロゲン化有機化合物を分解可能な装置を移動手段を備えた車両に搭載し、各回収手段に移動させて分解処理を行う。 （もっと読む）

【課題】寿命を大幅に延長することができ、且つ、洗浄・冷却水スプレー装置の着脱が容易な排ガス洗浄冷却塔を提供する。
【解決手段】排ガス洗浄冷却塔１は、排ガス入口部４に隣接して、塔本体２の内壁１０の円周方向に複数の噴射ノズル１０１備えた旋回流形成スプレー装置１００を有し、噴射ノズル１０１により、塔本体上部の内壁の円周方向に沿って洗浄・冷却水を噴射し、内壁１０の円周方向に沿って旋回する環状の洗浄・冷却水から成る噴射流を形成し、噴射流を塔本体２の内壁面１０に沿って下方へと流動させて螺旋状の濡れ壁を形成する。 （もっと読む）

【課題】 充填層に対する洗浄等の定期的なメンテナンス作業を、工数少なく、容易かつ短時間に、また、低コストに実施することができるようにする。
【解決手段】 スクラバー本体１内に配備され、気液接触用充填材２ａを投入してなる充填層２を、スクラバー本体１内から各別に外部に取出し可能かつ各別にスクラバー本体１内に差入れ可能な大きさに分割された複数個のカートリッジ１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｂから構成している。
（もっと読む）

【課題】 本発明は、アンモニア水の一部がヘッダー内に液状となって溜まり、それが脱硝反応塔内に入り、脱硝触媒に掛かり脱硝触媒を損傷することを防止すべく、ヘッダー内のドレンを排出可能な脱硝装置及び脱硝方法、また、エゼクターのヘッダーに溜まるドレンを排出可能な、エゼクタードレン排出装置を提案する。
【解決手段】 脱硝反応塔（２）の排ガス流路（２ａ）に、脱硝触媒（３）とアンモニア噴霧装置（４）とを具えた脱硝装置（１）において、前記アンモニア噴霧装置（４）は、蒸気圧によりアンモニア水を引込み口（５ａ）に引込んで吐出するエゼクター（５）と、エゼクター（５）の吐出口に連通するヘッダー（６）と、ヘッダー（６）より分岐して前記排ガス流路（２ａ）にアンモニア水を噴霧する噴霧ノズル（７）と、前記ヘッダー（６）の下部と前記エゼクター（５）の引込み口（５ａ）とに連通するドレン管（８）とを設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により低エネルギーで二酸化炭素を還元する、乾式電気分解による二酸化炭素分解装置および分解方法を提供すること。
【解決手段】二酸化炭素を含む気体が存在する反応槽１１内に配置される陽陰の電極１２と、前記電極間に電圧を印加する電圧発生装置１３と、前記気体中の二酸化炭素濃度を調整する二酸化炭素濃度調整手段１４を備えたことを特徴とする二酸化炭素分解装置。二酸化炭素濃度を調整した雰囲気に、酸化されやすい金属からなる陰極と陽極を設置し、電極間に高電界を与えることで、陰極の金属の酸化反応により、二酸化炭素を還元し、もってより少ないエネルギーで二酸化炭素の分解を実現する。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極１は、一対の電極５のうちの少なくとも一方の電極５ａが、誘電体となる板状のセラミック体２と、セラミック体２の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔４が所定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜３とを有し、少なくとも一の導電膜３ａに形成された貫通孔４ａの配列パターンが、他の導電膜３ｂに形成された貫通孔４ｂの配列パターンとは異なるように構成され、一対の電極５間に電圧を印加することにより、導電膜３の異なる貫通孔４の配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能であることから、異なる状態のプラズマを同時に発生させることができる。
（もっと読む）

【課題】 半導体製造工程から排出される有害ガスを、燃料を燃焼して得られる燃焼排ガスまたは火炎により熱分解して浄化する浄化装置において、大型あるいは複雑な構成を用いることなく、処理対象有害ガスの分解率の低下、及び分解室壁面における粉化物の堆積を抑制することができ、長時間にわたり安全で安定して浄化できる浄化装置を提供する。
【解決手段】 熱分解室の側面を通気性及び断熱性を有する壁とし、側面壁の外周に酸素含有ガス流路を設けるとともに、該流路に酸素含有ガスを旋回可能な方向に導入できる構成を備えた浄化装置とする。 （もっと読む）

【課題】被処理ガスの湿度環境に関係なく均一で高密度の電界形成が可能で、被処理ガスの流通時における圧力損失が少なく、処理効率が高いガス処理装置等を提供する。
【解決手段】ガス処理装置１は、誘電物質で覆われた金属電極で構成された電極対を構成する接地側電極４ａ，４ｂ，４ｃおよび高圧側電極５ａ，５ｂと、各接地側電極と各高圧側電極との間に備えられた誘電体部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと、上記電極対および誘電体部材が内部に設置されるプラズマ処理室１ｂとを有している。電極対４ａ，４ｂ，４ｃ，５ａ，５ｂの少なくとも一方の電極と誘電体部材との間に空隙１５が形成されている。誘電体部材６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、被処理ガスの実質的全量が誘電体部材内を誘電体部材に対して垂直な方向に流通するように、プラズマ処理室１ｂ内に配置されている。 （もっと読む）

【課題】耐熱衝撃性に優れ、互いに対向する単位電極相互間の距離を小さくして、低い投入エネルギーで安定した高い電界強度のプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】互いに対向する二つ以上の単位電極２を備えたプラズマ発生電極であって、単位電極２が、板状の主電極３と、主電極３の少なくとも一方の表面に配設された一つ以上の支持部材５と、主電極３の表面から所定の隙間Ａを空けた状態で、支持部材５によって主電極３と略平行に支持された一つ以上の板状の副電極４とを有し、主電極３が、少なくとも主セラミック誘電体６と主導電膜７とから構成されるとともに、副電極４が、少なくとも副セラミック誘電体８と副導電膜９とから構成され、一の単位電極２の主電極３と副電極４との隙間に対向する他の単位電極２の副電極４が配設されたプラズマ発生電極。 （もっと読む）

【課題】 優れた脱臭機能を有し、単独で、且、目立たない施工が可能であり、さらに施工作業を効率的に行うことができるとともに、維持管理コストを低減することができる浄化設備を提供する。
【解決手段】 本発明に係る浄化設備は、浄化槽２と、脱臭装置１とを含む。浄化槽２は、排気口２３を有し、地中に埋設されている。脱臭装置１は、通気管１０と、充填材１５とを有し、地中に埋設されている。通気管１０は、多孔質であり、一端１０１が浄化槽２の排気口２３に接続されている。充填材１５は、粒状である。通気管１０は、地中に埋設されており、周囲に充填材１５が配置されている。 （もっと読む）

【課題】 熱処理炉から排気される排ガスを安定して消臭消煙処理することの出来る、新規な構造の消臭消煙装置を提供すること。
【解決手段】 貯水タンク１２，１４に貯留された処理水１６の水位を外部から確認可能とする水位表示手段１８を設けると共に、処理水循環用管体４６と該処理水に磁気を作用せしめる磁気手段、及び装着該貯水タンク１２、１４の上部空間３２を外部に連通するガス排出管体６０を通じて、該上部空間３２に負圧を作用せしめるガス吸引手段６２を設けた。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で粉体発生による目詰まりがなく、複数の水素化物ガスを含む混合ガスを完全に除去して無害化することが可能な水素物ガスの除去方法及び除去装置を提供する。
【解決手段】少なくとも２種以上の水素化物ガスを含有する混合ガスをニッケルフッ化物及びニッケルと接触させて分解または／及び吸着させることにより、水素化物ガスを除去することを特徴とする。また、周期律表第III族元素または第V族元素の水素化物ガスをニッケルと接触させて分解または／及び吸着させることにより、該水素化物ガスを除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 噴射して供給される燃料若しくは還元剤を気化させること及び／又は反応性が高い燃料若しくは還元剤を提供することができる燃料又は還元剤添加装置、直憤式内燃機関、排ガス浄化装置を提供する。
【解決手段】 液体の燃料又は還元剤を噴射する噴射ノズル１２と、噴射ノズルから噴射される燃料又は還元剤の少なくとも一部が吸着する多孔質材料２２と、多孔質材料に吸着した燃料又は還元剤をプラズマ化するプラズマ化装置２５とを有する燃料又は還元剤添加装置とする。またこの燃料又は還元剤添加装置を有する直憤式内燃機関、及び排ガス浄化装置とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体排ガスの除害の際に薬液タンク内に堆積する粉塵を容易に除去することが可能な排ガス除害装置を提供する。
【解決手段】 入口スクラバ40と、薬液タンク60と、排ガス分解処理室Rにて分解した排ガスFを排出する排気筒62が接続された排ガス処理塔20と、分解ガス送給配管69を介して排気筒62に接続された出口スクラバ50とを備えた排ガス除害装置10において、薬液タンク60には、内部に貯蔵する薬液Wの液面Lより低い位置に天井面65が配置された段部Dが形成されると共に、ストレートに垂下した排気筒62が段部Dを介して薬液タンク60の内部に連通するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 最近の省エネルギー政策の推進に適合する半導体製造装置の排ガス除害装置を開発することをその課題とする。
【解決手段】 複数のチャンバ(1a)(1b)(1c)を有する半導体製造装置(2)に接続され、チャンバ(1a)(1b)(1c)から排出された排ガス(F)を加熱分解処理する排ガス処理塔(20)を備えた半導体製造装置(2)の排ガス除害装置(10)であって、個別配管(6a)(6b)(6c)を介して前記チャンバ(1a)(1b)(1c)に接続され、複数の円筒状発熱体(30a)(30b)(30c)が処理塔本体(21)内に並立配置されていることを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】 粉塵の捕集と水溶性成分の除去性能を低下させることなく、入口スクラバ本体に粉塵の堆積が発生しないという半導体製造装置の排ガス除害装置の開発をその課題とする。
【解決手段】
(a) 半導体製造装置(2)のチャンバ(1)に接続され、該チャンバ(1)から排出された排ガス(F)を洗浄する入口スクラバ(40)と、
(b) 入口スクラバ(40)にて洗浄された排ガス(F)を加熱分解処理する排ガス処理塔(20)と、
(c) 入口スクラバ(40)と排ガス処理塔(20)とが立設されている薬液タンク(60)とを備えた半導体製造装置(2)の排ガス除害装置(10)であって、
(d) 入口スクラバ(40)の排ガス通路(42)が直管状に形成されており、
(e) 薬液タンク(60)内の排ガス通路(42)に散水ノズル(68)が設置されていることを特徴とする。 （もっと読む）