【課題】 機能性膜のパターンを形成する際、線幅や形状などについて精度よく形成可能なパターン形成方法、および機能性膜を提供すること。
【解決手段】 機能性膜の形成に先立って、設計パターンを副領域に分割し、当該副領域の境界線を描くように第１の液状体を配置し、中間乾燥工程を経て、線状膜３８ｂ，３８ｃ，３８ｄを形成する。次いで、副領域を描くように第２の液状体を配置して、第２の液状体のパターン３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄを形成し、本乾燥工程を経て、一体化された機能性膜が完成する。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリクスの開口部の面積分布の影響を考慮して着色条件を正確に補正することにより、着色むらのないカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】１枚の基板における複数のブラックマトリクスの開口部の面積を測定或いは推定し、その結果に基づいて各開口部の着色条件を決定し、該着色条件に基づいてインクジェットヘッドより各開口部にインクを付与して着色する。 （もっと読む）

【課題】 パターンの精度と形状に優れ、かつ耐熱性、光透過性に優れた光導波路パターンを形成することができる樹脂組成物及び簡便かつ低コストでパターン精度及び形状に優れた微細パターンが形成できるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】分子内に炭素-炭素不飽和結合及びケイ素‐水素結合を有するシリコンポリマーを含有するパターン形成用樹脂組成物及び該樹脂組成物を基板上に塗布して塗布面を形成する工程と、該塗布面に対し、所定の形状で形成されたスタンパマスクを押圧しスタンピング成型する工程を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 機能性膜のパターンを形成する際、線幅や形状などについて精度よく形成可能なパターン形成方法、および機能性膜を提供すること。
【解決手段】 機能性膜の形成に先立って、設計パターンを副領域に分割し、且つ、当該複数の副領域を互いに隣接しない複数のグループに分類する。まず、第１のグループについて描画、乾燥を行って配線膜３８ａ，３８ｂ，３８ｄを形成した後、第２のグループについて描画を行い、液状体のパターン３３ｃ，３３ｅ，３３ｆ，３３ｇを形成する。その後乾燥工程を経て、一体化された機能性膜が完成する。 （もっと読む）

基板に物質を転写する方法が、アプリケータの表面上に物質を選択的に堆積するステップと、該アプリケータの表面を該基板に接触させるステップとを含む。物質は、アプリケータの表面上でパターンを成すことができる。パターンは、物質が基板に転写されるときに保たれる。物質は、インクジェット印刷によってアプリケータ上に塗布することができる。 （もっと読む）

フレキシブル基板の明確に分離している領域を、同時にコーティングされる2層以上の分離した層を有するコーティング組成物で連続ロール・トゥー・ロール(roll to roll)方式によってコーティングする方法。当該方法は、基板上に疎液性又は親液性表面パターンを形成し、疎液性又は親液性領域の所望パターンをそのまま残す、パターン形成工程、及び、形成された表面パターンをコーティング組成物の層でさらにコーティングし、前記コーティング組成物の層を、疎液性領域から除去し、かつ親液性領域に集め、前記コーティング組成物の最底部層の表面張力は、その上にある層の表面張力よりも大きくなる、コーティング工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 回転するベルト表面に当接するクリーニングブレードのブレードエッジに作用する剪断力を低下させること。
【解決手段】互いに離隔して且つ並行に配置された駆動ロールおよび従動ロールを有する複数のベルト支持ロールＲｄ，Ｒｆにより回転可能に支持されたエンドレスのベルトＴＢは、ベルト基材ＴＢ1と前記ベルト基材ＴＢ1の表面に形成された表面層ＴＢ2との２層構造の前記ベルトＴＢと、前記表面層ＴＢ2の回転方向のグロス値がα１とα２であり且つα１＜α２である場合に画像記録動作時のベルトの回転方向の下流側に前記α２側が配置される。ベルト表面に付着したトナーを除去するクリーニングブレード３のブレードエッジ３aは、画像記録動作時のベルトの回転方向の下流側から前記ベルトに当接する。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性および反射防止層との密着性の高いレンズの製造方法およびポットライフの長い塗布液を提供する。
【解決手段】 レンズ基材の上にハードコート層を塗布した後に、有機系の反射防止膜を湿式で成膜したレンズを製造する際に、ハードコート層を塗布するために用いられる塗布液を金属酸化物微粒子およびシラン化合物を含む第１の成分に、シラン化合物の加水分解基数の１．５から４．５倍の分子数の水を含む第２の成分を加えて調合する。この範囲の水を過剰に加えて調合された塗布液によるハードコート層に、湿式法により有機系の反射防止膜を重ねて成膜することができ、十分な耐擦傷性を備えたレンズを製造できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、スリットコート法を用いて均一な溶液膜を得ることができ、確実にペリクル膜を成膜することのできる大型ペリクルの成膜方法を提案するものである。
【解決手段】 記課題を解決するために、本発明に係る大型ペリクルの成膜方法は、少なくとも１辺が５００ｍｍ以上の鏡面研磨されたガラス基板上にスリットコーターを用いて成膜する成膜方法において、ダイのスリット幅を２０μｍ以上１４０μｍ以下として塗布を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空プロセスを経ることなく低コストで、曲面又は傾斜面を有する基材の表面に均一な膜厚の反射防止膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】 霧化した塗布液を曲面又は傾斜面を有する基材に付着させることにより基材上に均一の厚さの反射防止膜を形成する方法において、塗布液に界面活性剤を配合することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、（Ａ）式（Ｉ）-NR-C(0)-N-(X-SiR"x(OR')3-x)n(X'-SiR"y(OR')3-y)m［式中、Ｒは、水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基又はＮＲａ基により中断されていてもよく、その際、Ｒａは、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、Ｒ′は、水素、アルキルまたはシクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、その際、炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基またはＮＲａ基により中断されていてもよく、Ｘ、Ｘ′は、２〜２０個の炭素原子を有する線状および／または分枝鎖状のアルキレンまたはシクロアルキレン基であり、Ｒ″は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接していない酸素基、硫黄基またはＮＲａ基により中断されていてもよく、ｎは、０〜２であり、ｍは、０〜２であり、ｍ＋ｎは、２であり、ならびにｘ、ｙは、０〜２である］の少なくとも１つの反応性の基を有する化合物（Ａ１）少なくとも１種を、被覆剤中の不揮発性物質の含有量に対して少なくとも５０質量％、（Ｂ）−Ｓｉ（ＯＲ′）３−ｘ（ｙ）単位の架橋のための触媒、および（Ｃ）非プロトン性溶剤または非プロトン性溶剤の混合物を含有する被覆剤に関する。 （もっと読む）

【課題】 供給流路を効率的に洗浄することが可能な供給システム、および効率的な供給流路の洗浄方法、並びに効率的な供給流路内の液体の置換方法を提供すること。
【解決手段】 気密容器７１に洗浄液を収容し、気密容器７１内にコンプレッサ７２から圧縮空気を送って、内部空間７７内を加圧する。加圧された内部空間７７の空気および洗浄液８６は、共通管７８、接続部７９を介して、結合部３８、供給管１８ａなどの供給流路に供給される。送気バルブ８４、送液バルブ８５の開閉制御と吸引ポンプ２３の駆動とを連動して行うことにより、供給流路内に充填されているインクないし洗浄液の排出と、供給流路内への洗浄液の充填が効率よく行われる。 （もっと読む）

【課題】液漏れやパーティクルなどの発生を抑制する。
【解決手段】レジスト液を送液するレジスト用ポンプ６１に、筐体６１０、第１ピストン６１１、第１駆動機構６１２、第２ピストン６１３、および第２駆動機構６１４を設ける。筐体６１０と第２ピストン６１３とを摺接させるとともに、第１ピストン６１１と第２ピストン６１３とを摺接させる。基板にレジスト液を塗布する際には、第１駆動機構６１２によって第１ピストン６１１のみ（＋Ｚ）方向に進出させて、ピストンが筐体６１０に摺動することがないようにする。レジスト液を置換する際には、第１ピストン６１１のみならず、第２駆動機構６１４によって第２ピストン６１３を（＋Ｚ）方向に移動させて、レジスト液を完全に排出する。 （もっと読む）

【課題】塗布ローラの数を減らし、その塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを基板に転写して良好な複合パターンをする小型の形成装置を得る。
【解決手段】基少なくとも一つの塗布ローラ２０を少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラ２０のローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給部３からパターン構成色の塗布液を塗布ローラ２０に供給し、塗布ローラ２０を、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに押圧して、塗布ローラ２０からネガパターンにして塗布液を転写除去し、転写除去された塗布ローラ２０を基板５０に押圧して、塗布ローラ２０の塗布液によるパターンを基板５０に転写する。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトクロミック表層部を有する光学基板において、発色濃度の低下を生じることなく、フォトクロミック化合物の酸化劣化を有効に防止して、フォトクロミック耐久性の高いフォトクロミック製品を提供すること。
【解決手段】 上記光学基板のフォトクロミック表層部を、３６０ｎｍの光線透過率が５０％以上であり、且つ３２０ｎｍの光線透過率が１０％以下である、厚さが０．１〜１００μｍである紫外線吸収膜により被覆する。 （もっと読む）

【課題】 熱可塑性樹脂フィルムにおける波しわ外観を最小限及び／又は完全に抑制する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 塗工フィルム（１３６）の製造方法は、ベースフィルム（１１４）の第１面（１１６）をコーティング材料（１２４）で被覆して塗工フィルム（１３６）を形成することを含むが、ベースフィルム（１１４）はカレンダー法で形成され、カレンダー加工の際に所定時間において第１面（１１６）が第１ロール（１０４）と物理的に接触する表面積が第２面（１１８）が第２ロール（１０６）と物理的に接触する表面積よりも小さく、塗工フィルム（１３６）は非塗工の第２面を有する。 （もっと読む）

【課題】吐出口と基板との距離を正確に制御可能であるとともに、ノズルの作製が容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１では、処理対象となる基板と垂直な方向における位置である垂直位置を測定するリニアゲージ８１，８２が、処理対象の基板に処理液を吐出するスリットノズル４１の吐出口４１ｃおよび測定部位Ｐ，Ｐ’の垂直位置を測定し、当該垂直位置の測定結果を利用して、スリットノズル４１を基板と垂直な方向へ移動させる昇降機構４３，４４によるスリットノズル４１の昇降制御が行われる。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルの状態を最適化して、塗布ムラを抑制する。
【解決手段】スリットノズル４１において、第１リップ４１０の第１リップ面４１０ａを第２リップ４１１の第２リップ面４１１ａより段差Ｄだけ低い位置に配置する。本塗布処理におけるスリットノズル４１の走査方向（（＋Ｘ）方向）とは逆方向（（−Ｘ）方向）にスリットノズル４１を走査させつつ、予備塗布部材であるローラ７１にレジスト液を塗布して予備塗布処理を行う。予備塗布処理により正常化されたスリットノズル４１を（＋Ｘ）方向に走査しつつ、基板９０にレジスト液を塗布して本塗布処理を行う。 （もっと読む）

【課題】塗布ローラが基板にパターンを転写した後の膨潤した部分から溶剤を飛ばす時間を確保しつつ、溶剤を飛ばす時間を待つことなく塗布液の供給が行えるようにし、膨潤が進んだブランケットによるパターンの形成を防止して良好なパターンを得るとともに、複合パターンの形成に係る時間を短くする。
【解決手段】塗布ローラ２０の一パターン形成における動作サイクルを、塗布液供給手段３からローラ周面の一部に塗布液の供給を受ける塗布液供給工程と、塗布液供給工程の後に、塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに押圧して、ローラ周面からネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、転写除去工程の後に、基板５０に押圧してローラ周面の塗布液によるパターンを転写する転写工程とからなるものとし、塗布液供給手段３からの塗布液を受ける塗布ローラ２０における前動作サイクルでの塗布液受け領域と次動作サイクルでの塗布液受け領域とを互いに重ならない非オーバーラップ状態にした。 （もっと読む）

【課題】パターン構成色が異なる複数のパターンを塗布ローラに形成するための除去版を小型のものとし、その除去版を用いて塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを、基材での基準に対する位置合わせ容易に転写して、良好な複合パターンを得る。
【解決手段】基板５０に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラ２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを介して転写して、パターン形状が同一のパターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを基板５０に形成するに際し、パターン形状を同一にするパターン構成色の塗布液が塗布された複数の塗布ローラ２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを順次押圧する第一の塗布液除去版４１と、前記組み合わせ部分以外のパターンのパターン構成色の塗布液が塗布された塗布ローラ２ＢＭを押圧する第二の塗布液除去版４２とを一つの胴体の周面に配し、前記塗布液除去版４１、４２による塗布ローラ２ＢＭ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂの塗布液に対する転写除去で、各塗布ローラにパターンを形成する。 （もっと読む）