【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、オゾンを含有する雰囲気で紫外線を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット（ＡＣＴ）４０では、ステージ８０の上に基板Ｇを載置して、レジスト液供給機構８６およびノズル移動機構８８を動作させると、長尺ノズル８２の塗布走査により基板Ｇ上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜１００が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 （もっと読む）

【課題】レンズを変形することなくかつ脱落することもないような適正な保持力で保持できるレンズ保持用治具を提供する。
【解決手段】レンズ基材２の外周部を挟持することによってレンズ基材２を略垂直に保持する第１〜第３のアーム３〜５を備える。これらのアームの上端部を支持する保持具本体６を備える。保持具本体６は、前記複数のアームのうち少なくとも一つのアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に対して接離する方向に揺動自在に支持する支持部材７を備える。保持具本体６は、前記揺動可能なアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に接近する方向に付勢するばね部材（捩りコイルばね２１）と、このばね部材のばね力を調整する調整機構２７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】安定して高い疎水性を確保できる疎水化処理方法及び疎水化処理装置を提供すること。
【解決手段】 処理容器内にて、ウエハＷに、ＨＭＤＳガスを供給し、前記ウエハの表面に−Ｏ（ＣＨ_３）_３よりなる疎水基を生成する疎水化処理において、前記疎水化を促進させる反応促進剤として水蒸気をウエハＷに供給する工程と、前記処理容器内に搬入されたウエハＷを加熱する工程と、加熱されたウエハＷの表面に前記水蒸気が吸着している状態で、当該ウエハＷの表面に前記ＨＭＤガスを供給する工程と、を実施する。前記水蒸気により、ＨＭＤＳ疎水化処理ガスのケイ素と、基板表面の酸素との反応が促進され、安定して高い疎水性が得られる。 （もっと読む）

【課題】金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切且つ効率よく形成する。
【解決手段】金属膜形成システム１は、ウェハＷを搬入出する搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に前処理液を塗布し、ウェハＷ上に下地膜を形成する前処理ステーション３と、下地膜が形成されたウェハＷ上に金属混合液を塗布し、ウェハＷ上に金属膜を形成する主処理ステーション４と、搬入出ステーション２と前処理ステーション３とを接続する第１のロードロックユニット１０と、前処理ステーション３と主処理ステーション４とを接続する第２のロードロックユニット１３とを有している。前処理ステーション３、主処理ステーション４、第１のロードロックユニット１０及び第２のロードロックユニット１３は、それぞれ内部を不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り替え可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】レンズを充分にかつ正しい色で染色する。
【解決手段】プラスチックレンズを被染色面が露出する状態で搬送する搬送装置１５と、前記被染色面と対向する位置に配設されて被染色面に濡れ性が向上する改質処理を施す改質装置（コロナ放電処理装置２１）とを備える。前記改質装置より搬送装置１５の搬送経路の下流側であって前記被染色面と対向する位置に配設され、前記被染色面に染料の粒子を飛ばして付着させる染料噴出装置（インクジェット装置２２）とを備えた。 （もっと読む）

【課題】生産効率を向上させる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワーク５に液滴を吐出する前にワーク５に前処理を施す前処理部２０と、液滴を吐出可能に取り付けられた液滴吐出ヘッドを備え、液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して液滴をワーク５に塗布する液滴吐出部３０と、液滴が吐出されたワーク５に後処理を施す後処理部５０と、ワーク５の平面を水平に保持可能なワーク保持部７７を有する搬送部７０と、を有し、前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とが搬送部７０のワーク保持部７７の移動範囲内において順に配置され、搬送部７０のワーク保持部７７がワーク５を保持した状態で前処理部２０と、液滴吐出部３０と、後処理部５０とを順次移動可能である。 （もっと読む）

【課題】画像記録装置及びその方法を提供すること。
【解決手段】記録媒体を搬送方向に搬送する搬送部Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３と、搬送部により搬送される記録媒体に対してインクを吐き出して記録を行う記録ヘッド１０５と、搬送部中に記録ヘッドよりも搬送方向に対して上流側に設けられ、前処理液を記録媒体のサイズに応じて記録媒体の搬送方向に対して直交方向に分割している所定の分割塗布範囲に供給する塗布部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板に帯電防止処理を行う装置において、継続して使用しても静電気の帯電防止効率を低下させず、パーティクルを発生させない。
【解決手段】帯電防止装置２４には、ガラス基板Ｇの裏面に紫外線を照射する照射部１２０が設けられている。ガス供給部１１０とガス排出部１１１は照射部１２０を挟んで配置されている。ガス供給部１１０へ酸素含有ガスを供給するガス供給経路Ｍと、ガス排出部１１１からガスを排出するガス排出経路Ｎとの間には、戻し経路Ｒが接続されている。ガス排出経路Ｎを流れるガスは、その一部が戻し経路Ｒを流れて、ガス供給経路Ｍに戻される。ガス排出経路Ｎに排出されるガスのオゾン濃度は、オゾンモニター１２４によって測定され、その結果に基づいて、制御部１２５は、戻し経路Ｒに設けられたファン１２１の回転数を制御する。 （もっと読む）

【課題】密着強化処理装置において、密着強化処理後、密着強化剤が処理装置内に残存して処理装置外に漏洩するのを防止する。
【解決手段】液晶表示パネル等基板の密着強化処理を行なう密着強化処理装置が、基板５を保持する昇降可能な載置台４と、載置台４と合体して、載置台４上に保持された基板５の密着強化処理空間Ｓを画成する凹部６ａを有する蓋体６と、載置台４を昇降させる昇降手段７と、密着強化処理空間Ｓに密着強化剤のガス及び不活性ガスを交互に供給可能なガス供給手段８と、載置台４の下方に載置台４の周囲を取り囲むようにして設けられ、多数のガス吸引細孔を有する排気ダクトを有するガス排出手段と、昇降手段７が載置台４を下降させて、載置台４と蓋体６との合体を解いている間、ガス排出手段が排気ダクト内を吸引、排気するようにガス排出手段を制御する制御手段１４とを備えている。 （もっと読む）