【課題】加飾シートの耐薬品性及び三次元成形性と、プライマー層の転写性とを鼎立し得る加飾シートの製造方法、加飾シート及びそれを用いてなる加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】剥離フィルム１１上にプライマー層１２を形成する工程（ａ）と、少なくとも該プライマー層を基材１４上に転写する工程（ｂ）と、該剥離フィルムを剥がす工程（ｃ）と、該基材上に形成された該プライマー層上に電離放射線硬化性樹脂組成物を積層する工程と、該電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して表面保護層１５を形成する工程（ｄ）とを含む加飾シート１０の製造方法であって、さらに該プライマー層が、少なくともアクリルポリオール及びイソシアネートを含有するプライマー組成物を用いて形成されてなることを特徴とする加飾シートの製造方法、及び前記製造方法により形成されてなることを特徴とする加飾シート、並びに該加飾シートを用いてなる加飾樹脂成形品。 （もっと読む）

【課題】少ない工数で実用性を備えた高品質の漆製品を製造しうる漆芸法と、それにより得られた漆芸品を提供する。
【解決手段】本工程が、下地処理工程と本工程とからなり、本工程が、下地材１に上塗漆を数回塗り重ねて上漆層２を作る上漆塗り工程Ｉと、上漆層２表面に、油に溶けず水に溶ける被覆液を塗布して被覆液層３作る被覆工程IIと、被覆液層３および上漆層２に彫り込むように線彫をして彫り溝４を作る線彫り工程IIIと、色漆を彫り溝４に埋める色埋め工程IVと、水で被覆液を溶かし洗い流す洗い流し工程Ｖとからなる。本工程が５工程であって、従来工法より少ない工数で漆製品が得られる。被覆工程IIでは、油に溶けず水に溶ける被覆液を用いるが、油に溶けない性質があることによって上塗りや色埋めした漆が変質せず、漆塗りの品質が高く維持される。 （もっと読む）

本発明は、水分散性アクリル重合体粒子、水酸基含有樹脂及び硬化剤を含有する水性塗料組成物であって、該水分散性アクリル重合体粒子が１，１００，０００以上の重量平均分子量を有し且つ１，４−ジオキサン溶媒中の質量濃度が１．３５％の分散液の状態での分光光度計による波長３３０ｎｍにおける吸光度の値が０．２以下である、塗面平滑性等の仕上り性に優れ且つ耐チッピング性、耐水性などの塗膜性能にも優れた水性塗料組成物を提供する。 （もっと読む）

製造方法およびシステムは、少なくとも１つの塗装領域（６）と、少なくとも１つの非塗装領域（７）とを有する部分的にコーティングされた製品（５）を製造する。手段（１）は、非塗装とする各領域について、当該非塗装とする領域をカバーするカバー層と、それらの間にあって、製品の外表面から分離された分離層（９）を含む製品のデジタル表現を提供する。生成装置（２）は、デジタル表現に基づく制御により、カバーおよび分離層を含む製品を製造するように構成されている。手段（３）は、カバー層を含む製品をコーティングする。最後に、除去手段（４）は、非塗装とする領域から、カバーと、必要に応じて分離層を、コーティングとともに除去するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】修正剤の保持量を増大させ得る欠陥修正装置用の塗布針を提供する。
【解決手段】塗布針１は、その先端部表面に凸状部４を有する。凸状部４は、塗布針を構成する軸状素材１’とは非接触に設けられたノズル１１から供給されたインク１２の微小液滴の集合体を硬化させることによって形成される。 （もっと読む）

【課題】既存のリソグラフィ−技術よりも小さい寸法を有した様々な形状のパターンが形成できるようにする。
【解決手段】ガイドパターン７０２が形成された中性層８０１上に、例えば２種類のブロック鎖Ａ及びブロック鎖Ｂから構成されたブロック共重合体（ジブロック共重合体）よりなるブロック共重合体薄膜７０３を形成する。中性層８０１は、表面自由エネルギーが、用いるブロック共重合体の各ブロック鎖の表面自由エネルギ−の範囲内に存在する材料から構成する。また、ブロック鎖Ｂは、ガイドパターン７０２の表面への親和性が高く、ブロック共重合体薄膜７０３をミクロ相分離させた場合、ブロック鎖Ｂが選択的にガイドパターン７０２の表面に接触するものとする。 （もっと読む）

本発明は、支持体を用意し、前記支持体の一方の側に多色マスクを塗布し、該支持体の他方の側に、可視光によって硬化可能な層を塗布し、そして該光硬化性層を該マスクを通して可視光で露光することにより、露光された部分において、硬化されたパターンを形成するように、光によって硬化可能な層を硬化させることを含んで成る積層透明構造体を形成する方法に関する。
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【課題】有機物に使用可能である実用的な微細化パターンの形成技術が求められていた。
【解決手段】試料を含む溶液に電圧を印加して静電噴霧するエレクトロスプレイ手段と、エレクトロスプレイ手段から静電噴霧される溶液中の試料が堆積されるべきチップ(26)を支持する支持手段(30)と、エレクトロスプレイ手段と前記支持手段との間に配置され、前記チップ上に前記試料のマイクロパターンを形成するために前記溶液を通過させるマスクパターン部を持つ微細マスク手段(24)であって、前記マスクパターン部は前記支持手段側に凹凸が形成されているフォトレジスト剤からなるものである、微細マスク手段とを具えるマイクロパターン形成装置を提供する。 （もっと読む）