この出願の発明の微細加工方法は、熱によりガラス相転移を示しかつ熱収縮性を有する被加工プラスチック材料にパルスレーザー光を照射して、前記被加工プラスチック材料の表面もしくは内部にレーザー加工パターンを形成した後に、前記被加工プラスチック材料に対し、ガラス転移温度Ｔｇ以上の温度で加熱処理を行い、形成されたパターンを熱収縮により微細化することを特徴とする。 （もっと読む）

物理特性の制御、放射線吸収、および材料表面でのナノスコピックなガラス層のインサイチュ形成のために金属化されたおよび金属化されていないナノスコピックなケイ素含有試薬を用いる方法。ポリマー、金属、複合材料、セラミックス、ガラスおよび生物材料との設計可能な適合性のために、ナノスコピックなケイ素含有試薬は直接混合プロセスによりナノメートルレベルで材料に容易かつ選択的に組み込むことができる。改善される特性は、ガスおよび液体バリア、ステイン耐性、環境劣化に対する耐性、放射線吸収、接着、印刷性、時間依存の機械的および熱的特性たとえば加熱歪、クリーピング、圧縮変形、収縮、弾力性、硬さおよび磨耗耐性、電気的および熱的伝導性、および耐火性を含む。これらの材料は、飲料および食品パッケージング、宇宙生存材料、マイクロエレクトロニックパッケージング、および放射線吸収性塗料およびコーティングを含む多くの用途に有用に用いられる。 （もっと読む）

本発明の方法において、プラスチック物品(例えば、熱可塑性ポリカーボネートの成形品)の表面の少なくとも一部を、一以上の性能添加剤を含む処理用組成物と接触させる(例えば、その中に浸漬させる)。処理用組成物は、(ｉ)少なくとも一つの性能添加剤(例えば、紫外線吸収剤)、(ii)水、(iii)以下の一般式Ｉ〔式中、Ｒ^１は、直鎖状または分枝状Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、ベンジル、ベンゾイルおよびフェニルからなる群から選択される基であり、Ｒ^２は、直鎖状または分枝状Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、ベンジル、ベンゾイル、フェニルおよびＨからなる群から選択される基であり、ｎは、２、３または４であり、およびｍは、１〜３５である〕で示される少なくとも一つの担体、および(iv)直鎖状または分枝状Ｃ_２〜Ｃ_２０脂肪族ジオール、ポリ(Ｃ_２〜Ｃ_４アルキレングリコール)、環中に５〜８個の炭素原子を有する脂環族ジオール、単環式芳香族ジオール、ビスフェノールおよび水素化ビスフェノールの少なくとも一つから選択されるジオールを含有する。本発明の一実施態様において、担体はエチレングリコールモノブチルエーテルであり、ジオールはジエチレングリコールである。
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本発明は、無機又は有機の基材に強く付着している金属コーティングを製造する方法であって、（ａ）無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し；（ｂ）無機又は有機の基材に、１種類以上の光開始剤、又は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは／及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し；（ｃ）ステップ（ｂ）の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ（ｂ）の層に電磁波を照射し；そして（ｄ）光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシート及びクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 クリーニング層が、電石（エレクトレット）化された物質からなる、又は／及びクリーニング層の表面電位が、０．１〜１０ＫＶの範囲であるクリーニングシートである。 （もっと読む）

【課題】 この出願発明は、反応速度を速くすることにより、ポリマー成型体の表面改質に要する時間を短くできるポリマー成型体の表面改質方法及び表面改質装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 この出願発明は、ガス状及び／又は霧状の反応剤が存在する状態で、ポリマー成型体の両面に対して、フリーラジカル発生エネルギーを照射するポリマー成型体の表面改質方法及びその装置に関する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）ポリマー基体、ｂ）前記ポリマー基体と混合された難燃剤及びｃ）前記基体に付着した部分酸化プラズマ重合された有機ケイ素層を含んでなる耐点火性ポリマー複合体である。この耐点火性複合体は、同一の結果を達成するために基体に通常組み入れられる難燃剤より実質的により低い濃度を用いて、ＵＬ−９４燃焼試験においてＶ−Ｏ等級を容易に達成することができる。従って、本発明は環境的に問題のある物質のレベルを減少させる難燃剤を含む基体の一体性を維持するというニーズに応えるものである。 （もっと読む）